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公开(公告)号:TW202030314A
公开(公告)日:2020-08-16
申请号:TW108134837
申请日:2019-09-26
申请人: 德商馬克專利公司 , MERCK PATENT GMBH
发明人: 安棋 馬丁 , ENGEL, MARTIN , 侯梅爾 賽巴斯汀 , HOFMEYER, SEBASTIAN , 馬頓 克里斯多夫 , MARTEN, CHRISTOPH , 里耶佐 拉斯 , LIETZAU, LARS
IPC分类号: C09K19/34 , G02F1/1362 , G02F1/137
摘要: 本發明係關於液晶介質,其包含一或多種式IA化合物, 其中出現之基團具有技術方案1中所指示之含義, 且係關於其在主動矩陣顯示器、特別地在VA、IPS、U-IPS、FFS、UB-FFS、SA-VA、SA-FFS、PS-VA、PS-OCB、PS-IPS、PS-FFS、PS-UB-FFS、PS-posi-VA、PS-TN、聚合物穩定SA-VA或聚合物穩定SA-FFS顯示器中之用途。
简体摘要: 本发明系关于液晶介质,其包含一或多种式IA化合物, 其中出现之基团具有技术方案1中所指示之含义, 且系关于其在主动矩阵显示器、特别地在VA、IPS、U-IPS、FFS、UB-FFS、SA-VA、SA-FFS、PS-VA、PS-OCB、PS-IPS、PS-FFS、PS-UB-FFS、PS-posi-VA、PS-TN、聚合物稳定SA-VA或聚合物稳定SA-FFS显示器中之用途。
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公开(公告)号:TWI701826B
公开(公告)日:2020-08-11
申请号:TW105100313
申请日:2016-01-06
申请人: 德商馬克專利公司 , MERCK PATENT GMBH
发明人: 克區 皮爾 , KIRSCH, PEER , 童瓊 , TONG, QIONG , 羅爾 安卓雅斯 , RUHL, ANDREAS , 托橈 馬克 , TORNOW, MARC , 布拉 亞齊尤 , BORA, ACHYUT
IPC分类号: H01L27/24
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公开(公告)号:TWI699589B
公开(公告)日:2020-07-21
申请号:TW105103593
申请日:2016-02-03
申请人: 德商馬克專利公司 , MERCK PATENT GMBH
发明人: 鈴木成嘉 , SUZUKI, MASAYOSHI , 岸本匡史 , KISHIMOTO, TADASHI
IPC分类号: G02F1/1335 , H01L33/44
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公开(公告)号:TWI696599B
公开(公告)日:2020-06-21
申请号:TW105108821
申请日:2016-03-22
申请人: 德商麥克專利有限公司 , MERCK PATENT GMBH
发明人: 伯克哈特 彼特 , BURKHART, BEATE , 海爾 荷葛 , HEIL, HOLGER , 羅瑞蓋茲 雷拉依沙貝爾 , RODRIGUEZ, LARA-ISABEL , 梅爾 賽巴斯汀 , MEYER, SEBASTIAN , 達熙 艾曼達 , DARSY, AMANDINE , 凌吉 盧分 , LINGE, ROUVEN
IPC分类号: C07C13/62 , C07C13/72 , C07D207/323 , C07D209/44 , C07D307/36 , C07D333/08 , H05B33/14 , C09K11/06 , H01L51/50
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公开(公告)号:TWI694065B
公开(公告)日:2020-05-21
申请号:TW104141300
申请日:2015-12-09
申请人: 德商麥克專利有限公司 , MERCK PATENT GMBH
发明人: 帕姆 安瑪 , PARHAM, AMIR HOSSAIN , 史托希爾 菲利普 , STOESSEL, PHILIPP , 普夫路姆 克里斯多夫 , PFLUMM, CHRISTOF , 傑許 安佳 , JATSCH, ANJA , 凱瑟 喬琴 , KAISER, JOACHIM , 愛特 埃瓦爾 , AYDT, EWALD , 喬斯汀 多明尼克 , JOOSTEN, DOMINIK
IPC分类号: C07D221/20 , C07D401/14 , C07D405/04 , C07C211/61 , C07D319/18 , C07D251/24 , C07D209/82 , C09K11/06 , H01B1/12 , H01L51/00 , H01L51/50 , H05B33/12
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公开(公告)号:TWI689506B
公开(公告)日:2020-04-01
申请号:TW104113707
申请日:2015-04-29
申请人: 德商麥克專利有限公司 , MERCK PATENT GMBH
发明人: 帕姆 安瑪 , PARHAM, AMIR HOSSAIN , 葛羅斯曼 托拜亞斯 , GROSSMANN, TOBIAS , 傑許 安佳 , JATSCH, ANJA , 艾伯利 湯馬士 , EBERLE, THOMAS , 克洛伯 喬納斯 , KROEBER, JONAS VALENTIN , 普夫路姆 克里斯多夫 , PFLUMM, CHRISTOF , 多貝曼瑪拉 拉斯 , DOBELMANN-MARA, LARS
IPC分类号: C07D405/14 , C07D409/14 , C07D471/04 , C07D487/04 , C07D491/048 , C09K11/06 , H01L51/00 , A61N5/06
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公开(公告)号:TWI687505B
公开(公告)日:2020-03-11
申请号:TW107138886
申请日:2013-02-21
申请人: 德商馬克專利公司 , MERCK PATENT GMBH
发明人: 鄭知苑 , JEONG, JI-WON , 尹容國 , YUN, YONG-KUK , 宋東美 , SONG, DONG-MEE , 李靖旻 , LEE, JUNG-MIN
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公开(公告)号:TWI686463B
公开(公告)日:2020-03-01
申请号:TW105138701
申请日:2011-11-25
申请人: 馬克專利公司 , MERCK PATENT GMBH
发明人: 賀奇曼 哈拉德 , HIRSCHMANN, HARALD , 威提克 麥可 , WITTEK, MICHAEL , 喀山塔 馬可斯 , CZANTA, MARKUS , 舒勒 布萊吉特 , SCHULER, BRIGITTE , 瑞芬拉斯 佛克 , REIFFENRATH, VOLKER
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公开(公告)号:TWI685560B
公开(公告)日:2020-02-21
申请号:TW103144393
申请日:2014-12-18
申请人: 德商馬克專利公司 , MERCK PATENT GMBH
发明人: 強吉 麥克 , JUNGE, MICHAEL , 拜耳 安德列斯 , BEYER, ANDREAS , 帕渥 俄索拉 , PATWAL, URSULA , 克區 皮爾 , KIRSCH, PEER , 貝克 蘇珊 , BECK, SUSANN
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公开(公告)号:TW202004893A
公开(公告)日:2020-01-16
申请号:TW108118479
申请日:2019-05-29
发明人: 吉田幸史 , YOSHIDA, YUKIFUMI , 奧谷学 , OKUTANI, MANABU , 安田周一 , YASUDA, SHUICHI , 金松泰範 , KANEMATSU, YASUNORI , 上田大 , UEDA, DAI , 張松 , ZHANG, SONG , 長原達郎 , NAGAHARA, TATSURO , 絹田貴史 , KINUTA, TAKAFUMI
IPC分类号: H01L21/306 , B08B3/04
摘要: 本發明之基板處理方法包含:處理液供給步驟,其係對具有存在凹凸之圖案面之基板之上述圖案面供給處理液;處理膜形成步驟,其係使供給至上述圖案面之上述處理液固化或硬化,以追隨該圖案面之凹凸之方式形成保持上述圖案面上存在之去除對象物之處理膜;及去除步驟,其係對上述圖案面供給剝離液,將上述去除對象物與上述處理膜一併自上述圖案面剝離,邊維持上述去除對象物被上述處理膜保持之狀態邊將上述處理膜自上述基板去除。
简体摘要: 本发明之基板处理方法包含:处理液供给步骤,其系对具有存在凹凸之图案面之基板之上述图案面供给处理液;处理膜形成步骤,其系使供给至上述图案面之上述处理液固化或硬化,以追随该图案面之凹凸之方式形成保持上述图案面上存在之去除对象物之处理膜;及去除步骤,其系对上述图案面供给剥离液,将上述去除对象物与上述处理膜一并自上述图案面剥离,边维持上述去除对象物被上述处理膜保持之状态边将上述处理膜自上述基板去除。
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