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公开(公告)号:TWI696087B
公开(公告)日:2020-06-11
申请号:TW107126008
申请日:2018-07-27
发明人: 梁德容 , LIANG, DE-RON , 楊青翰 , YANG, CHING-HAN , 張欽圳 , CHANG, CHIN-CHUN
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公开(公告)号:TW202018252A
公开(公告)日:2020-05-16
申请号:TW107140113
申请日:2018-11-12
发明人: 李朱育 , LEE, JU-YI , 葉宏易 , YEH, HONG-YIH , 徐英凱 , HSU, YING-KAI , 韋安琪 , WEI, AN-CHI
摘要: 本發明提供一種觸覺感測器,其提供機器人之手指具有類似人類手掌之觸覺,藉由本發明提供機器人可精巧靈活抓取物體,亦或是提供可一種使用於生物醫學和機械人之觸覺感測;其為一種間接光學觸覺感測器,包括一感測件、一單光束光源、一影像擷取裝置和一光柵板,該單光束光源照射該光柵板,由該光柵板上之光柵和光柵的陰影產生數個疊紋,藉著該影像擷取裝置擷取一疊紋影像,通過一瞬時移相結構,使本發明之觸覺感測器無需使用任何機械相移裝置即可檢測物件。
简体摘要: 本发明提供一种触觉传感器,其提供机器人之手指具有类似人类手掌之触觉,借由本发明提供机器人可精巧灵活抓取物体,亦或是提供可一种使用于生物医学和机器人之触觉传感;其为一种间接光学触觉传感器,包括一传感件、一单光束光源、一影像截取设备和一光栅板,该单光束光源照射该光栅板,由该光栅板上之光栅和光栅的阴影产生数个叠纹,借着该影像截取设备截取一叠纹影像,通过一瞬时移相结构,使本发明之触觉传感器无需使用任何机械相移设备即可检测对象。
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公开(公告)号:TWI693290B
公开(公告)日:2020-05-11
申请号:TW108143091
申请日:2019-11-27
发明人: 鄭憲清 , JANG, SHIAN-CHING , 蔡佩樺 , TSAI, PEI-HUA , 廖俞欽 , LIAO, YU-CHIN
IPC分类号: C22C14/00
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公开(公告)号:TW202008198A
公开(公告)日:2020-02-16
申请号:TW107126008
申请日:2018-07-27
发明人: 梁德容 , LIANG, DE-RON , 楊青翰 , YANG, CHING-HAN , 張欽圳 , CHANG, CHIN-CHUN
摘要: 本發明提供一種穿戴式裝置及其駕駛者之認證方法。穿戴式裝置係供駕駛者之手配戴,而此穿戴式裝置包括感測裝置、儲存器及處理器。感測裝置取得感測訊號。儲存器記錄感測訊號、以及數個模組。處理器耦接感測裝置及儲存器,並存取且載入儲存器所記錄的那些模組 。而那些模組包括感測訊號擷取模組及分析判斷模組。感測訊號擷取模組取得感測訊號以偵測駕駛者的運動狀態。而分析判斷模組依據此運動狀態判斷駕駛者是否符合合法駕駛者,並能將不符合情況通知給合法駕駛者。藉此,提供簡單又方便的安全認證機制。
简体摘要: 本发明提供一种穿戴式设备及其驾驶者之认证方法。穿戴式设备系供驾驶者之手配戴,而此穿戴式设备包括传感设备、存储器及处理器。传感设备取得传感信号。存储器记录传感信号、以及数个模块。处理器耦接传感设备及存储器,并存取且加载存储器所记录的那些模块 。而那些模块包括传感信号截取模块及分析判断模块。传感信号截取模块取得传感信号以侦测驾驶者的运动状态。而分析判断模块依据此运动状态判断驾驶者是否符合合法驾驶者,并能将不符合情况通知给合法驾驶者。借此,提供简单又方便的安全认证机制。
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公开(公告)号:TW201947748A
公开(公告)日:2019-12-16
申请号:TW107115246
申请日:2018-05-04
发明人: 許晉瑋 , SHI, JIN-WEI
IPC分类号: H01L27/14
摘要: 一種凸台狀累增光偵測器元件,為新穎之砷化銦鋁累增崩潰光二極體結構,係採取陰極(累增層在底部)電極在下之磊晶層結構,讓累增層電場最強之區域包覆在元件內部底層以避免表面擊穿,本發明主要增厚i-本質層,僅使用一層光吸收層,並於N型歐姆接觸層下方加入DBR反射層,其材料可為InGaAsP/InP或InAlGaAs/InAlAs,至少5對以上,且使用第二帶溝漸變層蝕刻出一凸台形狀,透過此單一凸台結構即可使累增層中間的電場高,而其邊緣電場低,以達到累增層電場侷限之效果,且除了累增層會碰到崩潰使電場特別高之外,所有層的電場都會遠低於崩潰。藉此,本發明透過光吸收層的p型參雜把二次電洞變成二次電子,利用電子跑的比較快之特性,所以可以讓載子的速度變得更快,可以用比較厚的空乏區以降低接面電容與增加元件面積,而能具備快的響應速度並有效提升靈敏度。
简体摘要: 一种凸台状累增光侦测器组件,为新颖之砷化铟铝累增崩溃光二极管结构,系采取阴极(累增层在底部)电极在下之磊晶层结构,让累增层电场最强之区域包覆在组件内部底层以避免表面击穿,本发明主要增厚i-本质层,仅使用一层光吸收层,并于N型欧姆接触层下方加入DBR反射层,其材料可为InGaAsP/InP或InAlGaAs/InAlAs,至少5对以上,且使用第二带沟渐变层蚀刻出一凸台形状,透过此单一凸台结构即可使累增层中间的电场高,而其边缘电场低,以达到累增层电场局限之效果,且除了累增层会碰到崩溃使电场特别高之外,所有层的电场都会远低于崩溃。借此,本发明透过光吸收层的p型参杂把二次电洞变成二次电子,利用电子跑的比较快之特性,所以可以让载子的速度变得更快,可以用比较厚的空乏区以降低接面电容与增加组件面积,而能具备快的响应速度并有效提升灵敏度。
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公开(公告)号:TWM581203U
公开(公告)日:2019-07-21
申请号:TW108201784
申请日:2019-02-01
发明人: 陳建志 , CHEN, CHIEN CHIH
IPC分类号: G01V3/00
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公开(公告)号:TWI664718B
公开(公告)日:2019-07-01
申请号:TW107115246
申请日:2018-05-04
发明人: 許晉瑋 , SHI, JIN-WEI
IPC分类号: H01L27/14
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公开(公告)号:TWI650574B
公开(公告)日:2019-02-11
申请号:TW107106532
申请日:2018-02-27
发明人: 鐘志忠 , CHUNG, CHIH-CHUNG , 簡煒烽 , CHIEN, WEI-FENG
IPC分类号: G01V3/30 , G01F23/284
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公开(公告)号:TWI640354B
公开(公告)日:2018-11-11
申请号:TW107103708
申请日:2018-02-01
发明人: 蕭述三 , HSIAU, SHU-SAN , 陳一順 , CHEN, YI-SHUN , 王柏鈞 , WANG, BO-JUN , 張家維 , CHANG, CHIA-WEI , 張立群 , CHANG, LI-CHUN
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