相移式光罩之清洗製程
    3.
    发明专利
    相移式光罩之清洗製程 失效
    相移式光罩之清洗制程

    公开(公告)号:TW508642B

    公开(公告)日:2002-11-01

    申请号:TW090126319

    申请日:2001-10-24

    IPC: H01L

    Abstract: 一種相移式光罩之清洗製程,係在原本的光罩清洗製程中,加入預清洗步驟,其目的在除去原本安置光罩護膜所塗佈的高分子膠,防止因高分子的殘留所造成的光罩損壞現象。一般相移式光罩之正常清洗步驟係例如將光罩依序浸泡硫酸與過氧化氫溶液(Sulfuric Acid-Hydrogen Peroxide Mixture;SPM)、以及氫氧化銨與過氧化氫之水溶液(Ammonium Hydrogen Peroxide Mixture;APM;亦稱 SC1),並在其間利用超純水(D.I.Water)加以清洗,而達到去除光罩上污損物質的目的。此清洗製程係先在正常清洗步驟中,先依序加以SC1溶液與超純水的清洗後,再進行正常清洗步驟,如此可去除相移式光罩上原有裝置光罩護膜的有機膠殘留。

    Abstract in simplified Chinese: 一种相移式光罩之清洗制程,系在原本的光罩清洗制程中,加入预清洗步骤,其目的在除去原本安置光罩护膜所涂布的高分子胶,防止因高分子的残留所造成的光罩损坏现象。一般相移式光罩之正常清洗步骤系例如将光罩依序浸泡硫酸与过氧化氢溶液(Sulfuric Acid-Hydrogen Peroxide Mixture;SPM)、以及氢氧化铵与过氧化氢之水溶液(Ammonium Hydrogen Peroxide Mixture;APM;亦称 SC1),并在其间利用超纯水(D.I.Water)加以清洗,而达到去除光罩上污损物质的目的。此清洗制程系先在正常清洗步骤中,先依序加以SC1溶液与超纯水的清洗后,再进行正常清洗步骤,如此可去除相移式光罩上原有设备光罩护膜的有机胶残留。

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