公开(公告)号：TW201624107A

公开(公告)日：2016-07-01

申请号：TW103145403

申请日：2014-12-25

Applicant: 台灣積體電路製造股份有限公司 ,  TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.

Inventor： 陳煜仁 ,  CHEN, YU JEN ,  曾信富 ,  TSENG, HSIN FU ,  徐享乾 ,  HSU, HSIANG CHIEN

IPC: G03F1/82 ,  B08B11/00 ,  B08B7/00

Abstract: 本實施例提供一種光罩清潔設備，用以清潔一光罩，上述光罩包括一基板以及與上述基板相互間隔之一保護膜。上述光罩清潔設備包括一超音波裝置，用以產生一超音波至上述保護膜，藉以使附著於上述保護膜之一內表面上之一內污染物掉落至上述基板。

Abstract in simplified Chinese: 本实施例提供一种光罩清洁设备，用以清洁一光罩，上述光罩包括一基板以及与上述基板相互间隔之一保护膜。上述光罩清洁设备包括一超音波设备，用以产生一超音波至上述保护膜，借以使附着于上述保护膜之一内表面上之一内污染物掉落至上述基板。

公开(公告)号：TWI576657B

公开(公告)日：2017-04-01

申请号：TW103145403

申请日：2014-12-25

Applicant: 台灣積體電路製造股份有限公司 ,  TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.

Inventor： 陳煜仁 ,  CHEN, YU JEN ,  曾信富 ,  TSENG, HSIN FU ,  徐享乾 ,  HSU, HSIANG CHIEN

IPC: G03F1/82 ,  B08B11/00 ,  B08B7/00