公开(公告)号：TWI545457B

公开(公告)日：2016-08-11

申请号：TW103146030

申请日：2014-12-29

Applicant: 台灣積體電路製造股份有限公司 ,  TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.

Inventor： 何建霖 ,  HO, CHIEN LIN ,  徐金廠 ,  HSU, CHIN CHANG ,  林宏隆 ,  LIN, HUNG LUNG ,  楊穩儒 ,  YANG, WEN JU ,  鄭儀侃 ,  CHENG, YI KAN ,  歐宗樺 ,  OU, TSONG HUA ,  鄭文立 ,  CHENG, WEN LI ,  謝艮軒 ,  HSIEH, KEN HSIEN ,  張晴翔 ,  CHANG, CHING HSIANG ,  陳庭榆 ,  CHEN, TING YU ,  田麗鈞 ,  TIEN, LI CHUN

IPC: G06F17/50

CPC classification number: G06F17/5081 ,  G03F7/70466 ,  G06F17/5072 ,  G06F2217/12 ,  Y02P90/265

公开(公告)号：TW201539225A

公开(公告)日：2015-10-16

申请号：TW103146030

申请日：2014-12-29

Applicant: 台灣積體電路製造股份有限公司 ,  TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.

Inventor： 何建霖 ,  HO, CHIEN LIN ,  徐金廠 ,  HSU, CHIN CHANG ,  林宏隆 ,  LIN, HUNG LUNG ,  楊穩儒 ,  YANG, WEN JU ,  鄭儀侃 ,  CHENG, YI KAN ,  歐宗樺 ,  OU, TSONG HUA ,  鄭文立 ,  CHENG, WEN LI ,  謝艮軒 ,  HSIEH, KEN HSIEN ,  張晴翔 ,  CHANG, CHING HSIANG ,  陳庭榆 ,  CHEN, TING YU ,  田麗鈞 ,  TIEN, LI CHUN

IPC: G06F17/50

CPC classification number: G06F17/5081 ,  G03F7/70466 ,  G06F17/5072 ,  G06F2217/12 ,  Y02P90/265

Abstract: 一種產生一多重曝光顯影(MPL)積體電路布局的方法與裝置。該方法及裝置係在未整合的積體電路單元上進行一結構確認檢查，藉由數種設計限制，用以在整合積體電路單元後，避免發生多重曝光顯影衝突。在一些實施例中，該方法產生複數未整合的積體電路單元，每一未整合的積體電路單元具有一多重曝光設計層。對該等未整合的積體電路單元進行一結構確認檢查，用以找出違規積體電路單元，違規積體電路單元的設計形狀具有潛在地多重曝光顏色衝突。調整違規積體電路單元的設計形狀，用以形成複數未違規積體電路單元。然後，整合該等未違規積體電路單元，用以產生該多重曝光顯影積體電路布局。由於多重曝光顯影積體電路布局不會有顏色衝突，故可進行分解演算法，而不進行一後整合顏色衝突確認。

Abstract in simplified Chinese: 一种产生一多重曝光显影(MPL)集成电路布局的方法与设备。该方法及设备系在未集成的集成电路单元上进行一结构确认检查，借由数种设计限制，用以在集成集成电路单元后，避免发生多重曝光显影冲突。在一些实施例中，该方法产生复数未集成的集成电路单元，每一未集成的集成电路单元具有一多重曝光设计层。对该等未集成的集成电路单元进行一结构确认检查，用以找出违规集成电路单元，违规集成电路单元的设计形状具有潜在地多重曝光颜色冲突。调整违规集成电路单元的设计形状，用以形成复数未违规集成电路单元。然后，集成该等未违规集成电路单元，用以产生该多重曝光显影集成电路布局。由于多重曝光显影集成电路布局不会有颜色冲突，故可进行分解算法，而不进行一后集成颜色冲突确认。