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    可撓性透明電極及製備其之方法
    2.
    发明专利
    可撓性透明電極及製備其之方法 审中-公开
    可挠性透明电极及制备其之方法

    公开(公告)号：TW201616518A

    公开(公告)日：2016-05-01

    申请号：TW103137583

    申请日：2014-10-30

    申请人： 國立臺灣大學 ,  NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY

    发明人： 劉貴生 ,  LIOU, GUEY SHENG ,  呂恒毅 ,  LU, HENG YI ,  周勁言 ,  CHOU, CHIN YEN ,  林江珍 ,  LIN, JEN JIANG

    IPC分类号： H01B1/22 ,  H01B5/14 ,  H01B13/00

    CPC分类号： B29C39/36 ,  B29C39/123 ,  B29K2079/08 ,  B29K2105/124 ,  B29K2505/14 ,  B29K2995/0005 ,  B29K2995/0026 ,  B29L2009/00 ,  B29L2031/34 ,  H05K1/0306 ,  H05K1/0326 ,  H05K1/097 ,  H05K3/207 ,  H05K3/386 ,  H05K2201/015 ,  H05K2201/0154 ,  H05K2201/026

    摘要： 本發明係關於一種可撓性透明電極以及製備其之方法，其中該可撓性透明電極係由一有機不可溶聚醯亞胺薄膜做為基材，以及一奈米金屬線做為導電層所構成，其中該有機不可溶聚醯亞胺薄膜係由一芳香環族結構之二酸酐與一含氟二胺及一脂環族二胺脫水閉環所形成，此外利用本發明之聚醯亞胺塗佈法不僅有效提升奈米金屬線對基材的附著性及分散性，且具有優異的熱穩定性，提供透明電極在後續的高溫製程如退火、雷射、電漿處理或嚴苛操作環境能維持其效能。利用轉印法製備可使產物表面光滑、耐高溫且防止有機溶劑破壞、節省步驟以及促使所塗佈之奈米金屬線接觸緊密並降低其電阻值。

    简体摘要： 本发明系关于一种可挠性透明电极以及制备其之方法，其中该可挠性透明电极系由一有机不可溶聚酰亚胺薄膜做为基材，以及一奈米金属线做为导电层所构成，其中该有机不可溶聚酰亚胺薄膜系由一芳香环族结构之二酸酐与一含氟二胺及一脂环族二胺脱水闭环所形成，此外利用本发明之聚酰亚胺涂布法不仅有效提升奈米金属线对基材的附着性及分散性，且具有优异的热稳定性，提供透明电极在后续的高温制程如退火、激光、等离子处理或严苛操作环境能维持其性能。利用转印法制备可使产物表面光滑、耐高温且防止有机溶剂破坏、节省步骤以及促使所涂布之奈米金属线接触紧密并降低其电阻值。