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    具有含氟矽烷系塗覆層之物品的製造方法
    4.
    发明专利
    具有含氟矽烷系塗覆層之物品的製造方法 审中-公开
    具有含氟硅烷系涂覆层之物品的制造方法

    公开(公告)号：TW201400562A

    公开(公告)日：2014-01-01

    申请号：TW102112053

    申请日：2013-04-03

    申请人： 大金工業股份有限公司 ,  DAIKIN INDUSTRIES, LTD.

    发明人： 阪本英司 ,  SAKAMOTO, EIJI ,  英翔 ,  HANABUSA, KAKERU ,  福田晃之 ,  FUKUDA, TERUYUKI ,  荒木孝之 ,  ARAKI, TAKAYUKI ,  小澤香織 ,  OZAWA, KAORI

    IPC分类号： C09D183/07 ,  C09D171/00 ,  C09D5/16

    CPC分类号： C08J7/04 ,  C08J2401/10 ,  C08J2427/12

    摘要： 本發明提供一種在有機基底材料之塗覆表面上包含含氟矽烷系塗覆層之物品之製造方法，其中該製造方法包括下列步驟：(a)藉由使用包含不飽和矽烷化合物、光觸媒與光固化有機材料之組成物，在有機基底材料表面上形成前驅物塗覆層；(b)對前驅物塗覆層進行光照射，藉此在有機基底材料表面上形成衍生自前驅物塗覆層的固化之塗覆層；及(c)利用包含含氟矽烷化合物之表面處理劑，在固化之塗覆層上直接形成或透過無機材料層形成含氟矽烷系塗覆層。該製造方法可形成具有高耐摩擦性之含氟矽烷系塗覆層。

    简体摘要： 本发明提供一种在有机基底材料之涂覆表面上包含含氟硅烷系涂覆层之物品之制造方法，其中该制造方法包括下列步骤：(a)借由使用包含不饱和硅烷化合物、光触媒与光固化有机材料之组成物，在有机基底材料表面上形成前驱物涂覆层；(b)对前驱物涂覆层进行光照射，借此在有机基底材料表面上形成衍生自前驱物涂覆层的固化之涂覆层；及(c)利用包含含氟硅烷化合物之表面处理剂，在固化之涂覆层上直接形成或透过无机材料层形成含氟硅烷系涂覆层。该制造方法可形成具有高耐摩擦性之含氟硅烷系涂覆层。

    機能性膜
    6.
    发明专利
    機能性膜 审中-公开
    机能性膜

    公开(公告)号：TW201825293A

    公开(公告)日：2018-07-16

    申请号：TW106136646

    申请日：2017-10-25

    申请人： 日商大金工業股份有限公司 ,  DAIKIN INDUSTRIES, LTD.

    发明人： 山下恒雄 ,  YAMASHITA, TSUNEO ,  阪本英司 ,  SAKAMOTO, EIJI ,  新居沙 ,  NII, SAYA ,  坂倉淳史 ,  SAKAKURA, ATSUSHI

    IPC分类号： B32B27/08 ,  B32B3/30 ,  G02B1/111 ,  G02B1/18

    摘要： 提供一種機能性膜，其具有所期望的微細凹凸圖型構造，可充分地發揮作為用來對機能性膜賦予機能的主材料的樹脂所具有之特性，且具有優異的防汚性、撥水性及撥油性。本發明之機能性膜，其係包含含有樹脂之層(A)、及、含有具有全氟聚醚基之化合物之層(B)，其特徵係層(B)的與層(A)為相反側的面具有微細凹凸圖型構造，在一邊以氬氣體團簇離子束由層(B)側進行蝕刻，一邊以X線光電子分光法進行元素分析時，符合關係式(1)，且在一邊以氬氣體團簇離子束由層(B)側進行蝕刻，一邊以X線光電子分光法進行碳的1s頻譜測定時，符合關係式(2)，關係式(1)：D1

    简体摘要： 提供一种机能性膜，其具有所期望的微细凹凸图型构造，可充分地发挥作为用来对机能性膜赋予机能的主材料的树脂所具有之特性，且具有优异的防污性、拨水性及拨油性。本发明之机能性膜，其系包含含有树脂之层(A)、及、含有具有全氟聚醚基之化合物之层(B)，其特征系层(B)的与层(A)为相反侧的面具有微细凹凸图型构造，在一边以氩气体团簇离子束由层(B)侧进行蚀刻，一边以X线光电子分光法进行元素分析时，符合关系式(1)，且在一边以氩气体团簇离子束由层(B)侧进行蚀刻，一边以X线光电子分光法进行碳的1s频谱测定时，符合关系式(2)，关系式(1)：D1<2×X1 (式中，X1为层(B)的膜厚(nm)，D1为氟原子浓度成为1atom%以下之深度(nm)) 关系式(2)：D2<2×X1 (式中，X1为层(B)的膜厚(nm)，D2为在键结能量290~300eV之范围内未检测出波峰的深度(nm))。

    防污性膜之製造方法
    7.
    发明专利
    防污性膜之製造方法 审中-公开
    防污性膜之制造方法

    公开(公告)号：TW201823004A

    公开(公告)日：2018-07-01

    申请号：TW106122838

    申请日：2017-07-07

    申请人： 夏普股份有限公司 ,  SHARP KABUSHIKI KAISHA ,  大金工業股份有限公司 ,  DAIKIN INDUSTRIES, LTD.

    发明人： 林秀和 ,  HAYASHI, HIDEKAZU ,  田口登喜生 ,  TAGUCHI, TOKIO ,  中松健一郎 ,  NAKAMATSU, KENICHIRO ,  芝井康博 ,  SHIBAI, YASUHIRO ,  厚母賢 ,  ATSUMO, KEN ,  山下恒雄 ,  YAMASHITA, TSUNEO ,  阪本英司 ,  SAKAMOTO, EIJI ,  新居沙弥 ,  NII, SAYA ,  荒木孝之 ,  ARAKI, TAKAYUKI

    IPC分类号： B32B3/30 ,  B29C59/02

    摘要： 本發明提供一種能夠長時間連續製造防污性優異之防污性膜的防污性膜之製造方法。本發明之防污性膜之製造方法係製造具備於表面具有以可見光波長以下之間距設置有複數個凸部之凹凸結構的聚合物層之防污性膜者，其包括：製程(1)，其係於基材之表面上塗佈樹脂；製程(2)，其係於塗佈有第一脫模劑之模具之表面上塗佈第二脫模劑；製程(3)，其係於上述樹脂被夾於中間之狀態下，將上述基材壓抵至上述模具之塗佈有上述第二脫模劑之表面，而於上述樹脂之表面形成上述凹凸結構；及製程(4)，其係使表面具有上述凹凸結構之上述樹脂硬化而形成上述聚合物層；且上述樹脂含有包含特定化合物而成之防污劑，上述第一脫模劑包含特定化合物而成，上述第二脫模劑包含特定化合物而成。

    简体摘要： 本发明提供一种能够长时间连续制造防污性优异之防污性膜的防污性膜之制造方法。本发明之防污性膜之制造方法系制造具备于表面具有以可见光波长以下之间距设置有复数个凸部之凹凸结构的聚合物层之防污性膜者，其包括：制程(1)，其系于基材之表面上涂布树脂；制程(2)，其系于涂布有第一脱模剂之模具之表面上涂布第二脱模剂；制程(3)，其系于上述树脂被夹于中间之状态下，将上述基材压抵至上述模具之涂布有上述第二脱模剂之表面，而于上述树脂之表面形成上述凹凸结构；及制程(4)，其系使表面具有上述凹凸结构之上述树脂硬化而形成上述聚合物层；且上述树脂含有包含特定化合物而成之防污剂，上述第一脱模剂包含特定化合物而成，上述第二脱模剂包含特定化合物而成。

    具有轉印圖型之被轉印物之製造方法
    10.
    发明专利
    具有轉印圖型之被轉印物之製造方法 审中-公开
    具有转印图型之被转印物之制造方法

    公开(公告)号：TW201803717A

    公开(公告)日：2018-02-01

    申请号：TW106119839

    申请日：2017-06-14

    申请人： 大金工業股份有限公司 ,  DAIKIN INDUSTRIES, LTD.

    发明人： 山下恒雄 ,  YAMASHITA, TSUNEO ,  阪本英司 ,  SAKAMOTO, EIJI ,  英翔 ,  HANABUSA, KAKERU ,  新居沙弥 ,  NII, SAYA ,  荒木孝之 ,  ARAKI, TAKAYUKI

    IPC分类号： B29C33/38 ,  C08G65/00

    CPC分类号： B29C33/62 ,  B29C59/02 ,  H01L21/027

    摘要： 本發明提供一種即使進行重複轉印，轉印物仍不易從基板剝離，不易附著於模具之製造方法。一種被轉印物之製造方法，其特徵為包含，步驟(1)：對已形成脫模層之於表面具有凹凸圖型之模具之上述脫模層塗佈包含氟聚醚之組成物；步驟(2)：將上述模具壓向被轉印物而轉印上述凹凸圖型；及，步驟(3)：從上述被轉印物使上述模具脫模而取得具有轉印圖型之上述被轉印物。

    简体摘要： 本发明提供一种即使进行重复转印，转印物仍不易从基板剥离，不易附着于模具之制造方法。一种被转印物之制造方法，其特征为包含，步骤(1)：对已形成脱模层之于表面具有凹凸图型之模具之上述脱模层涂布包含氟聚醚之组成物；步骤(2)：将上述模具压向被转印物而转印上述凹凸图型；及，步骤(3)：从上述被转印物使上述模具脱模而取得具有转印图型之上述被转印物。