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发明专利
光活化及藉由反式二階段程序使用催化劑之方法 PROCESS FOR THE PHOTOACTIVATION AND USE OF A CATALYST BY AN INVERTED TWO-STAGE PROCEDURE 审中-公开
简体标题：光活化及借由反式二阶段进程使用催化剂之方法 PROCESS FOR THE PHOTOACTIVATION AND USE OF A CATALYST BY AN INVERTED TWO-STAGE PROCEDURE

公开(公告)号：TW200615049A

公开(公告)日：2006-05-16

申请号：TW094124529

申请日：2005-07-20

申请人： 席巴特製品化學股份有限公司 CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.

发明人： 班克霍夫喬漢納 BENKHOFF, JOHANNES , 瓊杜賈 JUNG, TUNJA , 法雷特安德烈斯 VALET, ANDREAS , 迪特里克科特 DIETLIKER, KURT , 錫克曼尤金V. SITZMANN, EUGENE VALENTINE

IPC分类号： B01J

CPC分类号： B01J31/0239 , B01J31/0205 , B01J31/0217 , B01J31/0234 , B01J31/0268 , B01J31/06 , C08G18/10 , C08G18/2018 , C08G18/2063 , C08G18/4812 , C08G18/62 , C08G18/792 , C08G59/4064 , C08G59/686 , C08G2101/0008 , C08G2101/0083 , C09D11/101 , C09D163/00 , C09D175/04 , C09J163/00 , C09J175/04 , G03F7/0045 , C08G18/48

摘要： 本發明係有關於一種塗敷特殊光潛催化劑(a)之方法，其中，包含該催化劑之物料組成物係於進一步加工處理前接受照射。

简体摘要： 本发明系有关于一种涂敷特殊光潜催化剂(a)之方法，其中，包含该催化剂之物料组成物系于进一步加工处理前接受照射。