公开(公告)号：TWI690618B

公开(公告)日：2020-04-11

申请号：TW105119316

申请日：2016-06-20

申请人： 日商上村工業股份有限公司 ,  C. UYEMURA & CO., LTD.

发明人： 前田剛志 ,  MAEDA, TSUYOSHI ,  柴山文徳 ,  SHIBAYAMA, FUMINORI ,  田邉克久 ,  TANABE, KATSUHISA ,  和田真輔 ,  WADA, SHINSUKE

IPC分类号： C23C18/36 ,  H05K3/22

公开(公告)号：TW201710550A

公开(公告)日：2017-03-16

申请号：TW105119316

申请日：2016-06-20

申请人： 上村工業股份有限公司 ,  C. UYEMURA & CO., LTD.

发明人： 前田剛志 ,  MAEDA, TSUYOSHI ,  柴山文徳 ,  SHIBAYAMA, FUMINORI ,  田邉克久 ,  TANABE, KATSUHISA ,  和田真輔 ,  WADA, SHINSUKE

IPC分类号： C23C18/36 ,  H05K3/22

摘要： 本發明之課題為提供可得到良好的彎曲性，即使在應力施加的部分亦不易產生龜裂，並且沒有無鍍敷之疑慮的無電解鎳鍍敷浴。 本發明之解決手段為，本發明之無電解鎳鍍敷浴係含有以下述(1)式所表示之包含硫的苯并噻唑系化合物。 式中，X係碳數為2以上之烷基，或其鹽，X係可具有取代基。

简体摘要： 本发明之课题为提供可得到良好的弯曲性，即使在应力施加的部分亦不易产生龟裂，并且没有无镀敷之疑虑的无电解镍镀敷浴。 本发明之解决手段为，本发明之无电解镍镀敷浴系含有以下述(1)式所表示之包含硫的苯并噻唑系化合物。 式中，X系碳数为2以上之烷基，或其盐，X系可具有取代基。