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公开(公告)号：TWI701145B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW106125059
申请日：2017-07-26
发明人： 設樂浩司 , SHITARA, KOJI , 徐創矢 , JO, SOUYA , 佐佐木翔悟 , SASAKI, SHOGO
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公开(公告)号：TWI698333B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW108128671
申请日：2018-12-26
发明人： 設樂浩司 , SHITARA, KOJI , 野呂弘司 , NORO, HIROSHI , 仲野武史 , NAKANO, TAKESHI , 林圭治 , HAYASHI, KEIJI
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公开(公告)号：TWI679265B
公开(公告)日：2019-12-11
申请号：TW107133843
申请日：2016-09-08
发明人： 佐佐木翔悟 , SASAKI,SHOGO , 徐創矢 , JO,SOUYA , 設樂浩司 , SHITARA,KOJI
IPC分类号： C09J7/20 , C09J7/30 , C09J133/06 , C09J133/14 , C09J121/00
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公开(公告)号：TWI676661B
公开(公告)日：2019-11-11
申请号：TW104140379
申请日：2015-12-02
发明人： 佐佐木翔悟 , SASAKI, SHOGO , 設樂浩司 , SHITARA, KOJI
IPC分类号： C09J175/04 , B32B7/12
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公开(公告)号：TWI624504B
公开(公告)日：2018-05-21
申请号：TW102148271
申请日：2013-12-25
发明人： 山形真人 , YAMAGATA, MASATO , 岡本昌之 , OKAMOTO, MASAYUKI , 大學紀二 , DAIGAKU, NORITSUGU , 設樂浩司 , SHITARA, KOJI
IPC分类号： C08L33/02 , C08F220/06 , C08K5/20 , C08J3/24 , C09J133/02 , C09J11/06 , C09J7/02 , G02B1/10 , B32B27/06 , B32B7/02
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公开(公告)号：TWI701315B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW106106777
申请日：2017-03-02
发明人： 設樂浩司 , SHITARA, KOJI , 徐創矢 , JO, SOUYA , 佐佐木翔悟 , SASAKI, SHOGO
IPC分类号： C09J7/20 , C09J175/04 , C09J11/08 , C09J11/06 , B32B27/36 , C08G63/183
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公开(公告)号：TWI698513B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW105106557
申请日：2016-03-03
发明人： 設樂浩司 , SHITARA, KOJI , 徐創矢 , JO, SOUYA
IPC分类号： C09J7/20 , C09J183/04 , G02B5/30
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公开(公告)号：TWI698332B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW107147157
申请日：2018-12-26
发明人： 設樂浩司 , SHITARA, KOJI , 野呂弘司 , NORO, HIROSHI , 仲野武史 , NAKANO, TAKESHI , 林圭治 , HAYASHI, KEIJI
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公开(公告)号：TWI638878B
公开(公告)日：2018-10-21
申请号：TW105129053
申请日：2016-09-08
发明人： 佐佐木翔悟 , SASAKI, SHOGO , 徐創矢 , JO, SOUYA , 設樂浩司 , SHITARA, KOJI
IPC分类号： C09J7/20 , C09J133/06 , C09J11/06
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公开(公告)号：TW201823010A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106138908
申请日：2017-11-10
发明人： 佐佐木翔悟 , SASAKI, SHOGO , 徐創矢 , JO, SOUYA , 設樂浩司 , SHITARA, KOJI , 越智元気 , OCHI, GENKI
摘要： 本發明提供一種附隔離件之補強用膜，其係具有補強用膜及隔離件者，且可抑制剝離隔離件時可能產生之剝離帶電，即便自預先貼合於光學構件或電子構件等之露出面側之該附隔離件之補強用膜剝離隔離件，亦可減輕對該光學構件或電子構件所造成之損傷。 本發明之附隔離件之補強用膜係具有補強用膜P及隔離件Q者，該補強用膜P包含基材層A1及黏著劑層A2，該隔離件Q包含離型層B1及基材層B2，該附隔離件之補強用膜係該黏著劑層A2與該離型層B1直接積層而成，該黏著劑層A2係由黏著劑組合物a2所形成之黏著劑層，該黏著劑組合物a2含有選自聚矽氧系添加劑及氟系添加劑之至少一種，且該黏著劑層A2之表面之Si元素之存在比率與F元素之存在比率之合計為3 atomic%～13 atomic%。
简体摘要： 本发明提供一种附隔离件之补强用膜，其系具有补强用膜及隔离件者，且可抑制剥离隔离件时可能产生之剥离带电，即便自预先贴合于光学构件或电子构件等之露出面侧之该附隔离件之补强用膜剥离隔离件，亦可减轻对该光学构件或电子构件所造成之损伤。 本发明之附隔离件之补强用膜系具有补强用膜P及隔离件Q者，该补强用膜P包含基材层A1及黏着剂层A2，该隔离件Q包含离型层B1及基材层B2，该附隔离件之补强用膜系该黏着剂层A2与该离型层B1直接积层而成，该黏着剂层A2系由黏着剂组合物a2所形成之黏着剂层，该黏着剂组合物a2含有选自聚硅氧系添加剂及氟系添加剂之至少一种，且该黏着剂层A2之表面之Si元素之存在比率与F元素之存在比率之合计为3 atomic%～13 atomic%。
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