硬化性組合物、硬化物及硬化性組合物的使用方法
    1.
    发明专利
    硬化性組合物、硬化物及硬化性組合物的使用方法 审中-公开
    硬化性组合物、硬化物及硬化性组合物的使用方法

    公开(公告)号:TW202026363A

    公开(公告)日:2020-07-16

    申请号:TW108135112

    申请日:2019-09-27

    摘要: 本發明提供一種硬化性組合物,其特徵在於,含有:下述(A)成分及(E)成分;將此硬化性組合物進行硬化而成的接著強度高的硬化物;以及將上述硬化性組合物作為光元件固定材用接著劑或光元件固定材用密封材的使用方法。本發明的硬化性組合物為硬化性佳,且折射率低。 (A)成分:為具有下述式(a-1)所示的重複單元的硬化性聚倍半矽氧烷化合物(polysilsesquioxane),滿足關於29Si-NMR的特定條件,質量平均分子量(Mw)為特定範圍的硬化性聚倍半矽氧烷化合物, [R1為以組成式:CmH(2m-n+1)Fn表示的氟烷基。m表示1~10的整數,n表示2以上,(2m+1)以下的整數。D表示R1與Si鍵結的連結基(但是,伸烷基除外)或單鍵] (E)成分:為平均一次粒徑超過0.04μm,8μm以下的微粒子。

    简体摘要: 本发明提供一种硬化性组合物,其特征在于,含有:下述(A)成分及(E)成分;将此硬化性组合物进行硬化而成的接着强度高的硬化物;以及将上述硬化性组合物作为光组件固定材用接着剂或光组件固定材用密封材的使用方法。本发明的硬化性组合物为硬化性佳,且折射率低。 (A)成分:为具有下述式(a-1)所示的重复单元的硬化性聚倍半硅氧烷化合物(polysilsesquioxane),满足关于29Si-NMR的特定条件,质量平均分子量(Mw)为特定范围的硬化性聚倍半硅氧烷化合物, [R1为以组成式:CmH(2m-n+1)Fn表示的氟烷基。m表示1~10的整数,n表示2以上,(2m+1)以下的整数。D表示R1与Si键结的链接基(但是,伸烷基除外)或单键] (E)成分:为平均一次粒径超过0.04μm,8μm以下的微粒子。

    黏著劑層、其製造方法、黏著片、附黏著劑層之光學膜及圖像顯示裝置
    9.
    发明专利
    黏著劑層、其製造方法、黏著片、附黏著劑層之光學膜及圖像顯示裝置 审中-公开
    黏着剂层、其制造方法、黏着片、附黏着剂层之光学膜及图像显示设备

    公开(公告)号:TW201946995A

    公开(公告)日:2019-12-16

    申请号:TW108115531

    申请日:2019-05-06

    摘要: 本發明之黏著劑層係具有第1面並於上述第1面之相反側具有第2面之黏著劑層,上述黏著劑層藉由含有基礎聚合物之黏著劑組合物形成有黏著劑層整體之基片,上述第1面具有基於上述黏著劑組合物之第1折射率,另一方面,上述第2面之第2折射率低於上述第1面之第1折射率。本發明之黏著劑層即便於應用於抗反射膜、光擴散膜、稜鏡膜、導光膜、透鏡膜、菲涅耳透鏡或雙凸透鏡或微透鏡膜等折射率較低之光學構件之情形時,亦能夠有效地抑制內部反射,且密接性良好。

    简体摘要: 本发明之黏着剂层系具有第1面并于上述第1面之相反侧具有第2面之黏着剂层,上述黏着剂层借由含有基础聚合物之黏着剂组合物形成有黏着剂层整体之基片,上述第1面具有基于上述黏着剂组合物之第1折射率,另一方面,上述第2面之第2折射率低于上述第1面之第1折射率。本发明之黏着剂层即便于应用于抗反射膜、光扩散膜、棱镜膜、导光膜、透镜膜、菲涅耳透镜或双凸透镜或微透镜膜等折射率较低之光学构件之情形时,亦能够有效地抑制内部反射,且密接性良好。