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公开(公告)号:TW202026363A
公开(公告)日:2020-07-16
申请号:TW108135112
申请日:2019-09-27
申请人: 日商琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人: 梅田明来子 , UMEDA, AKIKO , 宮脇学 , MIYAWAKI, MANABU , 中山秀一 , NAKAYAMA, HIDEKAZU
摘要: 本發明提供一種硬化性組合物,其特徵在於,含有:下述(A)成分及(E)成分;將此硬化性組合物進行硬化而成的接著強度高的硬化物;以及將上述硬化性組合物作為光元件固定材用接著劑或光元件固定材用密封材的使用方法。本發明的硬化性組合物為硬化性佳,且折射率低。 (A)成分:為具有下述式(a-1)所示的重複單元的硬化性聚倍半矽氧烷化合物(polysilsesquioxane),滿足關於29Si-NMR的特定條件,質量平均分子量(Mw)為特定範圍的硬化性聚倍半矽氧烷化合物, [R1為以組成式:CmH(2m-n+1)Fn表示的氟烷基。m表示1~10的整數,n表示2以上,(2m+1)以下的整數。D表示R1與Si鍵結的連結基(但是,伸烷基除外)或單鍵] (E)成分:為平均一次粒徑超過0.04μm,8μm以下的微粒子。
简体摘要: 本发明提供一种硬化性组合物,其特征在于,含有:下述(A)成分及(E)成分;将此硬化性组合物进行硬化而成的接着强度高的硬化物;以及将上述硬化性组合物作为光组件固定材用接着剂或光组件固定材用密封材的使用方法。本发明的硬化性组合物为硬化性佳,且折射率低。 (A)成分:为具有下述式(a-1)所示的重复单元的硬化性聚倍半硅氧烷化合物(polysilsesquioxane),满足关于29Si-NMR的特定条件,质量平均分子量(Mw)为特定范围的硬化性聚倍半硅氧烷化合物, [R1为以组成式:CmH(2m-n+1)Fn表示的氟烷基。m表示1~10的整数,n表示2以上,(2m+1)以下的整数。D表示R1与Si键结的链接基(但是,伸烷基除外)或单键] (E)成分:为平均一次粒径超过0.04μm,8μm以下的微粒子。
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公开(公告)号:TWI696672B
公开(公告)日:2020-06-21
申请号:TW104143791
申请日:2015-12-25
申请人: 日商可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人: 真木秀樹 , MAKI, HIDEKI , 仲前昌人 , NAKAMAE, MASATO
IPC分类号: C09J131/04 , C09J11/08 , B01F17/52 , C09J175/04 , C08F2/24
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公开(公告)号:TWI692513B
公开(公告)日:2020-05-01
申请号:TW104144528
申请日:2015-12-30
IPC分类号: C09J133/04 , C09J131/02 , C09J11/06 , C09J11/08 , C09J7/20 , C09J5/00
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公开(公告)号:TWI691566B
公开(公告)日:2020-04-21
申请号:TW105125220
申请日:2016-08-09
申请人: 日商東洋紡股份有限公司 , TOYOBO CO., LTD.
发明人: 三上忠彥 , MIKAMI, TADAHIKO , 伊藤武 , ITO, TAKESHI , 薗田遼 , SONODA, RYO
IPC分类号: C09J123/26 , C09J163/00 , C09J11/08 , C09J7/20 , B32B7/12 , B32B15/08 , H05K3/38
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公开(公告)号:TWI685536B
公开(公告)日:2020-02-21
申请号:TW104116547
申请日:2015-05-22
申请人: 美商塞特工業公司 , CYTEC INDUSTRIES INC.
发明人: 普拉特 詹姆斯 法蘭西斯 , PRATTE, JAMES FRANCIS , 麥斯基爾 羅賓K , MASKELL, ROBIN K. , 葛瑞芬 詹姆斯 馬汀 , GRIFFIN, JAMES MARTIN , 艾德 茱蒂絲 安 , ELDER, JUDITH ANNE
IPC分类号: C08L63/00 , C08L81/06 , C08L71/10 , C08G65/48 , C08K7/06 , C08J5/04 , C09J163/00 , C09J181/06 , C09J11/08 , C09J11/04
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公开(公告)号:TWI684634B
公开(公告)日:2020-02-11
申请号:TW105101081
申请日:2016-01-14
发明人: 片岡賢一 , KATAOKA, KENICHI , 渡部奈津子 , WATANABE, NATSUKO , 三井數馬 , MITSUI, KAZUMA , 天野立巳 , AMANO, TATSUMI
IPC分类号: C09J7/20 , B32B27/18 , B32B27/36 , C09J11/00 , C09J11/08 , C09J133/00 , C09J175/04 , C09J183/04
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公开(公告)号:TW202003766A
公开(公告)日:2020-01-16
申请号:TW108119039
申请日:2019-05-31
发明人: 韋伯 凱利 安 , VOLP, KELLY ANNE , 雪芙 凱瑟琳 雪科 , SHAFER, KATHLEEN SCHRECK , 瑞可 彼得 奧利佛 , REKOW, PETER OLIVER , 艾摩爾 道格拉斯 萊昂 , ELMORE, DOUGLAS LEON , 簡諾斯基 強納森 愛德恩 , JANOSKI, JONATHAN EDWIN , 捷司達克 湯瑪士 誇力 , CHASTEK, THOMAS QUAYLE , 瑞藍 布萊德福 路易斯 , RYLAND, BRADFORD LEWIS
IPC分类号: C09J133/14 , C09J163/00 , C09J171/00 , C09J129/14 , C09J11/08 , B32B5/18
摘要: 一種可固化組成物,其包含:羥基官能性或醚官能性(甲基)丙烯酸酯共聚物、環氧樹脂;水;光催化劑、及可選地聚乙烯縮醛聚合物、及/或成膜聚合物。當固化時,提供在高濕度條件下可固化之結構性接合黏著劑。
简体摘要: 一种可固化组成物,其包含:羟基官能性或醚官能性(甲基)丙烯酸酯共聚物、环氧树脂;水;光催化剂、及可选地聚乙烯缩醛聚合物、及/或成膜聚合物。当固化时,提供在高湿度条件下可固化之结构性接合黏着剂。
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公开(公告)号:TW202003758A
公开(公告)日:2020-01-16
申请号:TW108118569
申请日:2019-05-29
发明人: 谷賢輔 , TANI, KENSUKE , 吉良佳子 , KIRA, YOSHIKO , 水野大輔 , MIZUNO, DAISUKE
IPC分类号: C09J11/08 , C09J201/00 , C09J7/30
摘要: 本發明係關於一種黏著劑組合物、包含該黏著劑組合物之黏著劑層、以及具備該黏著劑層之黏著片,上述黏著劑組合物係含有基底聚合物及吸水性材料者,且形成黏著劑層時之楊氏模數為450 kPa以上。
简体摘要: 本发明系关于一种黏着剂组合物、包含该黏着剂组合物之黏着剂层、以及具备该黏着剂层之黏着片,上述黏着剂组合物系含有基底聚合物及吸水性材料者,且形成黏着剂层时之杨氏模数为450 kPa以上。
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公开(公告)号:TW201946995A
公开(公告)日:2019-12-16
申请号:TW108115531
申请日:2019-05-06
发明人: 形見普史 , KATAMI, HIROFUMI , 野中崇弘 , NONAKA, TAKAHIRO
摘要: 本發明之黏著劑層係具有第1面並於上述第1面之相反側具有第2面之黏著劑層,上述黏著劑層藉由含有基礎聚合物之黏著劑組合物形成有黏著劑層整體之基片,上述第1面具有基於上述黏著劑組合物之第1折射率,另一方面,上述第2面之第2折射率低於上述第1面之第1折射率。本發明之黏著劑層即便於應用於抗反射膜、光擴散膜、稜鏡膜、導光膜、透鏡膜、菲涅耳透鏡或雙凸透鏡或微透鏡膜等折射率較低之光學構件之情形時,亦能夠有效地抑制內部反射,且密接性良好。
简体摘要: 本发明之黏着剂层系具有第1面并于上述第1面之相反侧具有第2面之黏着剂层,上述黏着剂层借由含有基础聚合物之黏着剂组合物形成有黏着剂层整体之基片,上述第1面具有基于上述黏着剂组合物之第1折射率,另一方面,上述第2面之第2折射率低于上述第1面之第1折射率。本发明之黏着剂层即便于应用于抗反射膜、光扩散膜、棱镜膜、导光膜、透镜膜、菲涅耳透镜或双凸透镜或微透镜膜等折射率较低之光学构件之情形时,亦能够有效地抑制内部反射,且密接性良好。
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公开(公告)号:TWI671390B
公开(公告)日:2019-09-11
申请号:TW105138397
申请日:2016-11-23
申请人: 日商大尼克股份有限公司 , DYNIC CORPORATION
发明人: 三澤真二 , MISAWA, SHINJI , 中嶋健 , NAKAJIMA, TAKESHI , 栗田恵吾 , KURITA, KEIGO , 石黑健二 , ISHIGURO, KENJI , 日笠翔 , HIGASA, SHO
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