埋設矽配線的玻璃基板及其製造方法 A BURIED SILICON WIRING GLASS SUBSTRATE AND MANUFACTURING PROCESS THEREOF
    3.
    发明专利
    埋設矽配線的玻璃基板及其製造方法 A BURIED SILICON WIRING GLASS SUBSTRATE AND MANUFACTURING PROCESS THEREOF 审中-公开
    埋设硅配线的玻璃基板及其制造方法 A BURIED SILICON WIRING GLASS SUBSTRATE AND MANUFACTURING PROCESS THEREOF

    公开(公告)号:TW201240025A

    公开(公告)日:2012-10-01

    申请号:TW100110632

    申请日:2011-03-28

    IPC分类号: H01L

    摘要: 本發明提供具有高可靠度之配線部52a的埋設矽配線之玻璃基板。埋設矽配線之玻璃基板包含:玻璃基板54,具有反方向之第1主面SF1與第2主面SF2;及矽構件(52a、55),配置於玻璃基板54之內部。又,矽構件(52a、55)包含:配線部52a,貫通於玻璃基板54的第1主面SF1與第2主面SF2之間;及包圍部55,在與第1主面SF1之法線垂直的方向上,包圍著配線部52a。

    简体摘要: 本发明提供具有高可靠度之配线部52a的埋设硅配线之玻璃基板。埋设硅配线之玻璃基板包含:玻璃基板54,具有反方向之第1主面SF1与第2主面SF2;及硅构件(52a、55),配置于玻璃基板54之内部。又,硅构件(52a、55)包含:配线部52a,贯通于玻璃基板54的第1主面SF1与第2主面SF2之间;及包围部55,在与第1主面SF1之法线垂直的方向上,包围着配线部52a。

    靜電電容式裝置之製造方法
    5.
    发明专利
    靜電電容式裝置之製造方法 审中-公开
    静电电容式设备之制造方法

    公开(公告)号:TW201234013A

    公开(公告)日:2012-08-16

    申请号:TW101102866

    申请日:2012-01-30

    IPC分类号: G01P B81C

    摘要: 將以露出於固定側基板(2a)之兩面的方式使矽貫穿所形成的貫穿矽(23a、23b、24a、24b)作為固定電極(20a、20b、21a、21b),將金屬膜(25)成膜在貫穿矽(23a、23b、24a、24b)的外側露出面,並且在固定側基板(2a)的表面中的貫穿矽(23a、23b、24a、24b)的外側露出面以外的部位,以與金屬膜(25)分離的方式形成金屬膜(26)。接著,在將可動體基板(1)與固定側基板(2a)進行陽極接合時,使用金屬膜(25、26),在固定側基板(2a)與可動體基板(1)之間設置電位差,另一方面使貫穿矽(23a、23b、24a、24b)與可動體基板(1)成為同電位。

    简体摘要: 将以露出于固定侧基板(2a)之两面的方式使硅贯穿所形成的贯穿硅(23a、23b、24a、24b)作为固定电极(20a、20b、21a、21b),将金属膜(25)成膜在贯穿硅(23a、23b、24a、24b)的外侧露出面,并且在固定侧基板(2a)的表面中的贯穿硅(23a、23b、24a、24b)的外侧露出面以外的部位,以与金属膜(25)分离的方式形成金属膜(26)。接着,在将可动体基板(1)与固定侧基板(2a)进行阳极接合时,使用金属膜(25、26),在固定侧基板(2a)与可动体基板(1)之间设置电位差,另一方面使贯穿硅(23a、23b、24a、24b)与可动体基板(1)成为同电位。