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公开(公告)号：TWI673169B
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：TW104137472
申请日：2015-11-13
申请人： 日商琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人： 原務 , HARA, TSUTOMU , 近藤健 , KONDO, TAKESHI , 淵恵美 , FUCHI, EMI
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公开(公告)号：TWI664084B
公开(公告)日：2019-07-01
申请号：TW104110192
申请日：2015-03-30
申请人： 日商琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人： 岩屋涉 , IWAYA, WATARU , 永元公市 , NAGAMOTO, KOICHI , 永縄智史 , NAGANAWA, SATOSHI , 鈴木悠太 , SUZUKI, YUUTA , 近藤健 , KONDO, TAKESHI
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公开(公告)号：TW201805152A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：TW106109894
申请日：2017-03-24
申请人： 琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人： 岩屋渉 , IWAYA, WATARU , 近藤健 , KONDO, TAKESHI , 永元公市 , NAGAMOTO, KOICHI , 永縄智史 , NAGANAWA, SATOSHI , 鈴木悠太 , SUZUKI, YUTA
摘要： 本發明的阻氣薄膜，係具有：基材、直接積層於上述基材上且含有樹脂固化物的底漆層、及直接積層於上述底漆層上的阻氣層；其特徵在於：針對形成上述阻氣層前的底漆層表面利用光干擾顯微鏡進行觀察時，觀察到算術平均粗糙度(Ra)4nm以下、最大截面高度(Rt)70nm以下的平滑面，以及最大谷底深度(Rv)150nm以下的凹部。本發明亦提供該阻氣薄膜的製造方法。根據本發明，可提供具有基材、底漆層及阻氣層，且阻氣性與外觀均優異的阻氣薄膜，及其製造方法。
简体摘要： 本发明的阻气薄膜，系具有：基材、直接积层于上述基材上且含有树脂固化物的底漆层、及直接积层于上述底漆层上的阻气层；其特征在于：针对形成上述阻气层前的底漆层表面利用光干扰显微镜进行观察时，观察到算术平均粗糙度(Ra)4nm以下、最大截面高度(Rt)70nm以下的平滑面，以及最大谷底深度(Rv)150nm以下的凹部。本发明亦提供该阻气薄膜的制造方法。根据本发明，可提供具有基材、底漆层及阻气层，且阻气性与外观均优异的阻气薄膜，及其制造方法。
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公开(公告)号：TWI602707B
公开(公告)日：2017-10-21
申请号：TW103104849
申请日：2014-02-14
申请人： 琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人： 岩屋涉 , IWAYA, WATARU , 永縄智史 , NAGANAWA, SATOSHI , 永元公市 , NAGAMOTO, KOICHI , 近藤健 , KONDO, TAKESHI
IPC分类号： B32B7/12
CPC分类号： B32B7/12 , B32B27/08 , B32B27/16 , B32B27/18 , B32B27/281 , B32B27/285 , B32B27/286 , B32B27/288 , B32B27/302 , B32B27/304 , B32B27/308 , B32B27/32 , B32B27/325 , B32B27/34 , B32B27/36 , B32B27/365 , B32B37/003 , B32B37/12 , B32B2037/1253 , B32B2250/24 , B32B2255/10 , B32B2255/205 , B32B2270/00 , B32B2305/72 , B32B2307/306 , B32B2307/412 , B32B2307/514 , B32B2307/546 , B32B2307/558 , B32B2307/584 , B32B2307/718 , B32B2307/7242 , B32B2307/7244 , B32B2307/7246 , B32B2307/728 , B32B2457/00 , B32B2457/12 , B32B2457/20 , B32B2457/202 , B32B2457/206 , C09J7/20 , C09J133/14 , Y10T428/31935
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公开(公告)号：TWI554804B
公开(公告)日：2016-10-21
申请号：TW101144653
申请日：2012-11-29
申请人： 琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人： 岩屋涉 , IWAYA, WATARU , 伊藤雅春 , ITO, MASAHARU , 近藤健 , KONDO, TAKESHI
IPC分类号： G02F1/1333 , G02F1/1339
CPC分类号： C23C14/48 , B05D3/148 , B05D7/04 , C23C18/122 , C23C28/00
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公开(公告)号：TWI543868B
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW098142442
申请日：2009-12-11
申请人： 琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人： 星慎一 , HOSHI, SHINICHI , 近藤健 , KONDO, KEN , 山口征太郎 , YAMAGUCHI, SEITARO , 齋藤和惠 , SAITO, KAZUE , 鈴木悠太 , SUZUKI, YUTA
CPC分类号： B32B27/08 , B32B27/281 , B32B27/285 , B32B27/286 , B32B27/288 , B32B27/308 , B32B27/32 , B32B27/325 , B32B27/34 , B32B27/36 , B32B27/365 , B32B2250/24 , B32B2255/10 , B32B2255/20 , B32B2255/28 , B32B2307/412 , B32B2307/558 , B32B2307/7242 , B32B2307/732 , B32B2457/00
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公开(公告)号：TWI491310B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW098116856
申请日：2009-05-21
申请人： 琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人： 永繩智史 , NAGANAWA, SATOSHI , 森岡孝至 , MORIOKA, TAKASHI , 田矢直紀 , TAYA, NAOKI , 近藤健 , KONDO, TAKESHI , 齋藤和惠 , SAITO, KAZUE , 岩本祐子 , IWAMOTO, YUKO , 星慎一 , HOSHI, SHINICHI , 松林由美子 , MATSUBAYASHI, YUMIKO
CPC分类号： H05B33/10 , C09K11/02 , C09K11/584 , H05B33/14 , H05B33/20
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公开(公告)号：TWI490258B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW099108132
申请日：2010-03-19
申请人： 琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人： 星慎一 , HOSHI, SHINICHI , 近藤健 , KONDO, TAKESHI , 上村和惠 , UEMURA, KAZUE , 鈴木悠太 , SUZUKI, YUTA
IPC分类号： C08K5/54 , H01L21/425
CPC分类号： C23C14/48 , C08G77/04 , C08J7/06 , C08J2383/04 , C23C14/20 , C23C14/562
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公开(公告)号：TWI478966B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW100110553
申请日：2011-03-28
申请人： 琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人： 岩屋涉 , IWAYA, WATARU , 近藤健 , KONDO, TAKESHI
CPC分类号： C09D1/00 , C08G77/62 , C08J7/04 , C08J2367/02 , C08J2483/16 , C08K3/346 , C08K2201/008 , C09D183/16 , C23C14/48 , G02F1/133305
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公开(公告)号：TWI461292B
公开(公告)日：2014-11-21
申请号：TW099107576
申请日：2010-03-16
申请人： 琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人： 鈴木悠太 , SUZUKI, YUTA , 近藤健 , KONDO, TAKESHI , 星慎一 , HOSHI, SHINICHI
CPC分类号： C08J7/123 , C08J7/047 , C08J2367/03 , C08J2483/00 , C08J2483/16 , Y10T428/24942 , Y10T428/31667
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