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    二級胺、自由基、與烷氧胺化合物
    1.
    发明专利
    二級胺、自由基、與烷氧胺化合物 审中-公开
    二级胺、自由基、与烷氧胺化合物

    公开(公告)号：TW202010748A

    公开(公告)日：2020-03-16

    申请号：TW107137351

    申请日：2018-10-23

    申请人： 財團法人工業技術研究院 ,  INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE

    发明人： 汪孟緯 ,  WANG, MENG WEI ,  韓裕民 ,  HAN, YU MIN ,  林志祥 ,  LIN, CHIH HSIANG

    IPC分类号： C07F9/6574 ,  C08F20/18 ,  C08F12/08 ,  C08F20/14

    摘要： 本揭露提供之烷氧胺化合物，其化學結構為： 其中每一R1各自獨立，係H、C1-6烷基、或C1-6烷氧基；R2係C1-6烷基；R3係-(CxH2x)-OH或-(CxH2x+1)，且x介於1至8之間；R4係 H或C1-6烷基；R5係，且R6係H或C1-8烷基；R7係H或C1-6 烷基；R8係；Ini係自由基起始劑的殘基；以及n為1至10000的整數。

    简体摘要： 本揭露提供之烷氧胺化合物，其化学结构为： 其中每一R1各自独立，系H、C1-6烷基、或C1-6烷氧基；R2系C1-6烷基；R3系-(CxH2x)-OH或-(CxH2x+1)，且x介于1至8之间；R4系 H或C1-6烷基；R5系，且R6系H或C1-8烷基；R7系H或C1-6 烷基；R8系；Ini系自由基起始剂的残基；以及n为1至10000的整数。

    高分子與分散液
    3.
    发明专利
    高分子與分散液 审中-公开
    高分子与分散液

    公开(公告)号：TW201823283A

    公开(公告)日：2018-07-01

    申请号：TW105142654

    申请日：2016-12-22

    申请人： 財團法人工業技術研究院 ,  INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE

    发明人： 朱育麟 ,  CHU, YU LIN ,  韓裕民 ,  HAN, YU MIN ,  林志祥 ,  LIN, CHIH HSIANG

    IPC分类号： C08F271/02 ,  C08F293/00 ,  B01F17/00 ,  B01F17/34 ,  C09B67/46 ,  C09D153/00 ,  C09D11/326

    摘要： 本揭露提供之高分子，具有下列嵌段：A-B，其中嵌段A 之結構為：，嵌段B之結構為： ，其中每一R1各自為H或甲基； R2為、、、、、或，每一R3各自為H、C1-4之烷基、C(O)OH、C(O)NHR6NR7R8、C(O)OR6NR7R8、或C(O)OR9；其中R6為C1-5之烷撐基；R7與R8各自為H或C1-9之烷基、C6-9芳基、或C7-9烷基芳香基；R9為具有一個以上羥基或酯基的C1-20的羥烷基或烷基酯；R4係C1-12之烷撐基、C6-12之芳撐基、或C7-12之烷撐基芳撐基；R5係H或C1-4之 烷基；Ar為、、、、或，其中X係H、鹵素、烷基、或芳基；o係1至30之整數，p係0至50之整數，q係0至50之整數，r係1至200之整數，s係1至200之整數，而t係1至50之整數。

    简体摘要： 本揭露提供之高分子，具有下列嵌段：A-B，其中嵌段A 之结构为：，嵌段B之结构为： ，其中每一R1各自为H或甲基； R2为、、、、、或，每一R3各自为H、C1-4之烷基、C(O)OH、C(O)NHR6NR7R8、C(O)OR6NR7R8、或C(O)OR9；其中R6为C1-5之烷撑基；R7与R8各自为H或C1-9之烷基、C6-9芳基、或C7-9烷基芳香基；R9为具有一个以上羟基或酯基的C1-20的羟烷基或烷基酯；R4系C1-12之烷撑基、C6-12之芳撑基、或C7-12之烷撑基芳撑基；R5系H或C1-4之 烷基；Ar为、、、、或，其中X系H、卤素、烷基、或芳基；o系1至30之整数，p系0至50之整数，q系0至50之整数，r系1至200之整数，s系1至200之整数，而t系1至50之整数。