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公开(公告)号：TW201829545A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106131986
申请日：2017-09-18
发明人： 金應圭 , KIM, EUNG KYU , 哈里斯 威廉J , HARRIS, WILLIAM J. , 蔣奇 , JIANG, QI , 姜鑫 , JIANG, XIN , 大場薰 , OHBA, KAORU
摘要： 用於合成聚(醯胺酸)聚合物或聚醯亞胺聚合物之方法藉由使用基本上由以下各者組成之溶劑系統改良：(A)基本上由亞碸(例如DMSO)及磷酸烷基酯(例如磷酸三乙酯)中之至少一者組成之第一組分，及(B)視情況，基本上由至少一種非質子二醇醚(例如二丙二醇二甲醚)組成之第二組分。
简体摘要： 用于合成聚(酰胺酸)聚合物或聚酰亚胺聚合物之方法借由使用基本上由以下各者组成之溶剂系统改良：(A)基本上由亚砜(例如DMSO)及磷酸烷基酯(例如磷酸三乙酯)中之至少一者组成之第一组分，及(B)视情况，基本上由至少一种非质子二醇醚(例如二丙二醇二甲醚)组成之第二组分。
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公开(公告)号：TW201829542A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106124022
申请日：2017-07-18
发明人： 金應圭 , KIM, EUNG KYU , 哈里斯 威廉J , HARRIS, WILLIAM J. , 蔣奇 , JIANG, QI , 姜鑫 , JIANG, XIN , 大場薰 , OHBA, KAORU
IPC分类号： C08G73/10
摘要： 藉由使用基本上由以下組成之溶劑體系改進用於合成聚(醯胺酸)聚合物或聚醯亞胺聚合物之方法：(A)基本上由N,N-二甲基丙醯胺(DMPA)組成之第一組分，以及(B)視情況，基本上由亞碸，例如DMSO；磷酸烷基酯，例如磷酸三乙酯及非質子二醇醚，例如丙二醇甲基醚乙酸酯中之至少一者組成之第二組分。
简体摘要： 借由使用基本上由以下组成之溶剂体系改进用于合成聚(酰胺酸)聚合物或聚酰亚胺聚合物之方法：(A)基本上由N,N-二甲基丙酰胺(DMPA)组成之第一组分，以及(B)视情况，基本上由亚砜，例如DMSO；磷酸烷基酯，例如磷酸三乙酯及非质子二醇醚，例如丙二醇甲基醚乙酸酯中之至少一者组成之第二组分。
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公开(公告)号：TW201814033A
公开(公告)日：2018-04-16
申请号：TW106124023
申请日：2017-07-18
发明人： 蔣奇 , JIANG, QI , 姜鑫 , JIANG, XIN , 金應圭 , KIM, EUNG KYU , 任華 , REN, HUA , 牟建海 , MU, JIANHAI , 大場薰 , OHBA, KAORU
IPC分类号： C11D3/44 , C11D7/50 , G03F7/42 , B08B3/08 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/426 , C11D3/43 , C11D7/5009 , C11D11/0047 , G03F7/425 , H01L21/00
摘要： 本發明關於尤其適用於自顯示器/半導體基板或電子加工設備移除光致抗蝕劑及聚(醯胺酸)/聚醯亞胺之溶劑，其主要由以下各項組成：(A)第一組分，其由亞碸，例如DMSO組成；(B)第二組分，其由二醇醚，例如乙二醇單丁基醚組成；以及(C)第三組分，其由以下各項中之至少一者組成：N-甲醯基嗎啉、N,N-二甲基丙醯胺、3-甲氧基-N,N-二甲基丙醯胺、磷酸三乙酯、N,N-二甲基乙醯胺、N,N-二乙基乙醯胺、N,N-二乙基丙醯胺、N-甲基乙醯胺、N-甲基丙醯胺、N-乙基乙醯胺以及N-乙基丙醯胺。
简体摘要： 本发明关于尤其适用于自显示器/半导体基板或电子加工设备移除光致抗蚀剂及聚(酰胺酸)/聚酰亚胺之溶剂，其主要由以下各项组成：(A)第一组分，其由亚砜，例如DMSO组成；(B)第二组分，其由二醇醚，例如乙二醇单丁基醚组成；以及(C)第三组分，其由以下各项中之至少一者组成：N-甲酰基吗啉、N,N-二甲基丙酰胺、3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺、磷酸三乙酯、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二乙基乙酰胺、N,N-二乙基丙酰胺、N-甲基乙酰胺、N-甲基丙酰胺、N-乙基乙酰胺以及N-乙基丙酰胺。
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