-
公开(公告)号：TW201446524A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：TW103106594
申请日：2014-02-26
发明人： 佛瑞 麥克 賓頓 , FREE, MICHAEL BENTON , 渥克 馬丁 賓森 , WOLK, MARTIN BENSON , 維哥馬汀 瑪格莉特 瑪莉 , VOGELMARTIN, MARGARET MARY , 史瓦玆 伊凡 勞倫斯 , SCHWARTZ, EVAN LAWRENCE , 馬茲瑞克 梅克茲史洛 漢瑞克 , MAZUREK, MIECZYSLAW HENRYK , 凱瑞斯 羅伯特 佛瑞德瑞克 , KAMRATH, ROBERT FREDRICK , 可立爾 泰瑞 歐迪爾 , COLLIER, TERRY ODELL , 賓森 歐雷斯特 二世 , BENSON, OLESTER, JR.
CPC分类号： B44C1/17 , B32B5/022 , B32B5/024 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B15/08 , B32B27/08 , B32B27/10 , B32B27/12 , B32B27/281 , B32B27/304 , B32B27/306 , B32B27/308 , B32B27/32 , B32B27/322 , B32B27/34 , B32B27/36 , B32B27/365 , B32B27/42 , B32B29/002 , B32B37/02 , B32B37/025 , B32B37/1009 , B32B2255/12 , B32B2255/26 , B32B2264/10 , B32B2264/108 , B32B2274/00 , B32B2307/308 , B32B2307/412 , B32B2307/418 , B32B2307/50 , B32B2307/538 , B32B2307/704 , B32B2307/714 , B32B2307/732 , B32B2307/734 , B32B2309/02 , B32B2309/04 , B32B2457/12 , B32B2457/20 , H01L51/003 , H01L51/5275 , Y10T156/10 , Y10T428/24521 , Y10T428/24545
摘要： 本發明揭示轉印膜、由其製得之物件及製造與使用包括嵌入式奈米結構之轉印膜的方法。該等物件包括一犧牲模板層及一熱穩定回填層，該犧牲模板層具有一第一表面及一與該第一表面相對之具有結構化表面的第二表面，且該熱穩定回填層經施加至該犧牲模板層之該第二表面。該熱穩定回填層具有與該犧牲模板層之該結構化表面仿形之結構化表面，且該犧牲模板層包含無機奈米材料及犧牲材料。該犧牲模板層中之該犧牲材料能夠經清潔烘烤，同時在該熱穩定回填層之該結構化表面上留下一無機奈米材料之緻密層。
简体摘要： 本发明揭示转印膜、由其制得之对象及制造与使用包括嵌入式奈米结构之转印膜的方法。该等对象包括一牺牲模板层及一热稳定回填层，该牺牲模板层具有一第一表面及一与该第一表面相对之具有结构化表面的第二表面，且该热稳定回填层经施加至该牺牲模板层之该第二表面。该热稳定回填层具有与该牺牲模板层之该结构化表面仿形之结构化表面，且该牺牲模板层包含无机奈米材料及牺牲材料。该牺牲模板层中之该牺牲材料能够经清洁烘烤，同时在该热稳定回填层之该结构化表面上留下一无机奈米材料之致密层。
-
公开(公告)号：TW201637835A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW104128196
申请日：2015-08-27
发明人： 可立爾 泰瑞 歐迪爾 , COLLIER, TERRY ODELL , 佛瑞 麥克 賓頓 , FREE, MICHAEL BENTON , 史瓦玆 伊凡 勞倫斯 , SCHWARTZ, EVAN LAWRENCE , 渥克 馬丁 賓森 , WOLK, MARTIN BENSON , 梅爾 賈斯汀 保羅 , MEYER, JUSTIN PAUL
CPC分类号： H01L51/56 , B32B3/263 , B32B3/28 , B32B3/30 , B32B27/08 , B32B2255/10 , B32B2255/20 , B32B2307/516 , B32B2457/20 , B44C1/00 , C03C17/007 , C03C17/42 , C03C2217/40 , H01L21/477 , H01L51/00 , H01L51/003 , H01L51/502 , H01L51/5268 , H01L51/5271 , H01L51/5275 , H01L2251/301 , H01L2251/5369 , Y10S977/90
摘要： 本文揭示用於使用轉印膜將奈米粒子與奈米線轉印到永久玻璃受體的方法。該等轉印膜包括奈米粒子於一犧牲材料內，該犧牲材料具有一結構化回填層於一基材上以及一奈米線配方於犧牲基材之間。為了轉印該等奈米粒子，將該轉印膜疊層到一玻璃受體，將該基材移除，且將該犧牲材料烘乾，以留下在該玻璃受體上之該回填層之該結構化表面內經對準的該等奈米粒子。為了轉印該等奈米線，將該轉印膜疊層到一玻璃受體，且將該等犧牲基材烘乾，以留下在該玻璃受體上經對準的該等奈米線。
简体摘要： 本文揭示用于使用转印膜将奈米粒子与奈米线转印到永久玻璃受体的方法。该等转印膜包括奈米粒子于一牺牲材料内，该牺牲材料具有一结构化回填层于一基材上以及一奈米线配方于牺牲基材之间。为了转印该等奈米粒子，将该转印膜叠层到一玻璃受体，将该基材移除，且将该牺牲材料烘干，以留下在该玻璃受体上之该回填层之该结构化表面内经对准的该等奈米粒子。为了转印该等奈米线，将该转印膜叠层到一玻璃受体，且将该等牺牲基材烘干，以留下在该玻璃受体上经对准的该等奈米线。
-
公开(公告)号：TW201618961A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW104127976
申请日：2015-08-26
发明人： 渥克 馬丁 賓森 , WOLK, MARTIN BENSON , 普賴瑞 馬克 詹姆士 , PELLERITE, MARK JAMES , 佛瑞 麥克 賓頓 , FREE, MICHAEL BENTON , 強生 史蒂芬 艾倫 , JOHNSON, STEPHEN ALLAN , 西米得 丹尼爾 傑可伯 , SCHMIDT, DANIEL JACOB , 可立爾 泰瑞 歐迪爾 , COLLIER, TERRY ODELL , 梅爾 賈斯汀 保羅 , MEYER, JUSTIN PAUL , 馬曉華 , MA, XIAOHUA
CPC分类号： B32B38/0036 , B32B37/025 , B32B38/10 , B32B2457/00 , B32B2457/10 , H01G4/308 , H01L51/003 , H01M6/005 , H01M10/02
摘要： 揭示轉印膜、由其製造之物品、及製造與使用轉印膜形成一電堆疊之方法。
简体摘要： 揭示转印膜、由其制造之物品、及制造与使用转印膜形成一电堆栈之方法。
-
公开(公告)号：TW201718242A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW105119189
申请日：2016-06-17
发明人： 渥克 馬丁 賓森 , WOLK, MARTIN BENSON , 泰茲克 丹尼斯 , TERZIC, DENIS , 梅茲樂 湯馬士 喬瑟夫 , METZLER, THOMAS JOSEPH , 挪曼森 米雪爾 湯瑪斯 , NOMMENSEN, MITCHELL THOMAS , 卡本特 山謬爾 約翰 , CARPENTER, SAMUEL JOHN , 帕堤爾 蘇曼 卡利安吉 , PATEL, SUMAN KALYANJI , 皮庫羅維斯奇 米克漢爾 里歐尼多維奇 , PEKUROVSKY, MIKHAIL LEONIDOVICH , 可立爾 泰瑞 歐迪爾 , COLLIER, TERRY ODELL , 彼特森 唐勞德 喬治 , PETERSON, DONALD GEORGE
CPC分类号： B32B3/30 , B32B3/10 , B32B3/16 , B32B5/022 , B32B7/02 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B15/04 , B32B15/08 , B32B17/064 , B32B27/08 , B32B27/10 , B32B27/12 , B32B27/281 , B32B27/283 , B32B27/302 , B32B27/308 , B32B27/36 , B32B29/002 , B32B33/00 , B32B2255/10 , B32B2255/205 , B32B2255/26 , B32B2255/28 , B32B2264/10 , B32B2270/00 , B32B2307/40 , B32B2307/4023 , B32B2307/418 , B32B2307/748 , B32B2307/75 , B32B2405/00 , B32B2451/00 , B32B2457/12 , B32B2457/14 , B32B2457/20 , B32B2551/00 , B32B2605/003 , G02B6/0053
摘要： 本揭露關於轉移膠帶(分段式及非分段式)，該等轉移膠帶包括至少一個圖像層。該等轉移膠帶包括一可移除模板層、一包括一回填層(該回填層具有至少一個第一圖像層)及一黏著層之轉移層。分段式轉移膠帶進一步於該分段式轉移膠帶中包括至少一個可轉移區段、至少一個不可轉移區段，且包括至少一個截口。本揭露亦提供光學總成(例如，微光學總成)，其可自包括至少一個圖像層之轉移膠帶製造。本揭露亦提供形成轉移膠帶之方法及製作微光學總成之方法。
简体摘要： 本揭露关于转移胶带(分段式及非分段式)，该等转移胶带包括至少一个图像层。该等转移胶带包括一可移除模板层、一包括一回填层(该回填层具有至少一个第一图像层)及一黏着层之转移层。分段式转移胶带进一步于该分段式转移胶带中包括至少一个可转移区段、至少一个不可转移区段，且包括至少一个截口。本揭露亦提供光学总成(例如，微光学总成)，其可自包括至少一个图像层之转移胶带制造。本揭露亦提供形成转移胶带之方法及制作微光学总成之方法。
-
公开(公告)号：TW201716682A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105119197
申请日：2016-06-17
发明人： 渥克 馬丁 賓森 , WOLK, MARTIN BENSON , 泰茲克 丹尼斯 , TERZIC, DENIS , 麥茲勒 湯瑪士 喬瑟夫 , METZLER, THOMAS JOSEPH , 諾曼森 米契爾 湯瑪士 , NOMMENSEN, MITCHELL THOMAS , 卡本特 山謬爾 約翰 , CARPENTER, SAMUEL JOHN , 帕堤爾 蘇曼 卡利安吉 , PATEL, SUMAN KALYANJI , 皮庫羅維斯奇 米克漢爾 里歐尼多維奇 , PEKUROVSKY, MIKHAIL LEONIDOVICH , 可立爾 泰瑞 歐迪爾 , COLLIER, TERRY ODELL , 彼特森 唐勞德 喬治 , PETERSON, DONALD GEORGE
CPC分类号： G02B5/124 , B32B37/025 , E06B3/6604 , G02B5/045 , H01L51/5275
摘要： 本揭露係關於微光學總成，其含有黏附至一受體基材(receptor substrate)(例如，一透明受體基材)之至少一光學元件，該受體基材含有至少一圖像層。該微光學總成包括功能性微光學結構及一圖像層兩者，功能性微光學結構可改變例如入射光，圖像層則包括至少一圖像(例如，一圖像設計)，其可包括色彩、圖案、影像、標記、及其類似物。該等微光學元件與該圖像層之圖像的組合可提供獨特的變光總成，該等變光總成具有可為功能性(例如，顯示一訊息)及/或具有美感價值的圖像設計。本揭露之微光學總成可用於各種應用中，各種應用包括但不限於顯示及圖像應用以及建築玻璃應用。本揭露亦提供一種製作本揭露之微光學總成的方法。
简体摘要： 本揭露系关于微光学总成，其含有黏附至一受体基材(receptor substrate)(例如，一透明受体基材)之至少一光学组件，该受体基材含有至少一图像层。该微光学总成包括功能性微光学结构及一图像层两者，功能性微光学结构可改变例如入射光，图像层则包括至少一图像(例如，一图像设计)，其可包括色彩、图案、影像、标记、及其类似物。该等微光学组件与该图像层之图像的组合可提供独特的变光总成，该等变光总成具有可为功能性(例如，显示一消息)及/或具有美感价值的图像设计。本揭露之微光学总成可用于各种应用中，各种应用包括但不限于显示及图像应用以及建筑玻璃应用。本揭露亦提供一种制作本揭露之微光学总成的方法。
-
公开(公告)号：TW201613762A
公开(公告)日：2016-04-16
申请号：TW104127985
申请日：2015-08-26
发明人： 渥克 馬丁 賓森 , WOLK, MARTIN BENSON , 佛瑞 麥克 賓頓 , FREE, MICHAEL BENTON , 西米得 丹尼爾 傑可伯 , SCHMIDT, DANIEL JACOB , 普賴瑞 馬克 詹姆士 , PELLERITE, MARK JAMES , 凱瑞斯 羅伯特 佛瑞德瑞克 , KAMRATH, ROBERT FREDRICK , 強生 史蒂芬 艾倫 , JOHNSON, STEPHEN ALLAN , 可立爾 泰瑞 歐迪爾 , COLLIER, TERRY ODELL , 曼梭爾 海法 , MANSOUR, HAEFA
CPC分类号： B32B37/025 , B29C47/00 , B29C47/0021 , B29C47/065 , B32B7/12 , B32B27/283 , B32B37/06 , B32B2307/416 , B32B2307/418 , B32B2315/08 , B32B2457/20 , B32B2551/00 , H01L21/022 , H01L21/02216 , H01L33/46 , H01L51/003 , Y02E10/549
摘要： 揭示轉印膜、由其製造之物品、及製造與使用轉印膜形成一無機光學堆疊之方法。
简体摘要： 揭示转印膜、由其制造之物品、及制造与使用转印膜形成一无机光学堆栈之方法。
-
公开(公告)号：TW201541678A
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW104101712
申请日：2015-01-19
发明人： 史瓦玆 伊凡 勞倫斯 , SCHWARTZ, EVAN LAWRENCE , 可立爾 泰瑞 歐迪爾 , COLLIER, TERRY ODELL , 梅爾 賈斯汀 保羅 , MEYER, JUSTIN PAUL , 佛瑞 麥克 賓頓 , FREE, MICHAEL BENTON , 賓森 歐雷斯特 二世 , BENSON, OLESTER, JR. , 凱瑞斯 羅伯特 佛瑞德瑞克 , KAMRATH, ROBERT FREDRICK , 馬茲瑞克 梅克茲史洛 漢瑞克 , MAZUREK, MIECZYSLAW HENRYK , 尚妮 K 瑞比許 , SHENOY, K. RAVEESH , 歐爾森 大衛 布雷得利 , OLSON, DAVID BRADLEY , 渥克 馬丁 賓森 , WOLK, MARTIN BENSON
IPC分类号： H01L51/50 , H01L31/042 , B82B3/00
CPC分类号： B32B3/263 , B29D11/00788 , B29K2083/00 , B29K2995/0018 , B32B27/308 , B32B37/18 , B32B38/0036 , B32B38/06 , B32B38/1858 , B32B2037/1253 , B32B2250/02 , B32B2309/10 , B32B2310/0831 , B32B2419/00 , B32B2457/00 , B32B2457/12 , G03F7/091 , H01L51/0024 , H01L51/0096 , H01L51/5275 , H01L51/5281 , H01L2251/5307 , H01L2251/5315 , Y10T156/10 , Y10T428/24521
摘要： 所揭露者為轉印膜、以其製成之物品、以及製造與使用轉印膜以形成橋聯奈米結構之方法。
简体摘要： 所揭露者为转印膜、以其制成之物品、以及制造与使用转印膜以形成桥联奈米结构之方法。
-
-
-
-
-
-
搜索结果
7 条记录 (耗时 0.023 秒)
