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    微影裝置之校準方法、使用該方法之微影裝置及元件製造方法
    1.
    发明专利
    微影裝置之校準方法、使用該方法之微影裝置及元件製造方法 审中-公开
    微影设备之校准方法、使用该方法之微影设备及组件制造方法

    公开(公告)号：TW201706725A

    公开(公告)日：2017-02-16

    申请号：TW105119221

    申请日：2016-06-17

    申请人： ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

    发明人： 舒密特 韋佛 艾密爾 彼得 ,  SCHMITT-WEAVER, EMIL PETER ,  史戴克 詹司 ,  史崔爾 科納德 瑞米 安德烈 瑪莉亞 ,  渥克曼 羅伊 ,  WERKMAN, ROY

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F9/7019 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70633 ,  G05B19/4097 ,  G05B2219/35012 ,  G05B2219/45028 ,  G05B2219/45031

    摘要： 一第一基板2002具有藉由一微影裝置而施加至第一複數個場2004之一校準圖案。另外基板2006、2010具有經施加至另外複數個場2008、2012之校準圖案。該不同複數個場具有不同大小及/或形狀及/或位置。對該等經圖案化基板2002、2006、2010執行校準量測且該等校準量測用以獲得用於在將產品圖案施加至後續基板時控制該裝置之校正。表示該裝置在兩個或兩個以上不同尺寸之場(在此實例中為場2004、2008、2012)上之效能的量測資料一起收集於一資料庫2013中，且該量測資料用以合成針對一新大小校準該裝置所需之資訊。亦針對不同掃描及步進方向獲得校準資料。

    简体摘要： 一第一基板2002具有借由一微影设备而施加至第一复数个场2004之一校准图案。另外基板2006、2010具有经施加至另外复数个场2008、2012之校准图案。该不同复数个场具有不同大小及/或形状及/或位置。对该等经图案化基板2002、2006、2010运行校准量测且该等校准量测用以获得用于在将产品图案施加至后续基板时控制该设备之校正。表示该设备在两个或两个以上不同尺寸之场(在此实例中为场2004、2008、2012)上之性能的量测数据一起收集于一数据库2013中，且该量测数据用以合成针对一新大小校准该设备所需之信息。亦针对不同扫描及步进方向获得校准数据。