公开(公告)号：TWI621926B

公开(公告)日：2018-04-21

申请号：TW105119188

申请日：2016-06-17

申请人： ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

发明人： 斯威尼恩 藍絲 亨德利客 珍 瑪麗亞 ,  SWAENEN, LENSE HENDRIK-JAN MARIA ,  巴賽曼 喬納斯 喬可巴斯 麥修斯 ,  BASELMANS, JOHANNES JACOBUS MATHEUS ,  雷帝 波嘉西 凡思奴 瓦爾哈納 ,  REDDY, BOGATHI VISHNU VARDHANA ,  提那曼斯 派翠西斯 阿若瑟斯 約克伯 ,  TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS ,  納帝福 皮爾利 ,  NATIV, BEERI

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/7055 ,  G03F7/20 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70525

公开(公告)号：TWI618997B

公开(公告)日：2018-03-21

申请号：TW105132456

申请日：2016-10-06

申请人： ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

发明人： 伊瑪 亞力山大 ,  YPMA, ALEXANDER ,  戴克司 大衛 法蘭斯 賽門 ,  DECKERS, DAVID FRANS SIMON ,  班捷恩 法蘭西斯科 哥登法蘭德斯 凱司柏 ,  BIJNEN, FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER ,  凡 哈倫 理查 喬哈奈 法蘭西卡斯 ,  VAN HAREN, RICHARD JOHANNES FRANCISCUS ,  寇偉田 ,  KOU, WEITIAN

IPC分类号： G05B19/418 ,  G03F7/20

CPC分类号： G05B19/41875 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70641 ,  G03F9/7092 ,  G05B2219/45031 ,  Y02P90/22

公开(公告)号：TWI618990B

公开(公告)日：2018-03-21

申请号：TW105142238

申请日：2016-12-20

申请人： ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V.

发明人： 希尼 保羅 克利絲丁安 ,  HINNEN, PAUL CHRISTIAAN ,  麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 ,  MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS ,  葛森 邁可 羅伯特 ,  GOOSEN, MAIKEL ROBERT ,  凡 德 斯加 毛瑞斯 ,  VAN DER SCHAAR, MAURITS ,  丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 ,  DEN BOEF, ARIE JEFFREY

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70525 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/70683 ,  G03F7/7085

公开(公告)号：TW201741762A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：TW106115229

申请日：2017-05-09

申请人： ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

发明人： 蘇靜 ,  SU, JING ,  鄒毅 ,  ZOU, YI ,  林晨希 ,  LIN, CHENXI ,  亨奇 史蒂芬 ,  HUNSCHE, STEFAN ,  喬錢森 馬利那 ,  JOCHEMSEN, MARINUS ,  盧 彥文 ,  LU, YEN-WEN ,  鍾 玲莉 ,  CHEONG, LIN LEE

IPC分类号： G03F1/70 ,  G06F17/50 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/705 ,  G03F7/70525 ,  G06F17/5081 ,  G06K9/6255 ,  G06K2209/19 ,  G06T7/0004 ,  G06T2207/20081 ,  G06T2207/30148

摘要： 本文中揭示使用一機器學習模型自一設計佈局辨識一熱點或預測一設計佈局中之一圖案是否有缺陷的各種方法。本文中所揭示之一實例方法包括：獲得熱點分別在一器件製造程序中分別在複數個處理程序條件下之效能特性的集合；針對該等處理程序條件中之每一者，針對該等熱點中之每一者，基於彼處理程序條件下之該等特性來判定彼熱點是否有缺陷；獲得該等處理程序條件中之每一者的特性；獲得該等熱點中之每一者的特性；及使用一訓練集來訓練一機器學習模型，該訓練集包含該等處理程序條件中之每一者的該等特性、該等熱點中之每一者的該等特性及彼熱點在彼處理程序條件下是否有缺陷。

简体摘要： 本文中揭示使用一机器学习模型自一设计布局辨识一热点或预测一设计布局中之一图案是否有缺陷的各种方法。本文中所揭示之一实例方法包括：获得热点分别在一器件制造进程中分别在复数个处理进程条件下之性能特性的集合；针对该等处理进程条件中之每一者，针对该等热点中之每一者，基于彼处理进程条件下之该等特性来判定彼热点是否有缺陷；获得该等处理进程条件中之每一者的特性；获得该等热点中之每一者的特性；及使用一训练集来训练一机器学习模型，该训练集包含该等处理进程条件中之每一者的该等特性、该等热点中之每一者的该等特性及彼热点在彼处理进程条件下是否有缺陷。

公开(公告)号：TWI587101B

公开(公告)日：2017-06-11

申请号：TW104117218

申请日：2015-05-28

申请人： ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

发明人： 克拉默 皮耶特 雅各 ,  KRAMER, PIETER JACOB ,  吉利詹姆西 羅吉爾 ,  GILIJAMSE, ROGIER ,  拉姆斯 尼爾斯 ,  LAMMERS, NIELS ,  史拉特伯恩 唐恩 毛瑞斯 ,  SLOTBOOM, DAAN MAURITS

IPC分类号： G03F9/00

CPC分类号： G03F9/7046 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/706 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70775 ,  G03F9/7003 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7073

公开(公告)号：TW201716877A

公开(公告)日：2017-05-16

申请号：TW105118631

申请日：2016-06-14

申请人： ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

发明人： 泰爾 溫 提波 ,  TEL, WIM TJIBBO ,  史達爾 法蘭克 ,  STAALS, FRANK ,  莫斯羅 馬克 約翰 ,  MASLOW, MARK JOHN

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70525 ,  G03F7/70891

摘要： 本文中揭示一種用於調整一微影製程之電腦實施方法，該微影製程之處理參數包含處理參數之一第一群組及處理參數之一第二群組，該方法包含：獲得處理參數之該第二群組之一改變；判定由處理參數之該第二群組之該改變引起的一子製程窗(PW)之一改變，其中該子PW係僅由處理參數之該第一群組展成；基於該子PW之該改變而調整處理參數之該第一群組。

简体摘要： 本文中揭示一种用于调整一微影制程之电脑实施方法，该微影制程之处理参数包含处理参数之一第一群组及处理参数之一第二群组，该方法包含：获得处理参数之该第二群组之一改变；判定由处理参数之该第二群组之该改变引起的一子制程窗(PW)之一改变，其中该子PW系仅由处理参数之该第一群组展成；基于该子PW之该改变而调整处理参数之该第一群组。

公开(公告)号：TW201702588A

公开(公告)日：2017-01-16

申请号：TW105110794

申请日：2016-04-06

申请人： 克萊譚克公司 ,  KLA-TENCOR CORPORATION

发明人： 賴威 艾迪 ,  LEVY, ADY ,  坎德爾 丹尼爾 ,  KANDEL, DANIEL ,  艾黛兒 麥克E ,  ADEL, MICHAEL E. ,  波斯拉夫斯基 李奧尼多 ,  POSLAVSKY, LEONID ,  羅賓森 約翰 ,  ROBINSON, JOHN ,  馬西安諾 托爾 ,  MARCIANO, TAL ,  布蘭歐里茲 巴瑞克 ,  BRINGOLTZ, BARAK ,  格朗茲威格 塔札希 ,  GRUNZWEIG, TZAHI ,  克林 丹那 ,  KLEIN, DANA ,  伊茲卡維奇 托爾 ,  ITZKOVICH, TAL ,  卡梅爾 納達夫 ,  CARMEL, NADAV ,  艾米爾 紐瑞爾 ,  AMIR, NURIEL ,  雷曼那森 維狄亞 ,  RAMANATHAN, VIDYA ,  坎普 珍納 ,  CAMP, JANAY ,  瓦格納 馬克 ,  WAGNER, MARK

IPC分类号： G01N21/95 ,  G01N21/21 ,  G01B11/27 ,  H01L21/66

CPC分类号： G01B11/272 ,  G01N21/211 ,  G01N21/31 ,  G01N21/41 ,  G01N21/4738 ,  G01N21/4788 ,  G01N21/6489 ,  G01N21/9501 ,  G01N2021/213 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70533 ,  G03F7/70616

摘要： 本發明揭示一種度量衡效能分析系統，其包含含有一或多個偵測器之一度量衡工具及通信地耦合至該一或多個偵測器之一控制器。該控制器經組態以自該度量衡工具接收相關聯於一度量衡目標之一或多個度量衡資料集，其中該一或多個度量衡資料集包含一或多個經量測度量衡度量且該一或多個經量測度量衡度量指示自標稱值之偏差。該控制器進一步經組態以判定介於自該等標稱值之該等偏差與一或多個選定半導體程序變動之間的關係，且基於介於該一或多個度量衡度量之值與該一或多個選定半導體程序變動之間的該等關係來判定自該等標稱值之該等偏差之一或多個根本原因。

简体摘要： 本发明揭示一种度量衡性能分析系统，其包含含有一或多个侦测器之一度量衡工具及通信地耦合至该一或多个侦测器之一控制器。该控制器经组态以自该度量衡工具接收相关联于一度量衡目标之一或多个度量衡数据集，其中该一或多个度量衡数据集包含一或多个经量测度量衡度量且该一或多个经量测度量衡度量指示自标称值之偏差。该控制器进一步经组态以判定介于自该等标称值之该等偏差与一或多个选定半导体进程变动之间的关系，且基于介于该一或多个度量衡度量之值与该一或多个选定半导体进程变动之间的该等关系来判定自该等标称值之该等偏差之一或多个根本原因。

公开(公告)号：TWI547971B

公开(公告)日：2016-09-01

申请号：TW102133365

申请日：2004-07-28

申请人： 尼康股份有限公司 ,  NIKON CORPORATION

发明人： 馬込伸貴 ,  MAGOME, NOBUTAKA ,  小林直行 ,  KOBAYASHI, NAOYUKI ,  榊原康之 ,  SAKAKIBARA, YASUYUKI ,  高岩宏明 ,  TAKAIWA, HIROAKI

IPC分类号： H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70866 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/709

公开(公告)号：TWI524152B

公开(公告)日：2016-03-01

申请号：TW100139458

申请日：2011-10-28

申请人： ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

发明人： 馮漢鷹 ,  FENG, HANYING ,  曹育 ,  CAO, YU ,  葉金 ,  YE, JUN

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F1/144 ,  G03F1/02 ,  G03F1/20 ,  G03F1/24 ,  G03F1/26 ,  G03F1/38 ,  G03F1/50 ,  G03F1/72 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70525 ,  G06F17/10 ,  G06F17/5009 ,  G06F17/5081 ,  G06F19/00 ,  G06F2217/12 ,  G06F2217/14 ,  G21K5/00 ,  Y02P90/265

公开(公告)号：TW201514638A

公开(公告)日：2015-04-16

申请号：TW103127675

申请日：2014-08-12

申请人： ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

发明人： 何根邦 湯瑪斯 里歐 瑪利亞 ,  HOOGENBOOM, THOMAS LEO MARIA ,  漢基 沃夫甘 ,  HENKE, WOLFGANG ,  伊錫克森 帕維爾 ,  IZIKSON, PAVEL ,  路荷曼 保羅 法蘭克 ,  LUEHRMANN, PAUL FRANK ,  舒密特 韋佛 艾密爾 彼得 ,  SCHMITT-WEAVER, EMIL PETER ,  史拉特伯恩 唐恩 毛瑞斯 ,  SLOTBOOM, DAAN MAURITS ,  史戴克 詹司 ,  STAECKER, JENS ,  伊瑪 亞力山大 ,  YPMA, ALEXANDER

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70516 ,  G03F7/70491 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633

摘要： 本發明揭示一種經組態以將一圖案施加至一基板之微影系統，該系統包括：一微影裝置，其經組態以根據該圖案而曝光該基板之一層；及一機器學習控制器，其經組態以控制該微影系統以最佳化該圖案之一屬性，該機器學習控制器經組態以基於由一度量衡單元量測之一屬性予以訓練，該度量衡單元經組態以量測該層中之該經曝光圖案之該屬性及/或與將該圖案曝光至該基板上相關聯之一屬性，且該機器學習控制器經組態以藉由調整選自如下各者之一或多者來校正微影系統漂移：該微影裝置；一塗佈顯影系統單元，其經組態以將該層施加於該基板上以用於微影曝光；及/或一控制單元，其經組態以控制該塗佈顯影系統單元、該微影裝置與該度量衡單元之間的一自動基板流動。

简体摘要： 本发明揭示一种经组态以将一图案施加至一基板之微影系统，该系统包括：一微影设备，其经组态以根据该图案而曝光该基板之一层；及一机器学习控制器，其经组态以控制该微影系统以最优化该图案之一属性，该机器学习控制器经组态以基于由一度量衡单元量测之一属性予以训练，该度量衡单元经组态以量测该层中之该经曝光图案之该属性及/或与将该图案曝光至该基板上相关联之一属性，且该机器学习控制器经组态以借由调整选自如下各者之一或多者来校正微影系统漂移：该微影设备；一涂布显影系统单元，其经组态以将该层施加于该基板上以用于微影曝光；及/或一控制单元，其经组态以控制该涂布显影系统单元、该微影设备与该度量衡单元之间的一自动基板流动。