公开(公告)号：TWI598703B

公开(公告)日：2017-09-11

申请号：TW105138170

申请日：2014-02-14

申请人： 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

发明人： 志村悟 ,  SHIMURA,SATORU ,  岩尾文子 ,  IWAO,FUMIKO ,  吉原孝介 ,  YOSHIHARA,KOUSUKE

IPC分类号： G03F7/40 ,  B05D3/02 ,  B05D3/06

CPC分类号： H01L21/02348 ,  B05C9/12 ,  B05C9/14 ,  B05C11/08 ,  B05C11/1015 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/31055 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L22/12 ,  H01L22/20 ,  H01L22/26

公开(公告)号：TW201404478A

公开(公告)日：2014-02-01

申请号：TW102119834

申请日：2013-06-04

申请人： 日東電工股份有限公司 ,  NITTO DENKO CORPORATION

发明人： 北村喜弘 ,  KITAMURA, YOSHIHIRO ,  松尾洋 ,  MATSUO, HIROSHI ,  佐木曉 ,  SAKI, AKIRA

IPC分类号： B05D1/28

CPC分类号： B05C9/12 ,  B05C5/0245 ,  B05C5/0254 ,  B05C9/14 ,  B05C13/00 ,  B65H18/103 ,  B65H2301/517 ,  B65H2402/10

摘要： 本發明提供一種塗覆裝置，其可對應產品原料、或塗佈次數、織物之塗佈面等之變更，實現塗覆裝置之一部分或整體之流跡線之彈性變更。本發明之塗覆裝置1之特徵為：包含供給區域3，其具有輸出織物T之供給輥11；塗佈區域5，其具有塗佈塗佈液之塗佈機機構12；乾燥區域7，其使塗佈液乾燥；及捲繞區域9，其具有捲繞織物T之捲繞輥17；且塗佈區域5將1條以上之進料輥18與塗佈機機構12配置於長方體狀之區劃空間21內，作為整體構成單一之塗佈單元6，該塗佈單元6係以織物T自包圍上述進料輥18之周面而存在之4個虛設面21a~21d之任一面均可進出之方式構成。

简体摘要： 本发明提供一种涂覆设备，其可对应产品原料、或涂布次数、织物之涂布面等之变更，实现涂覆设备之一部分或整体之流迹线之弹性变更。本发明之涂覆设备1之特征为：包含供给区域3，其具有输出织物T之供给辊11；涂布区域5，其具有涂布涂布液之涂布机机构12；干燥区域7，其使涂布液干燥；及卷绕区域9，其具有卷绕织物T之卷绕辊17；且涂布区域5将1条以上之进料辊18与涂布机机构12配置于长方体状之区划空间21内，作为整体构成单一之涂布单元6，该涂布单元6系以织物T自包围上述进料辊18之周面而存在之4个虚设面21a~21d之任一面均可进出之方式构成。

公开(公告)号：TW201036804A

公开(公告)日：2010-10-16

申请号：TW098135297

申请日：2009-10-19

申请人： 3D系統公司

发明人： 王鴻秦 ,  邱順春 ,  哈爾 查爾斯W ,  葛瑞格二世 理查 歐拉 ,  柯瑞柯斯 湯瑪士 艾倫

IPC分类号： B29C

CPC分类号： B29C64/129 ,  B05C9/12 ,  B33Y10/00 ,  B33Y40/00 ,  B33Y50/00

摘要： 本發明提供用於補償三維製模器中所使用之成像器之強度剖面之方法及設備。自該成像器投射之光化學輻射之該強度剖面係藉由各種技術確定，該等技術包括但不限於手動操作感測器、經曝露且經掃描之對光化學輻射敏感的紙及強度剖面儀。一旦確定該成像器之該強度剖面，便藉由投射複數個界定正被固化之部件之二維剖面之圖案(與一單個圖案相反)固化每一層可凝固液體材料。該等圖案在與該強度剖面相關之持續時間、數目及/或形狀方面不同以使得一單層選擇性地固化之可凝固液體材料係藉助每單位表面積一大致相等(或以其他方式受控)量之光化學輻射固化以提供大體受控及一致的部件品質。

简体摘要： 本发明提供用于补偿三维制模器中所使用之成像器之强度剖面之方法及设备。自该成像器投射之光化学辐射之该强度剖面系借由各种技术确定，该等技术包括但不限于手动操作传感器、经曝露且经扫描之对光化学辐射敏感的纸及强度剖面仪。一旦确定该成像器之该强度剖面，便借由投射复数个界定正被固化之部件之二维剖面之图案(与一单个图案相反)固化每一层可凝固液体材料。该等图案在与该强度剖面相关之持续时间、数目及/或形状方面不同以使得一单层选择性地固化之可凝固液体材料系借助每单位表面积一大致相等(或以其他方式受控)量之光化学辐射固化以提供大体受控及一致的部件品质。

公开(公告)号：TWI266964B

公开(公告)日：2006-11-21

申请号：TW094115923

申请日：2005-05-17

申请人： ASML荷蘭公司 ASML NETHERLANDS B. V.

发明人： 包伯 史脆卡克 STREEFKERK, BOB ,  史喬德 尼可拉斯 萊伯特斯 當德斯 DONDERS, SJOERD, NICOLAAS, LAMBERTUS ,  艾瑞克 羅勒夫 魯博史特 LOOPSTRA, ERIK, ROELOF ,  强納斯 凱瑟尼斯 賀伯特斯 馬肯斯 MULKENS, JOHANNES, CATHARINUS, HUBERTUS

IPC分类号： G03F

CPC分类号： G03F7/70875 ,  B05C9/12 ,  G03F7/70341

摘要： 本發明揭示一種微影投影裝置，其中一液體供應系統在投影系統之一最終元件與基板之間提供一浸泡液體。提供一主動乾燥站以在浸泡該基板後從該基板W或其他物件主動移除浸泡液體。

简体摘要： 本发明揭示一种微影投影设备，其中一液体供应系统在投影系统之一最终组件与基板之间提供一浸泡液体。提供一主动干燥站以在浸泡该基板后从该基板W或其他对象主动移除浸泡液体。

公开(公告)号：TW200601431A

公开(公告)日：2006-01-01

申请号：TW094119845

申请日：2005-06-15

申请人： 松下電器產業股份有限公司 MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.

发明人： 水戶秀明 MITO, HIDEAKI

IPC分类号： H01L ,  G03F ,  B05D

CPC分类号： B05C5/0216 ,  B05C5/027 ,  B05C9/12 ,  B05C11/1039

摘要： 本發明係關於一種藥液塗敷裝置及藥液塗敷方法。本發明的目的係在於：能夠在不使用複雜的設備結構的情況下，在短時間內進行圖案形成。藥液塗敷裝置(塗敷器)，包括：保持基板1的晶圓吸盤6；用於對被晶圓吸盤6保持的基板1上塗敷藥液8的塗敷噴嘴3；算出塗敷噴嘴3與設置在基板1上的測量標記2的相對位置的基板位置測量機構4；以及在存儲用以在基板1上形成圖案的圖案資訊的同時，根據上述相對位置和上述圖案資訊進行塗敷噴嘴3的驅動控制及藥液提供控制的電腦5。

简体摘要： 本发明系关于一种药液涂敷设备及药液涂敷方法。本发明的目的系在于：能够在不使用复杂的设备结构的情况下，在短时间内进行图案形成。药液涂敷设备(涂敷器)，包括：保持基板1的晶圆吸盘6；用于对被晶圆吸盘6保持的基板1上涂敷药液8的涂敷喷嘴3；算出涂敷喷嘴3与设置在基板1上的测量标记2的相对位置的基板位置测量机构4；以及在存储用以在基板1上形成图案的图案信息的同时，根据上述相对位置和上述图案信息进行涂敷喷嘴3的驱动控制及药液提供控制的电脑5。

公开(公告)号：TW201623014A

公开(公告)日：2016-07-01

申请号：TW104123212

申请日：2015-07-17

申请人： 巴柏斯特麥克斯合資公司 ,  BOBST MEX SA

发明人： 艾比 史帝夫 ,  AEBY, STEVE ,  寶丁 帕斯卡 ,  BAUDIN, PASCAL

IPC分类号： B41F9/16

CPC分类号： B05C1/0834 ,  B05C9/10 ,  B05C9/12 ,  B41F23/08 ,  B41J2/01 ,  B41J11/0015

摘要： 在用於平坦媒介物之印刷機中的用於在平坦媒介物之表面之全部或一部分或平坦媒介物之表面之一部分上塗布塗層物質之塗層單元，該塗層單元包括：施配器滾筒(11)，其被旋轉驅動(T)並且能夠抵靠著媒介物之表面之全部或一部分定位以便向其塗布該物質；網紋滾筒(13)，其被旋轉驅動(S)，抵靠著該施配器滾筒(11)定位，並且用該物質覆蓋該施配器滾筒(11)；以及使得可向該網紋滾筒(13)提供該物質之供應系統(14)，該供應系統裝配有物質罐、泵、使物質循環之構件，及抵靠著該網紋滾筒(13)施用以便向其提供物質的裝置(16)。 該塗層單元此外包括回收系統(18)，該回收系統相對於該施配器滾筒(11)安裝於下游並且能夠抵靠著該施配器滾筒(11)定位，以便回收該滾筒(11)上之過量物質。

简体摘要： 在用于平坦媒介物之印刷机中的用于在平坦媒介物之表面之全部或一部分或平坦媒介物之表面之一部分上涂布涂层物质之涂层单元，该涂层单元包括：施配器滚筒(11)，其被旋转驱动(T)并且能够抵靠着媒介物之表面之全部或一部分定位以便向其涂布该物质；网纹滚筒(13)，其被旋转驱动(S)，抵靠着该施配器滚筒(11)定位，并且用该物质覆盖该施配器滚筒(11)；以及使得可向该网纹滚筒(13)提供该物质之供应系统(14)，该供应系统装配有物质罐、泵、使物质循环之构件，及抵靠着该网纹滚筒(13)施用以便向其提供物质的设备(16)。 该涂层单元此外包括回收系统(18)，该回收系统相对于该施配器滚筒(11)安装于下游并且能够抵靠着该施配器滚筒(11)定位，以便回收该滚筒(11)上之过量物质。

公开(公告)号：TW201509627A

公开(公告)日：2015-03-16

申请号：TW103122483

申请日：2014-06-30

申请人： NTT股份有限公司 ,  N. T. T. S. R. L.

发明人： 摩伊歐里 安德瑞諾 ,  MOIOLI, ADRIANO ,  波瑞 馬里歐 ,  BORRI, MARIO

IPC分类号： B29C41/28 ,  B29C41/30 ,  B29C41/50 ,  B29C70/06 ,  B29C70/50 ,  B29C35/10 ,  B29D7/01

CPC分类号： B29C71/00 ,  B05C5/0245 ,  B05C9/12 ,  B05C9/14 ,  B05C11/04 ,  B05D1/286 ,  B05D1/40 ,  B05D3/0254 ,  C08G18/3212 ,  C09D175/04 ,  D06N3/0097 ,  D06N3/14 ,  C08G18/10 ,  C08G18/6674

摘要： 本發明係揭示一種以連續方式製造薄膜/薄片或複合材料的方法，其包含下列階段：a)製備待展開的雙組分混合物，並將混合物進料至展開階段，其中混合物係於其本身適用期內以連續方式製備、進料、及配置；b)將混合物展開於至少一基材上，其中在基材上的展開及輸送至交聯階段係於混合物適用期內完成；c)於環境靜態條件下及包含介於50℃與100℃間之可變溫度下，於該基材上進行混合物層交聯，所製造之塗佈產物的溫度值的控制係以連續方式進行，其中基材展開物在交聯階段期間之輸送係於基材展開物之平坦條件下進行。本發明亦揭示相關裝置。

简体摘要： 本发明系揭示一种以连续方式制造薄膜/薄片或复合材料的方法，其包含下列阶段：a)制备待展开的双组分混合物，并将混合物进料至展开阶段，其中混合物系于其本身适用期内以连续方式制备、进料、及配置；b)将混合物展开于至少一基材上，其中在基材上的展开及输送至交联阶段系于混合物适用期内完成；c)于环境静态条件下及包含介于50℃与100℃间之可变温度下，于该基材上进行混合物层交联，所制造之涂布产物的温度值的控制系以连续方式进行，其中基材展开物在交联阶段期间之输送系于基材展开物之平坦条件下进行。本发明亦揭示相关设备。

公开(公告)号：TW201442886A

公开(公告)日：2014-11-16

申请号：TW103102966

申请日：2014-01-27

申请人： 英派爾科技開發有限公司 ,  EMPIRE TECHNOLOGY DEVELOPMENT LLC

发明人： 王奕楊 ,  WANG, YIYANG ,  萬 峰 ,  WAN, FENG

IPC分类号： B41J11/20

CPC分类号： B05B12/084 ,  B05C9/12 ,  B05C11/1002 ,  B41J11/46 ,  G01B11/27

摘要： 敘述了用於在一印刷處理期間偵測基板對準的方法與系統。在一具體實施例中，一種印刷設備可包含一設備偏光區域。一基板可配置有一基板偏光區域。該基板在印刷期間可配置於於該印刷設備上，使得該基板偏光區域重疊於該設備偏光區域而形成一對準區域。在印刷期間，光可照射至該對準區域上而產生偏光。該偏光可由一偏光接收裝置接收。可監測由該偏光接收裝置所接收的光的特性的改變。該等改變可表示該基板並未適當地對準，來用於該印刷裝置上的印刷。

简体摘要： 叙述了用于在一印刷处理期间侦测基板对准的方法与系统。在一具体实施例中，一种印刷设备可包含一设备偏光区域。一基板可配置有一基板偏光区域。该基板在印刷期间可配置于于该印刷设备上，使得该基板偏光区域重叠于该设备偏光区域而形成一对准区域。在印刷期间，光可照射至该对准区域上而产生偏光。该偏光可由一偏光接收设备接收。可监测由该偏光接收设备所接收的光的特性的改变。该等改变可表示该基板并未适当地对准，来用于该印刷设备上的印刷。

公开(公告)号：TW201249547A

公开(公告)日：2012-12-16

申请号：TW101114110

申请日：2012-04-20

申请人： 龍雲股份有限公司

发明人： 五十川良則

IPC分类号： B05D ,  B05C

CPC分类号： B05C5/02 ,  B05C5/0208 ,  B05C5/022 ,  B05C9/12 ,  B05C11/06

摘要： 本發明係將乾燥狀態之膜有效地溶解去除。本發明之除膜方法係使噴嘴頭(10B)接近形成於基板(200)上之溶解性之膜(201)，藉由自噴嘴頭(10B)連續地將藥液(300)一面吐出一面同時吸入而於噴嘴頭(10B)與膜(201)之間形成藥液之蓄液(302)，並且藉由於噴嘴頭(10B)與膜(201)表面為非接觸狀態下使基板(100)水平移動，而使藥液之蓄液(302)於基板(100)上相對地移動。

简体摘要： 本发明系将干燥状态之膜有效地溶解去除。本发明之除膜方法系使喷嘴头(10B)接近形成于基板(200)上之溶解性之膜(201)，借由自喷嘴头(10B)连续地将药液(300)一面吐出一面同时吸入而于喷嘴头(10B)与膜(201)之间形成药液之蓄液(302)，并且借由于喷嘴头(10B)与膜(201)表面为非接触状态下使基板(100)水平移动，而使药液之蓄液(302)于基板(100)上相对地移动。

公开(公告)号：TW201134559A

公开(公告)日：2011-10-16

申请号：TW099111524

申请日：2010-04-14

申请人： 鴻海精密工業股份有限公司

发明人： 裴紹凱

IPC分类号： B05C

CPC分类号： B05C9/14 ,  B05C3/02 ,  B05C9/10 ,  B05C9/12

摘要： 本發明涉及一種濕式鍍膜系統，其包括一個低溫腔室、一個加熱腔室、一個隔離腔室、一個傳輸裝置、一個清洗槽、一個鍍膜槽、一個熱風噴槽及一個加熱槽。該隔離腔室連通並隔離該低溫腔室及加熱腔室以形成一個密閉的鍍膜腔。該傳輸裝置包括一個跨設該三個腔室的滑軌及一個手臂滑動設置於該滑軌上、用於夾持一個基材的升降手臂。該清洗槽、鍍膜槽、熱風噴槽及加熱槽順著該滑軌自該低溫腔室至該加熱腔室的滑向依次設置於該滑軌下。該清洗槽及鍍膜槽位於該低溫腔室內；該熱風噴槽位於該隔離槽內；該加熱槽位於該加熱腔室內。如此，基材可在在單一、密閉的環境內依次清洗、鍍膜、風乾及退火，避免基板不同設備中流裝而被氧化，提升了良率。

简体摘要： 本发明涉及一种湿式镀膜系统，其包括一个低温腔室、一个加热腔室、一个隔离腔室、一个传输设备、一个清洗槽、一个镀膜槽、一个热风喷槽及一个加热槽。该隔离腔室连通并隔离该低温腔室及加热腔室以形成一个密闭的镀膜腔。该传输设备包括一个跨设该三个腔室的滑轨及一个手臂滑动设置于该滑轨上、用于夹持一个基材的升降手臂。该清洗槽、镀膜槽、热风喷槽及加热槽顺着该滑轨自该低温腔室至该加热腔室的滑向依次设置于该滑轨下。该清洗槽及镀膜槽位于该低温腔室内；该热风喷槽位于该隔离槽内；该加热槽位于该加热腔室内。如此，基材可在在单一、密闭的环境内依次清洗、镀膜、风干及退火，避免基板不同设备中流装而被氧化，提升了良率。