公开(公告)号：TW201803734A

公开(公告)日：2018-02-01

申请号：TW106111562

申请日：2017-04-06

申请人： 新克股份有限公司 ,  THINK LABORATORY CO., LTD.

发明人： 重田龍男 ,  SHIGETA, TATSUO

IPC分类号： B41J2/01 ,  B41J3/00 ,  B41M3/00

CPC分类号： B05C9/14 ,  B05C13/02 ,  B29C65/48 ,  B41J2/01 ,  B41J29/00 ,  B41M5/00

摘要： 本發明，在於提供一種印刷層合加工的線內系統及方法，其適合於製造少量又帶有多品項之包裝設計的包裝，在線內便可以進行噴墨印刷及層合加工之製造。 作為該印刷層合加工的線內系統，係具有：第1基材供給部，其供給帶狀第1基材的帶狀、及噴墨印刷機，其以單路徑方式對上述帶狀第1基材進行水性墨水噴墨印刷、及接著劑塗佈部，其將接著劑塗佈於上述水性墨水噴墨印刷後的帶狀第1基材、及乾燥部，其用以使上述所塗佈的接著劑乾燥、及帶狀第2基材供給部，其供給帶狀第2基材以與上述帶狀第1基材貼合、以及層合加工部，其將上述帶狀第1基材與上述帶狀第2基材層合加工。

简体摘要： 本发明，在于提供一种印刷层合加工的线内系统及方法，其适合于制造少量又带有多品项之包装设计的包装，在线内便可以进行喷墨印刷及层合加工之制造。 作为该印刷层合加工的线内系统，系具有：第1基材供给部，其供给带状第1基材的带状、及喷墨印刷机，其以单路径方式对上述带状第1基材进行水性墨水喷墨印刷、及接着剂涂布部，其将接着剂涂布于上述水性墨水喷墨印刷后的带状第1基材、及干燥部，其用以使上述所涂布的接着剂干燥、及带状第2基材供给部，其供给带状第2基材以与上述带状第1基材贴合、以及层合加工部，其将上述带状第1基材与上述带状第2基材层合加工。

公开(公告)号：TW201533257A

公开(公告)日：2015-09-01

申请号：TW103142730

申请日：2014-12-09

申请人： 應用材料股份有限公司 ,  APPLIED MATERIALS, INC.

发明人： 瑞絲 佛羅里安 ,  RIES, FLORIAN ,  索爾 安提瑞爾斯 ,  SAUER, ANDREAS ,  海恩 史德分 ,  HEIN, STEFAN

IPC分类号： C23C14/56 ,  B65H18/02

CPC分类号： B05C9/08 ,  B05C1/0826 ,  B05C1/12 ,  B05C9/14 ,  B05C13/00 ,  B05C15/00 ,  B05D3/12 ,  B65G23/34 ,  C23C14/50 ,  C23C14/562 ,  C23C16/0209 ,  C23C16/458 ,  C23C16/46 ,  C23C16/481 ,  C23C16/545 ,  G11B5/85 ,  H01J37/3277

摘要： 一種用以處理可撓性基板的處理裝置，特別是一種用以處理可撓性基板的真空處理裝置。處理裝置包括一真空腔、一處理鼓及一加熱裝置。處理鼓位於真空腔內，其中處理鼓係繞一延伸於一第一方向之軸旋轉而配置。加熱裝置鄰近於處理鼓，其中加熱裝置係用以沿第一方向展開基板或用以沿第一方向保持基板之展開而配置，其中加熱裝置沿一與一基板傳輸方向平行之方向具有至少20毫米的一尺寸。

简体摘要： 一种用以处理可挠性基板的处理设备，特别是一种用以处理可挠性基板的真空处理设备。处理设备包括一真空腔、一处理鼓及一加热设备。处理鼓位于真空腔内，其中处理鼓系绕一延伸于一第一方向之轴旋转而配置。加热设备邻近于处理鼓，其中加热设备系用以沿第一方向展开基板或用以沿第一方向保持基板之展开而配置，其中加热设备沿一与一基板传输方向平行之方向具有至少20毫米的一尺寸。

公开(公告)号：TW201509627A

公开(公告)日：2015-03-16

申请号：TW103122483

申请日：2014-06-30

申请人： NTT股份有限公司 ,  N. T. T. S. R. L.

发明人： 摩伊歐里 安德瑞諾 ,  MOIOLI, ADRIANO ,  波瑞 馬里歐 ,  BORRI, MARIO

IPC分类号： B29C41/28 ,  B29C41/30 ,  B29C41/50 ,  B29C70/06 ,  B29C70/50 ,  B29C35/10 ,  B29D7/01

CPC分类号： B29C71/00 ,  B05C5/0245 ,  B05C9/12 ,  B05C9/14 ,  B05C11/04 ,  B05D1/286 ,  B05D1/40 ,  B05D3/0254 ,  C08G18/3212 ,  C09D175/04 ,  D06N3/0097 ,  D06N3/14 ,  C08G18/10 ,  C08G18/6674

摘要： 本發明係揭示一種以連續方式製造薄膜/薄片或複合材料的方法，其包含下列階段：a)製備待展開的雙組分混合物，並將混合物進料至展開階段，其中混合物係於其本身適用期內以連續方式製備、進料、及配置；b)將混合物展開於至少一基材上，其中在基材上的展開及輸送至交聯階段係於混合物適用期內完成；c)於環境靜態條件下及包含介於50℃與100℃間之可變溫度下，於該基材上進行混合物層交聯，所製造之塗佈產物的溫度值的控制係以連續方式進行，其中基材展開物在交聯階段期間之輸送係於基材展開物之平坦條件下進行。本發明亦揭示相關裝置。

简体摘要： 本发明系揭示一种以连续方式制造薄膜/薄片或复合材料的方法，其包含下列阶段：a)制备待展开的双组分混合物，并将混合物进料至展开阶段，其中混合物系于其本身适用期内以连续方式制备、进料、及配置；b)将混合物展开于至少一基材上，其中在基材上的展开及输送至交联阶段系于混合物适用期内完成；c)于环境静态条件下及包含介于50℃与100℃间之可变温度下，于该基材上进行混合物层交联，所制造之涂布产物的温度值的控制系以连续方式进行，其中基材展开物在交联阶段期间之输送系于基材展开物之平坦条件下进行。本发明亦揭示相关设备。

公开(公告)号：TW201134559A

公开(公告)日：2011-10-16

申请号：TW099111524

申请日：2010-04-14

申请人： 鴻海精密工業股份有限公司

发明人： 裴紹凱

IPC分类号： B05C

CPC分类号： B05C9/14 ,  B05C3/02 ,  B05C9/10 ,  B05C9/12

摘要： 本發明涉及一種濕式鍍膜系統，其包括一個低溫腔室、一個加熱腔室、一個隔離腔室、一個傳輸裝置、一個清洗槽、一個鍍膜槽、一個熱風噴槽及一個加熱槽。該隔離腔室連通並隔離該低溫腔室及加熱腔室以形成一個密閉的鍍膜腔。該傳輸裝置包括一個跨設該三個腔室的滑軌及一個手臂滑動設置於該滑軌上、用於夾持一個基材的升降手臂。該清洗槽、鍍膜槽、熱風噴槽及加熱槽順著該滑軌自該低溫腔室至該加熱腔室的滑向依次設置於該滑軌下。該清洗槽及鍍膜槽位於該低溫腔室內；該熱風噴槽位於該隔離槽內；該加熱槽位於該加熱腔室內。如此，基材可在在單一、密閉的環境內依次清洗、鍍膜、風乾及退火，避免基板不同設備中流裝而被氧化，提升了良率。

简体摘要： 本发明涉及一种湿式镀膜系统，其包括一个低温腔室、一个加热腔室、一个隔离腔室、一个传输设备、一个清洗槽、一个镀膜槽、一个热风喷槽及一个加热槽。该隔离腔室连通并隔离该低温腔室及加热腔室以形成一个密闭的镀膜腔。该传输设备包括一个跨设该三个腔室的滑轨及一个手臂滑动设置于该滑轨上、用于夹持一个基材的升降手臂。该清洗槽、镀膜槽、热风喷槽及加热槽顺着该滑轨自该低温腔室至该加热腔室的滑向依次设置于该滑轨下。该清洗槽及镀膜槽位于该低温腔室内；该热风喷槽位于该隔离槽内；该加热槽位于该加热腔室内。如此，基材可在在单一、密闭的环境内依次清洗、镀膜、风干及退火，避免基板不同设备中流装而被氧化，提升了良率。

公开(公告)号：TWI294795B

公开(公告)日：2008-03-21

申请号：TW094121482

申请日：2005-06-27

申请人： 精工愛普生股份有限公司 SEIKO EPSON CORPORATION

发明人： 三浦弘綱 MIURA, HIROTSUNA ,  尼子淳 AMAKO, JUN

IPC分类号： B05D ,  G02B

CPC分类号： G02B5/201 ,  B05B7/228 ,  B05B17/0607 ,  B05C9/14

摘要： 本發明的課題是在於提供一種可確保高度精度，且可取得微細徑的柱狀體之液滴塗佈方法。亦即，噴出液滴L，塗佈於基板L。重複進行：對塗佈後的液滴L1賦予光能量之步驟；及在賦予光能量的液滴L1上重疊下個液滴L2而塗佈之步驟。

简体摘要： 本发明的课题是在于提供一种可确保高度精度，且可取得微细径的柱状体之液滴涂布方法。亦即，喷出液滴L，涂布于基板L。重复进行：对涂布后的液滴L1赋予光能量之步骤；及在赋予光能量的液滴L1上重叠下个液滴L2而涂布之步骤。

公开(公告)号：TW200716255A

公开(公告)日：2007-05-01

申请号：TW095126739

申请日：2006-07-21

申请人： 努發化學品公司 NOVA CHEMICALS INC.

发明人： 唐建生 TANG, JIANSHENG ,  大衛 艾倫 考華 COWAN, DAVID ALLEN ,  丹尼斯H 皮斯潘 PIISPANEN, DENNIS H.

IPC分类号： B05B ,  B05D

CPC分类号： B05B13/06 ,  B05B13/0242 ,  B05B13/0609 ,  B05B13/0645 ,  B05C9/14 ,  F26B15/08 ,  F26B21/004

摘要： 本發明揭示一種用於塗覆及固化可拋棄式容器之系統、裝置與方法,此等可拋棄式容器係例如杯子,由熱塑性粒子例如可膨脹聚苯乙烯粒子(EPS)所製成並且塗覆以塗料,例如乳膠塗料。該系統包括一預備站、一塗覆站、一固化站與一容器處理站。使用一包括旋轉輪之裝置將該等容器定位至這數個站。該旋轉輪含有數個容器固定工具,其係由真空工具與旋轉平臺組成,其中該真空工具可選擇性操作以針對此等站固定與鬆開該等容器,該旋轉平臺係供選擇性旋轉該等容器,以在該等容器上平均地塗覆及/或乾燥該塗料,以及提高塗覆及/或固化該容器之生產速率。

简体摘要： 本发明揭示一种用于涂覆及固化可抛弃式容器之系统、设备与方法,此等可抛弃式容器系例如杯子,由热塑性粒子例如可膨胀聚苯乙烯粒子(EPS)所制成并且涂覆以涂料,例如乳胶涂料。该系统包括一预备站、一涂覆站、一固化站与一容器处理站。使用一包括旋转轮之设备将该等容器定位至这数个站。该旋转轮含有数个容器固定工具,其系由真空工具与旋转平台组成,其中该真空工具可选择性操作以针对此等站固定与松开该等容器,该旋转平台系供选择性旋转该等容器,以在该等容器上平均地涂覆及/或干燥该涂料,以及提高涂覆及/或固化该容器之生产速率。

公开(公告)号：TW200426957A

公开(公告)日：2004-12-01

申请号：TW093106852

申请日：2004-03-15

申请人： 能多順股份有限公司 NORDSON CORPORATION

发明人： 艾倫 李維斯 LEWIS, ALAN ,  湯瑪士 拉費爾 拉利吉 RATLEDGE, THOMAS LAFERL ,  納歐亞 伊恩 納格諾 NAGANO, NAOYA IAN ,  克里斯多夫L 吉斯堤 GIUSTI, CHRISTOPHER L. ,  亞歷山德 魯皮森 安尼特 ANIT, ALEXANDER LUPISAN

IPC分类号： H01L ,  F04B

CPC分类号： B05C11/1034 ,  B05C5/001 ,  B05C5/0208 ,  B05C9/12 ,  B05C9/14 ,  B29C2043/5825 ,  B29C2043/5891 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

摘要： 本發明係關於一種將多個黏稠性材料珠粒自一移動施配器施配至一組件載體上之方法。該方法包含：為多重不同泵送速度中之每個泵送速度校正一輸出特徵(諸如流量)；使該等泵送速度中之一個及一線速度與多個黏稠性材料珠粒中之每個珠粒相關聯；及以對應線速度相對於該組件載體移動施配器，同時以對應泵送速度運作泵以施配每個黏稠性材料珠粒。可由所施配之黏稠性材料之重量來確定與每個校正之泵送速度相關聯的輸出特徵。

简体摘要： 本发明系关于一种将多个黏稠性材料珠粒自一移动施配器施配至一组件载体上之方法。该方法包含：为多重不同泵送速度中之每个泵送速度校正一输出特征(诸如流量)；使该等泵送速度中之一个及一线速度与多个黏稠性材料珠粒中之每个珠粒相关联；及以对应线速度相对于该组件载体移动施配器，同时以对应泵送速度运作泵以施配每个黏稠性材料珠粒。可由所施配之黏稠性材料之重量来确定与每个校正之泵送速度相关联的输出特征。

公开(公告)号：TW201724189A

公开(公告)日：2017-07-01

申请号：TW105128977

申请日：2016-09-07

申请人： 東京威力科創股份有限公司 ,  TOKYO ELECTRON LIMITED

发明人： 小玉輝彦 ,  KODAMA, TERUHIKO ,  榎本正志 ,  ENOMOTO, MASASHI ,  田所真任 ,  TADOKORO, MASAHIDE ,  橋本崇史 ,  HASHIMOTO, TAKAFUMI

IPC分类号： H01L21/027 ,  B05C9/14 ,  B05C11/08 ,  B05D1/36 ,  B05D3/00 ,  G01B11/02 ,  G03F7/26

CPC分类号： B05C9/14 ,  B05C11/08 ,  B05D1/36 ,  B05D3/00 ,  G01B11/02 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

摘要： 防止在基板的周端部形成異常之光阻圖案。本發明之基板處理方法，係具備有：針對基板之表面的周端部，取得沿著該基板之徑方向之高度的分布之工程；其次，以基於前述高度的分布，矯正前述周端部之高度之下降的方式，在前述基板的表面整體形成下層膜之工程；及接著，在前述下層膜的表面整體形成光阻膜之工程。因此，在該基板的周端部，係可抑制曝光時的聚焦相對於光阻膜之表面而偏離的情形。作為其結果，可抑制在該周端部形成有異常之光阻圖案的情形。

简体摘要： 防止在基板的周端部形成异常之光阻图案。本发明之基板处理方法，系具备有：针对基板之表面的周端部，取得沿着该基板之径方向之高度的分布之工程；其次，以基于前述高度的分布，矫正前述周端部之高度之下降的方式，在前述基板的表面整体形成下层膜之工程；及接着，在前述下层膜的表面整体形成光阻膜之工程。因此，在该基板的周端部，系可抑制曝光时的聚焦相对于光阻膜之表面而偏离的情形。作为其结果，可抑制在该周端部形成有异常之光阻图案的情形。

公开(公告)号：TWI580481B

公开(公告)日：2017-05-01

申请号：TW105115922

申请日：2016-05-23

申请人： 千住金屬工業股份有限公司 ,  SENJU METAL INDUSTRY CO., LTD.

发明人： 村岡学 ,  MURAOKA, MANABU ,  齋藤健夫 ,  SAITOH, TAKEO ,  関根重行 ,  SEKINE, SHIGEYUKI ,  尾林卓 ,  OBAYASHI, TAKASHI ,  鶴田加一 ,  TSURUTA, KAICHI ,  萩原崇史 ,  HAGIWARA, TAKASHI ,  山裕之 ,  YAMASAKI, HIROYUKI ,  菊池康太 ,  KIKUCHI, KOTA ,  亀田直人 ,  KAMEDA, NAOTO

IPC分类号： B05D3/02 ,  B05D1/18

CPC分类号： B23K35/404 ,  B05C3/125 ,  B05C9/04 ,  B05C9/12 ,  B05C9/14 ,  B05C13/00 ,  B23K1/08 ,  B23K35/36

公开(公告)号：TW201700185A

公开(公告)日：2017-01-01

申请号：TW105112112

申请日：2016-04-19

申请人： 中外爐工業股份有限公司 ,  CHUGAI RO CO., LTD.

发明人： 二階堂晃一 ,  NIKAIDO, KOICHI

IPC分类号： B05D3/02 ,  B05D3/04

CPC分类号： B05C9/14 ,  B05C1/08 ,  B05C11/10 ,  Y02P70/38

摘要： 本發明係利用塗佈裝置將塗料塗佈在由行進之帶狀體所構成之被塗佈物，且將被塗佈物依照用以使塗佈有塗料之被塗佈物加熱之加熱室、用以將被加熱之被塗佈物予以冷卻之冷卻室的順序予以引導，並且，將在被塗佈物進行連續塗裝時用以回收從被塗佈在被塗佈物之塗料產生的氣體之氣體回收室，設置在塗佈裝置與加熱室之間、以及加熱室與冷卻室之間的至少一方，並且設置有用以將氣體回收室的內面予以加熱的加熱手段。

简体摘要： 本发明系利用涂布设备将涂料涂布在由行进之带状体所构成之被涂布物，且将被涂布物依照用以使涂布有涂料之被涂布物加热之加热室、用以将被加热之被涂布物予以冷却之冷却室的顺序予以引导，并且，将在被涂布物进行连续涂装时用以回收从被涂布在被涂布物之涂料产生的气体之气体回收室，设置在涂布设备与加热室之间、以及加热室与冷却室之间的至少一方，并且设置有用以将气体回收室的内面予以加热的加热手段。