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    黏土薄膜之製造方法及黏土薄膜 CLAY MEMBRANE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
    2.
    发明专利
    黏土薄膜之製造方法及黏土薄膜 CLAY MEMBRANE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME 审中-公开
    黏土薄膜之制造方法及黏土薄膜 CLAY MEMBRANE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME

    公开(公告)号：TW200728044A

    公开(公告)日：2007-08-01

    申请号：TW095134817

    申请日：2006-09-20

    申请人： 巴川製紙所股份有限公司 TOMOEGAWA CO., LTD ,  獨立行政法人產業技術總合研究所 NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY

    发明人： 津田統 TSUDA, HAJIME ,  井上智仁 INOUE, TOMOHITO ,  茂木克己 MOTEGI, KATSUMI ,  名武雄 EBINA, TAKEO ,  水上富士夫 MIZUKAMI, FUJIO

    IPC分类号： B28C ,  B28B ,  G02F ,  H05B

    CPC分类号： B28B1/30 ,  G02F2001/133302 ,  H01L51/5237 ,  Y10T428/24413

    摘要： 本發明的目的在於提供一種黏土薄膜的製造方法,利用其作為液晶或有機EL顯示器用的薄膜基板則具有充分的表面平坦性。於本發明中,為達成前述目的,而提供一種由黏土或是黏土與添加劑所製成,且具有黏土粒子定向堆疊構造的黏土薄膜的製造方法,其特徵為包含:一糊漿製作步驟,其將黏土或是黏土與添加劑分散於由水、有機溶劑或是水與有機溶劑的混合溶媒所製成的分散媒介中以製作出黏土糊漿;一塗佈步驟,其將該黏土糊漿塗佈於基材上以形成薄膜;一平坦化步驟,其使該薄膜平坦化;一乾燥步驟,其自該薄膜除去水、有機溶劑或是水與有機溶劑;及一剝離步驟,其自該基材剝離該薄膜。黏土薄膜的表面粗度Ra在100nm以下。

    简体摘要： 本发明的目的在于提供一种黏土薄膜的制造方法,利用其作为液晶或有机EL显示器用的薄膜基板则具有充分的表面平坦性。于本发明中,为达成前述目的,而提供一种由黏土或是黏土与添加剂所制成,且具有黏土粒子定向堆栈构造的黏土薄膜的制造方法,其特征为包含:一煳浆制作步骤,其将黏土或是黏土与添加剂分散于由水、有机溶剂或是水与有机溶剂的混合溶媒所制成的分散媒介中以制作出黏土煳浆;一涂布步骤,其将该黏土煳浆涂布于基材上以形成薄膜;一平坦化步骤,其使该薄膜平坦化;一干燥步骤,其自该薄膜除去水、有机溶剂或是水与有机溶剂;及一剥离步骤,其自该基材剥离该薄膜。黏土薄膜的表面粗度Ra在100nm以下。

    陶瓷生片製造工程用剝離膜
    4.
    发明专利
    陶瓷生片製造工程用剝離膜 审中-公开
    陶瓷生片制造工程用剥离膜

    公开(公告)号：TW201725117A

    公开(公告)日：2017-07-16

    申请号：TW105140204

    申请日：2016-12-06

    申请人： 琳得科股份有限公司 ,  LINTEC CORPORATION

    发明人： 佐藤慶一 ,  SATO, KEIICHI ,  深谷知巳 ,  FUKAYA, TOMOMI

    IPC分类号： B32B27/08 ,  B32B27/36 ,  H01G4/12 ,  B32B27/42

    CPC分类号： B28B1/30 ,  B32B27/00 ,  B32B27/36 ,  H01G13/00

    摘要： 一種陶瓷生片製造工程用剝離膜1A，其係具備基材11、及設置在基材11的一側之剝離劑層12之陶瓷生片製造工程用剝離膜1A；該剝離劑層12係將含有三聚氰胺樹脂及聚有機矽氧烷之剝離劑組成物硬化而成者，藉由奈米壓痕試驗，在從剝離劑層12之與基材11為相反側的面所測定之被膜彈性模數為3.5~7.0GPa。使用此種陶瓷生片製造工程用剝離膜1A時，能夠抑制聚有機矽氧烷從剝離劑層往陶瓷生片遷移。

    简体摘要： 一种陶瓷生片制造工程用剥离膜1A，其系具备基材11、及设置在基材11的一侧之剥离剂层12之陶瓷生片制造工程用剥离膜1A；该剥离剂层12系将含有三聚氰胺树脂及聚有机硅氧烷之剥离剂组成物硬化而成者，借由奈米压痕试验，在从剥离剂层12之与基材11为相反侧的面所测定之被膜弹性模数为3.5~7.0GPa。使用此种陶瓷生片制造工程用剥离膜1A时，能够抑制聚有机硅氧烷从剥离剂层往陶瓷生片迁移。

    生坯片製造用離形膜及生坯片製造用離形膜之製造方法
    5.
    发明专利
    生坯片製造用離形膜及生坯片製造用離形膜之製造方法 审中-公开
    生坯片制造用离形膜及生坯片制造用离形膜之制造方法

    公开(公告)号：TW201434655A

    公开(公告)日：2014-09-16

    申请号：TW103108758

    申请日：2014-03-12

    申请人： 琳得科股份有限公司 ,  LINTEC CORPORATION

    发明人： 深谷知巳 ,  FUKAYA, TOMOMI ,  市川慎也 ,  ICHIKAWA, SHINYA

    IPC分类号： B32B7/06 ,  B32B27/36 ,  C04B35/622

    CPC分类号： B28B1/30 ,  B32B7/06 ,  B32B27/08 ,  B32B27/16 ,  B32B27/38 ,  B32B2307/538 ,  B32B2307/748 ,  B32B2457/16

    摘要： 本發明之生坯片製造用離形膜包含具有一第一表面及一第二表面之一基材、設置於前述第一表面之一平滑化層及設置於前述平滑化層之相反於前述基材之一表面位置之一離形劑層。其特徵在於前述平滑化層係藉由加熱並硬化含有質量平均分子量為950以下之熱硬化性化合物之平滑化層形成用組成物而形成，前述離形劑層之外表面之算數平均粗糙度Ra1為8nm以下，且最大突起高度Rp1為50nm以下。藉由本發明，能提供生坯片製造用離形膜，其能防止生坯片之表面產生針孔等情形，並能提高製造生坯片之信賴度。

    简体摘要： 本发明之生坯片制造用离形膜包含具有一第一表面及一第二表面之一基材、设置于前述第一表面之一平滑化层及设置于前述平滑化层之相反于前述基材之一表面位置之一离形剂层。其特征在于前述平滑化层系借由加热并硬化含有质量平均分子量为950以下之热硬化性化合物之平滑化层形成用组成物而形成，前述离形剂层之外表面之算数平均粗糙度Ra1为8nm以下，且最大突起高度Rp1为50nm以下。借由本发明，能提供生坯片制造用离形膜，其能防止生坯片之表面产生针孔等情形，并能提高制造生坯片之信赖度。

    製造陶瓷坯片用鑄膜及其製法
    7.
    发明专利
    製造陶瓷坯片用鑄膜及其製法 有权
    制造陶瓷坯片用铸膜及其制法

    公开(公告)号：TW553823B

    公开(公告)日：2003-09-21

    申请号：TW090100347

    申请日：2001-01-08

    申请人： 琳得科股份有限公司

    发明人： 中村徹 ,  柴野富四

    IPC分类号： B32B ,  B28B

    CPC分类号： B28B7/348 ,  B28B1/30 ,  Y10T428/31663 ,  Y10T428/31786

    摘要： 本發明揭示使用於製造陶瓷坯片之鑄膜，它包含一個基體薄膜和經形成在其上之一經固化層之加成反應型聚矽氧組合物(含有光敏劑)，其中該經固化層係由在溫度40至120℃範圍內，熱處理一層的含有光敏劑之加成反應型聚矽氧組合物，達到以固體含量計所表示之0.01至0.2克/平方米範圍內之塗層數量，繼以使用紫外線照射來處理而形成。該鑄膜之陶瓷漿體的塗覆性及陶瓷坯片之可脫模性均優良，且授予至目前為止經由任何習用之鑄膜從來未可實現之高平直性。

    简体摘要： 本发明揭示使用于制造陶瓷坯片之铸膜，它包含一个基体薄膜和经形成在其上之一经固化层之加成反应型聚硅氧组合物(含有光敏剂)，其中该经固化层系由在温度40至120℃范围内，热处理一层的含有光敏剂之加成反应型聚硅氧组合物，达到以固体含量计所表示之0.01至0.2克/平方米范围内之涂层数量，继以使用紫外线照射来处理而形成。该铸膜之陶瓷浆体的涂覆性及陶瓷坯片之可脱模性均优良，且授予至目前为止经由任何习用之铸膜从来未可实现之高平直性。