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公开(公告)号:TWI574802B
公开(公告)日:2017-03-21
申请号:TW101110389
申请日:2012-03-26
发明人: 佐伯亨 , SAEKI, TORU , 三重野靖理 , MIENO, YASUMICHI , 占部雄士 , URABE, YUJI , 神垣敏雄 , KAMIGAKI, TOSHIO , 增井陽二 , MASUI, YOJI
CPC分类号: H01L21/681 , H01L21/67742 , H01L21/68707 , Y10S414/135 , Y10S414/137 , Y10S414/141
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公开(公告)号:TW201402287A
公开(公告)日:2014-01-16
申请号:TW102116198
申请日:2013-05-07
申请人: 迪思科股份有限公司 , DISCO CORPORATION
发明人: 山中聰 , YAMANAKA, SATOSHI
CPC分类号: B25J15/008 , H01L21/68707 , Y10S414/137
摘要: 【課題】即便工作單元的外周部接觸了匣盒內壁,也能將工作單元收納至匣盒。【解決手段】機械手具有用以在水平方向上保有自由度地載置工作單元的載置面、形成於其末端部並支持戴置於載置面的工作單元之前端部並防止工作單元由載置面掉落的防止掉落爪、以及配置於安裝部的附近且支持工作單元的後端部的支持部,對工作單元施加外力時,則支持部會抵接後端部,且能以該抵接的點為支點讓工作單元在載置面上旋轉。因此,即使工作單元的外周部與匣盒的內壁接觸,由於適當地修正工作單元的位置偏移,可確實地將工作單元收納至匣盒。
简体摘要: 【课题】即便工作单元的外周部接触了匣盒内壁,也能将工作单元收纳至匣盒。【解决手段】机械手具有用以在水平方向上保有自由度地载置工作单元的载置面、形成于其末端部并支持戴置于载置面的工作单元之前端部并防止工作单元由载置面掉落的防止掉落爪、以及配置于安装部的附近且支持工作单元的后端部的支持部,对工作单元施加外力时,则支持部会抵接后端部,且能以该抵接的点为支点让工作单元在载置面上旋转。因此,即使工作单元的外周部与匣盒的内壁接触,由于适当地修正工作单元的位置偏移,可确实地将工作单元收纳至匣盒。
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公开(公告)号:TWI409911B
公开(公告)日:2013-09-21
申请号:TW095123425
申请日:2006-06-28
发明人: 卡德維湯姆L , CADWELL, TOM L. , 齊哈維瑞那 , ZEHAVI, RANAAN , 斯科亞麥可 , SKLYAR, MICHEAL
IPC分类号: H01L21/687 , H01L21/324
CPC分类号: C30B31/14 , C30B25/12 , H01L21/67309 , Y10S414/135 , Y10S414/137 , Y10S414/138 , Y10T117/10
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公开(公告)号:TWI404077B
公开(公告)日:2013-08-01
申请号:TW098123034
申请日:2009-07-08
发明人: 曾國書 , TSENG, KUO SHU , 宋易償 , SUNG, YI CHANG , 曹家齊 , TSAO, CHIA CHI , 林志哲 , LIN, CHIH CHE
CPC分类号: H01L21/681 , H01L21/67265 , Y10S414/135 , Y10S414/136 , Y10S414/137 , Y10S414/138 , Y10S414/139 , Y10S414/14 , Y10S414/141
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5.半導體裝置之製造方法、基板處理裝置及基板處理方法 METHOD FOR MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR DEVICE, APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE 有权
简体标题: 半导体设备之制造方法、基板处理设备及基板处理方法 METHOD FOR MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR DEVICE, APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE公开(公告)号:TWI360179B
公开(公告)日:2012-03-11
申请号:TW093128418
申请日:2004-09-17
申请人: 日立國際電氣股份有限公司
IPC分类号: H01L
CPC分类号: C23C16/463 , C23C16/4401 , C23C16/4408 , C23C16/4411 , Y10S414/136 , Y10S414/137 , Y10S414/139 , Y10S438/905
摘要: 一種半導體裝置之製造方法,其具備有:將基板10載置於反應爐1內的工程;在反應爐1內於基板10上進行成膜的工程;將成膜後的基板10從反應爐1卸載的工程;及將基板10卸載之後,在反應爐1內沒有基板10的狀態下,將反應爐1內進行強制冷卻的工程。
简体摘要: 一种半导体设备之制造方法,其具备有:将基板10载置于反应炉1内的工程;在反应炉1内于基板10上进行成膜的工程;将成膜后的基板10从反应炉1卸载的工程;及将基板10卸载之后,在反应炉1内没有基板10的状态下,将反应炉1内进行强制冷却的工程。
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6.校正系統、校正方法與晶圓盒 SYSTEM AND METHOD FOR CALIBRATING ALIGNMENT AND RELATED WAFER CASSETTE 审中-公开
简体标题: 校正系统、校正方法与晶圆盒 SYSTEM AND METHOD FOR CALIBRATING ALIGNMENT AND RELATED WAFER CASSETTE公开(公告)号:TW201034029A
公开(公告)日:2010-09-16
申请号:TW098123034
申请日:2009-07-08
申请人: 台灣積體電路製造股份有限公司
CPC分类号: H01L21/681 , H01L21/67265 , Y10S414/135 , Y10S414/136 , Y10S414/137 , Y10S414/138 , Y10S414/139 , Y10S414/14 , Y10S414/141
摘要: 一種校正方法,用以校正包括晶圓輸送葉片之晶圓輸送系統之晶圓對位,校正方法包括提供具有複數水平方向之晶圓插槽的晶圓盒,其中晶圓插槽之每一者包括複數對側溝槽,並且每一對側溝槽包括上表面、側表面,以及下表面;將導電材料安置於晶圓插槽之第一晶圓插槽之對側溝槽的每一上述上表面上,導電材料用以與偵測器進行電性通訊,而偵測器係用以偵測晶圓何時接觸到導電材料;將放置於晶圓輸送葉片之上的晶圓輸送至第一晶圓插槽中;以及判斷在第一晶圓插槽內的晶圓是否對位不準。
简体摘要: 一种校正方法,用以校正包括晶圆输送叶片之晶圆输送系统之晶圆对位,校正方法包括提供具有复数水平方向之晶圆插槽的晶圆盒,其中晶圆插槽之每一者包括复数对侧沟槽,并且每一对侧沟槽包括上表面、侧表面,以及下表面;将导电材料安置于晶圆插槽之第一晶圆插槽之对侧沟槽的每一上述上表面上,导电材料用以与侦测器进行电性通信,而侦测器系用以侦测晶圆何时接触到导电材料;将放置于晶圆输送叶片之上的晶圆输送至第一晶圆插槽中;以及判断在第一晶圆插槽内的晶圆是否对位不准。
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7.清潔光罩儲存器之系統 SYSTEM FOR PURGING RETICLE STORAGE 审中-公开
简体标题: 清洁光罩存储器之系统 SYSTEM FOR PURGING RETICLE STORAGE公开(公告)号:TW200817252A
公开(公告)日:2008-04-16
申请号:TW096122041
申请日:2007-06-20
发明人: 歐雷格P 寇許柯維奇 KISHKOVICH, OLEG P. , 夏菲爾 賈巴爾 GABARRE, XAVIER , 威廉M 古德溫 GOODWIN, WILLIAM M. , 羅詹思 LO, JAMES , 卓依 思葛金斯 SCOGGINS, TROY
CPC分类号: H01L21/67769 , G03F1/66 , G03F7/70741 , G03F7/70866 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G03F7/70933 , H01L21/67017 , H01L21/67253 , H01L21/67353 , H01L21/67359 , H01L21/67386 , H01L21/67389 , H01L21/67393 , Y10S414/135 , Y10S414/137 , Y10S414/139 , Y10S414/14
摘要: 本發明提供一種用以保護光罩且具體而言用以使儲存及使用期間光罩上之霧霾形成最小化之方法、系統及組件。藉由在具有一減低之濕度水準之存儲外殼中實質持續地保持對光罩進行清潔,或藉由在不進行清潔時在一容器中靠近一乾燥劑或吸濕劑暫時儲存光罩,可消除、最小化或充分地控制霧霾形成。此外,該容器中之一過濾媒介可放置成在實質持續地清潔該光罩期間得到「重新補充」,在當前不清潔該容器時可容易地在該光罩容器中保持一減低之所期望濕度水準。另外,本發明之系統可包含與該清潔系統相結合之一離化器。舉例而言,該離化器可與該清潔系統之複數個清潔管線至少其中之一相結合。本發明之系統亦可包含連接至該清潔系統之一清潔氣體源,該清潔氣體源包含一CDA源或超CDA源。該儲存外殼可包含複數個擱架,各擱架包含複數個光罩儲存容座。
简体摘要: 本发明提供一种用以保护光罩且具体而言用以使存储及使用期间光罩上之雾霾形成最小化之方法、系统及组件。借由在具有一减低之湿度水准之存储外壳中实质持续地保持对光罩进行清洁,或借由在不进行清洁时在一容器中靠近一干燥剂或吸湿剂暂时存储光罩,可消除、最小化或充分地控制雾霾形成。此外,该容器中之一过滤媒介可放置成在实质持续地清洁该光罩期间得到“重新补充”,在当前不清洁该容器时可容易地在该光罩容器中保持一减低之所期望湿度水准。另外,本发明之系统可包含与该清洁系统相结合之一离化器。举例而言,该离化器可与该清洁系统之复数个清洁管线至少其中之一相结合。本发明之系统亦可包含连接至该清洁系统之一清洁气体源,该清洁气体源包含一CDA源或超CDA源。该存储外壳可包含复数个搁架,各搁架包含复数个光罩存储容座。
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8.晶圓盒及工件輸送件分類工具 CASSETTE AND WORKPIECE HANDLER CHARACTERIZATION TOOL 有权
简体标题: 晶圆盒及工件输送件分类工具 CASSETTE AND WORKPIECE HANDLER CHARACTERIZATION TOOL公开(公告)号:TWI258831B
公开(公告)日:2006-07-21
申请号:TW091135102
申请日:2002-12-03
IPC分类号: H01L
CPC分类号: H01L21/67265 , H01L21/681 , Y10S414/137
摘要: 一種在工件輸送系統中,將一晶圓盒輸送件對準一機械手臂刀葉的對準工具、方法與系統,以補償當晶圓盒被升高於各種槽位置時,向電梯軸所展現的傾斜。於一實施例中,該晶圓盒傾斜角可以於該晶圓盒在第一高度加以量測。於將電梯作動以升高晶圓盒至一較佳接近晶圓盒另一端的第二槽位置時,晶圓盒的傾斜角度可以再次量測。若傾斜角變化,則此變化似乎為電梯所造成。晶圓盒傾斜角可以依據所量測角加以調整,以降低晶圓或其他工件的不小心破裂或受損,該量測角係當晶圓盒被上升或下降時,電梯軸的傾斜該晶圓盒的角度。
简体摘要: 一种在工件输送系统中,将一晶圆盒输送件对准一机械手臂刀叶的对准工具、方法与系统,以补偿当晶圆盒被升高于各种槽位置时,向电梯轴所展现的倾斜。于一实施例中,该晶圆盒倾斜角可以于该晶圆盒在第一高度加以量测。于将电梯作动以升高晶圆盒至一较佳接近晶圆盒另一端的第二槽位置时,晶圆盒的倾斜角度可以再次量测。若倾斜角变化,则此变化似乎为电梯所造成。晶圆盒倾斜角可以依据所量测角加以调整,以降低晶圆或其他工件的不小心破裂或受损,该量测角系当晶圆盒被上升或下降时,电梯轴的倾斜该晶圆盒的角度。
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9.玻璃基板之分流存取裝置及方法 GLASS SUBSTRATE DISTRIBUTE SYSTEM AND METHOD 有权
简体标题: 玻璃基板之分流存取设备及方法 GLASS SUBSTRATE DISTRIBUTE SYSTEM AND METHOD公开(公告)号:TWI256938B
公开(公告)日:2006-06-21
申请号:TW093122337
申请日:2004-07-26
发明人: 劉鎧瑜 LIU, KAI YU
IPC分类号: B65G
CPC分类号: G02F1/1333 , Y10S414/137
摘要: 一種玻璃基板之分流存取裝置,包括:卡匣、分隔結構、移位機構及傳動機構。分隔結構係設置於卡匣,用以分隔卡匣內之基板容置區為數個存放位置。移位機構係帶動玻璃基板於卡匣外之數個搬運位置之間移動。傳動機構係傳動玻璃基板進出卡匣,藉以將玻璃基板從搬運位置移動至存放位置或從存放位置至移動至搬運位置。
简体摘要: 一种玻璃基板之分流存取设备,包括:卡匣、分隔结构、移位机构及传动机构。分隔结构系设置于卡匣,用以分隔卡匣内之基板容置区为数个存放位置。移位机构系带动玻璃基板于卡匣外之数个搬运位置之间移动。传动机构系传动玻璃基板进出卡匣,借以将玻璃基板从搬运位置移动至存放位置或从存放位置至移动至搬运位置。
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10.基板移送裝置,基板移除方法,及基板收容方法 SUBSTRATE TRANSFER APPARATUS, METHOD FOR REMOVING THE SUBSTRATE, AND METHOD FOR ACCOMMODATING THE SUBSTRATE 失效
简体标题: 基板移送设备,基板移除方法,及基板收容方法 SUBSTRATE TRANSFER APPARATUS, METHOD FOR REMOVING THE SUBSTRATE, AND METHOD FOR ACCOMMODATING THE SUBSTRATE公开(公告)号:TWI228483B
公开(公告)日:2005-03-01
申请号:TW092133565
申请日:2003-11-28
IPC分类号: B65G
CPC分类号: H01L21/6734 , H01L21/67346 , H01L21/68707 , Y10S414/137
摘要: 本發明揭示一種基板移送裝置,其用於在水平狀態下自收容基板的基板收容盤中移除該基板,該裝置包括複數個支撐桿,其用於將基板收容盤收容的基板升起至該基板收容盤之上方。基板收容盤包括複數個開口以插入複數個支撐桿。複數個支撐桿相對於基板收容盤向上移動,且插入基板收容盤的複數個開口以升起基板。複數個支撐桿各具有充分長度以垂直插入通過垂直堆疊的複數個基板收容盤。
简体摘要: 本发明揭示一种基板移送设备,其用于在水平状态下自收容基板的基板收容盘中移除该基板,该设备包括复数个支撑杆,其用于将基板收容盘收容的基板升起至该基板收容盘之上方。基板收容盘包括复数个开口以插入复数个支撑杆。复数个支撑杆相对于基板收容盘向上移动,且插入基板收容盘的复数个开口以升起基板。复数个支撑杆各具有充分长度以垂直插入通过垂直堆栈的复数个基板收容盘。
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