積層體及單軸取向積層體
    2.
    发明专利
    積層體及單軸取向積層體 失效
    积层体及单轴取向积层体

    公开(公告)号:TW360595B

    公开(公告)日:1999-06-11

    申请号:TW087101066

    申请日:1998-01-26

    发明人: 山崎伸二

    IPC分类号: B32B

    摘要: 本發明係提供含添加劑、且於後加工時不會產生添加劑沈澱出來的問題之積層體及單軸取向積層體。
    本發明之積層體,其特徵為一種積層體,其係在由含添加劑之取向性樹脂A 所成的內層兩面上,積層由樹脂 B 所成之被覆層而形成者,該樹脂B 為防止添加劑自其內層沈澱出,其中該添加劑係至少一種選自耐候性提高劑、著色劑、顏料及填充劑所成的添加劑;該耐候性提高劑係為300~10,000ppm之耐光劑,該取向性樹脂A係選自低、中、高密度聚乙烯、聚丙烯、聚丁烯-1、聚-4-甲基戊烯-1等之α-烯烴同元聚合物,以及此等之成份單體或己烯-1等α-烯烴之相互共聚物等之聚烯烴、聚醯胺、聚酯、聚碳酸酯、聚乙烯醇、聚偏二氯乙烯、聚氯化乙烯、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物皂化物之至少一種熱塑性樹脂;該樹脂B 係選自低密度聚乙烯,密度0.86~0.94g/cm3 之乙烯-α-烯烴共聚物、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、乙烯-丙烯酸共聚物、乙烯-丙烯酸酯共聚物、乙烯-甲基丙烯酸共聚物、乙烯-甲基丙烯酸酯共聚物、乙烯-馬來酸共聚物、乙烯-馬來酸酯共聚物及此等之混合物,以及此等之不飽和羧酸改性物之至少一種低熔點熱塑性樹脂。

    简体摘要: 本发明系提供含添加剂、且于后加工时不会产生添加剂沈淀出来的问题之积层体及单轴取向积层体。 本发明之积层体,其特征为一种积层体,其系在由含添加剂之取向性树脂A 所成的内层两面上,积层由树脂 B 所成之被覆层而形成者,该树脂B 为防止添加剂自其内层沈淀出,其中该添加剂系至少一种选自耐候性提高剂、着色剂、颜料及填充剂所成的添加剂;该耐候性提高剂系为300~10,000ppm之耐光剂,该取向性树脂A系选自低、中、高密度聚乙烯、聚丙烯、聚丁烯-1、聚-4-甲基戊烯-1等之α-烯烃同元聚合物,以及此等之成份单体或己烯-1等α-烯烃之相互共聚物等之聚烯烃、聚酰胺、聚酯、聚碳酸酯、聚乙烯醇、聚偏二氯乙烯、聚氯化乙烯、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物皂化物之至少一种热塑性树脂;该树脂B 系选自低密度聚乙烯,密度0.86~0.94g/cm3 之乙烯-α-烯烃共聚物、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、乙烯-丙烯酸共聚物、乙烯-丙烯酸酯共聚物、乙烯-甲基丙烯酸共聚物、乙烯-甲基丙烯酸酯共聚物、乙烯-马来酸共聚物、乙烯-马来酸酯共聚物及此等之混合物,以及此等之不饱和羧酸改性物之至少一种低熔点热塑性树脂。