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公开(公告)号：TWI681844B
公开(公告)日：2020-01-11
申请号：TW105105706
申请日：2016-02-25
申请人： 日商迪思科股份有限公司 , DISCO CORPORATION
发明人： 大日野晃一 , OHINO, KOICHI
IPC分类号： B24B7/22 , B24B55/00 , B24B49/00 , H01L21/304
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公开(公告)号：TWI667100B
公开(公告)日：2019-08-01
申请号：TW107107035
申请日：2015-02-11
申请人： 日商荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人： 関正也 , SEKI, MASAYA , 保科真穗 , HOSHINA, MANAO
IPC分类号： B24B55/00 , H01L21/304
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公开(公告)号：TW201729912A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW106103946
申请日：2017-02-07
申请人： 荏原製作所股份有限公司 , EBARA CORPORATION
发明人： 今村聴 , IMAMURA, AKIRA , 宮充 , MIYAZAKI, MITSURU , 國澤淳次 , KUNISAWA, JUNJI , 松澤俊介 , MATSUZAWA, SHUNSUKE
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/67046 , H01L21/67253 , H01L21/68728
摘要： 本發明之基板洗淨裝置具有：抵接於基板W而進行該基板W之洗淨的洗淨部件11、21；使前述洗淨部件11、21旋轉之部件旋轉部15、25；將前述洗淨部件11、21按壓於前述基板W之按壓驅動部19、29；檢測施加於前述部件旋轉部15、25之轉矩的轉矩檢測部16、26；及依據來自前述轉矩檢測部16、26之檢測結果控制前述按壓力的控制部50。
简体摘要： 本发明之基板洗净设备具有：抵接于基板W而进行该基板W之洗净的洗净部件11、21；使前述洗净部件11、21旋转之部件旋转部15、25；将前述洗净部件11、21按压于前述基板W之按压驱动部19、29；检测施加于前述部件旋转部15、25之转矩的转矩检测部16、26；及依据来自前述转矩检测部16、26之检测结果控制前述按压力的控制部50。
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公开(公告)号：TWI547348B
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW104128599
申请日：2015-08-31
发明人： 曾國龍 , TSENG, KUO-LUNG , 陳義元 , CHEN, YI-YUAN
IPC分类号： B24B37/34 , B24B57/02 , B24B55/00 , H01L21/304
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公开(公告)号：TW201615346A
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW104121834
申请日：2015-07-06
申请人： 迪思科股份有限公司 , DISCO CORPORATION
发明人： 松田智人 , MATSUDA, TOMOHITO , 根賀亮平 , NEGA, RYOHEI , 生島充 , IKUSHIMA, MITSURU
IPC分类号： B24B55/00 , B24B41/06 , F04D29/66 , H01L21/304
摘要： 本發明之課題是提供已將由振動形成的加工影響降低了的加工裝置。解決手段是做成以下的構成：其包含保持被加工物之保持手段；加工被加工物之加工手段；配置有保持手段及加工手段的裝置基座；以及將裝置基座、保持手段、及加工手段的周圍包圍且將成為振動產生源之零件予以支撐的裝置框架。裝置基座與裝置框架是各自獨立而豎立設置，並透過防振構件而相接觸以維持相互之位置關係，且以防振構件吸收由零件產生之振動。
简体摘要： 本发明之课题是提供已将由振动形成的加工影响降低了的加工设备。解决手段是做成以下的构成：其包含保持被加工物之保持手段；加工被加工物之加工手段；配置有保持手段及加工手段的设备基座；以及将设备基座、保持手段、及加工手段的周围包围且将成为振动产生源之零件予以支撑的设备框架。设备基座与设备框架是各自独立而竖立设置，并透过防振构件而相接触以维持相互之位置关系，且以防振构件吸收由零件产生之振动。
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公开(公告)号：TWI647068B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：TW104121834
申请日：2015-07-06
申请人： 日商迪思科股份有限公司 , DISCO CORPORATION
发明人： 松田智人 , MATSUDA, TOMOHITO , 根賀亮平 , NEGA, RYOHEI , 生島充 , IKUSHIMA, MITSURU
IPC分类号： B24B55/00 , B24B41/06 , F04D29/66 , H01L21/304
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公开(公告)号：TWI597129B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW102137753
申请日：2013-10-18
发明人： 馮傑森哲謙 , FUNG, JASON GARCHEUNG , 巴特菲爾德保羅D , BUTTERFIELD, PAUL D.
IPC分类号： B24B53/017 , B24B55/00 , B24B37/20 , H01L21/304
CPC分类号： B24B53/017 , B24B41/007
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公开(公告)号：TW201716185A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW104137381
申请日：2015-11-12
发明人： 張詠棋 , CHANG, YUNG CHI , 鍾允睿 , CHUNG, YUN JUI , 鄭傑 , CHENG, CHIEH , 林國暐 , LIN, GUO WEI
IPC分类号： B24B55/00
摘要： 一種減震裝置，其係應用於一研磨機台，該研磨機台具有一工件夾具，該減震裝置包含有：一研磨減震模組，其具有：一第一方向單元，其係該研磨機台設置；一第二方向單元；一連動單元，其係穿設於該第一方向單元與該第二方向單元；以及一驅動單元，其係耦接該連動單元；以及一滾刀減震模組，其具有：一支撐單元，其係設於該工件夾具之間；以及一拉動單元，其係耦接該支撐單元與該研磨機台。
简体摘要： 一种减震设备，其系应用于一研磨机台，该研磨机台具有一工件夹具，该减震设备包含有：一研磨减震模块，其具有：一第一方向单元，其系该研磨机台设置；一第二方向单元；一连动单元，其系穿设于该第一方向单元与该第二方向单元；以及一驱动单元，其系耦接该连动单元；以及一滚刀减震模块，其具有：一支撑单元，其系设于该工件夹具之间；以及一拉动单元，其系耦接该支撑单元与该研磨机台。
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