公开(公告)号：US20090297810A1

公开(公告)日：2009-12-03

申请号：US12130135

申请日：2008-05-30

申请人： David M. Fiscus ,  Danny Van Hoyweghen ,  X. Christinia Lu ,  Alan A. Galuska

发明人： David M. Fiscus ,  Danny Van Hoyweghen ,  X. Christinia Lu ,  Alan A. Galuska

IPC分类号： B32B27/32 ,  B29C45/16

CPC分类号： B32B27/32 ,  B32B5/02 ,  B32B15/04 ,  B32B21/04 ,  B32B27/08 ,  B32B27/18 ,  B32B27/20 ,  B32B27/327 ,  B32B29/002 ,  B32B2255/00 ,  B32B2264/10 ,  B32B2270/00 ,  B32B2307/4026 ,  B32B2307/518 ,  B32B2307/54 ,  B32B2439/70 ,  B32B2439/80 ,  B32B2555/00 ,  B32B2555/02 ,  C08F4/65912 ,  C08F4/65916 ,  C08J5/18 ,  C08J2323/08 ,  C08F210/16 ,  C08F210/14 ,  C08F2500/26 ,  C08F4/65925

摘要： This invention relates to a polyethylene film having a MD 1% Secant Modulus of 220 MPa or more and an MD Elmendorf Tear of Y g/micron, where Y≧−0.4515(Dart Drop in g/micron)+33.3 g/microns, wherein the MD Elmendorf tear is at least 11.8 g/micron.

摘要翻译： 本发明涉及具有220MPa或更高的MD 1％正割模量和Yg /微米的MD Elmendorf撕裂的聚乙烯膜，其中Y> = -0.4515（滴/ g /微米）+33.3g / 其中MD Elmendorf撕裂度至少为11.8g /微米。