公开(公告)号：US20150370177A1

公开(公告)日：2015-12-24

申请号：US14839663

申请日：2015-08-28

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： Erwin John VAN ZWET ,  Pieter Willem Herman DE JAGER ,  Johannes ONVLEE ,  Erik Christiaan FRITZ

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70366 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70391 ,  G03F7/704 ,  G03F7/70491 ,  G03F7/70883

Abstract: A lithographic apparatus having an optical column capable of creating a pattern on a target portion of a substrate is disclosed. The optical column may have a self-emissive contrast device configured to emit a beam, and a projection system configured to project the beam onto the target portion. The apparatus may also have an actuator to move the optical column or a part thereof with respect to the substrate. The apparatus may be constructed to reduce the optical effect of density variation in a medium around the moving part of the optical column on the beam.

Abstract translation: 公开了一种具有能够在基板的目标部分上形成图案的光学柱的光刻设备。 光学柱可以具有被配置为发射光束的自发射对比度装置，以及被配置为将光束投射到目标部分上的投影系统。 该装置还可以具有致动器以相对于基板移动光学柱或其一部分。 该装置可以被构造成减小在光束上的光学柱的移动部分周围的介质中的密度变化的光学效应。