公开(公告)号：US06552350B2

公开(公告)日：2003-04-22

申请号：US09760340

申请日：2001-01-12

申请人： Edwin G. Haas ,  Robert M Gutowski ,  Vincent S. Calia

发明人： Edwin G. Haas ,  Robert M Gutowski ,  Vincent S. Calia

IPC分类号： H05H134

CPC分类号： H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  F25J2205/20 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/006 ,  H05G2/008

摘要： A method for providing a lithographic light source is provided that includes producing a process fluid plume. A coaxial shielding fluid is produced around the process fluid plume. A plasma is generated by providing an energy source that impinges on the process fluid plume.

公开(公告)号：US06190835B1

公开(公告)日：2001-02-20

申请号：US09306224

申请日：1999-05-06

申请人： Edwin G. Haas ,  Robert M Gutowski ,  Vincent S. Calia

发明人： Edwin G. Haas ,  Robert M Gutowski ,  Vincent S. Calia

IPC分类号： G03C500

CPC分类号： H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  F25J2205/20 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/006 ,  H05G2/008

摘要： A method for providing a lithographic light source is provided that includes producing a process fluid plume. A coaxial shielding fluid is produced around the process fluid plume. A plasma is generated by providing an energy source that impinges on the process fluid plume.

摘要翻译： 提供了一种用于提供平版印刷光源的方法，其包括制造工艺流体羽流。 在工艺流体羽毛周围产生同轴屏蔽流体。 通过提供冲击过程流体羽流的能量源来产生等离子体。