公开(公告)号：US20070114451A1

公开(公告)日：2007-05-24

申请号：US11603228

申请日：2006-11-22

申请人： Hans Jansen ,  Sebastiaan Maria Cornelissen ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Roelof De Graaf ,  Christiaan Hoogendam ,  Hernes Jacobs ,  Martinus Hendrikus Leenders ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Bob Streefkerk ,  Jan-Gerard Van Der Toorn ,  Peter Smits ,  Franciscus Johannes Janssen ,  Michel Riepen

发明人： Hans Jansen ,  Sebastiaan Maria Cornelissen ,  Sjoerd Nicolaas Donders ,  Roelof De Graaf ,  Christiaan Hoogendam ,  Hernes Jacobs ,  Martinus Hendrikus Leenders ,  Jeroen Johannes Mertens ,  Bob Streefkerk ,  Jan-Gerard Van Der Toorn ,  Peter Smits ,  Franciscus Johannes Janssen ,  Michel Riepen

IPC分类号： G21G5/00

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/707

摘要： In an immersion lithographic apparatus, bubble formation in immersion liquid is reduced or prevented by reducing a gap size or area on a substrate table and/or covering the gap.

摘要翻译： 在浸没式光刻设备中，通过减小衬底台上的间隙尺寸或面积和/或覆盖间隙来降低或防止浸没液中的气泡形成。

公开(公告)号：US20060285096A1

公开(公告)日：2006-12-21

申请号：US11319217

申请日：2005-12-28

申请人： Johannes Henricus Jacobs ,  Nicolaas Ten Kate ,  Franciscus Johannes Janssen

发明人： Johannes Henricus Jacobs ,  Nicolaas Ten Kate ,  Franciscus Johannes Janssen

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70875

摘要： Methods and apparatus for maintaining the thermal equilibrium of a substrate and an immersion lithographic apparatus are disclosed using or having a timetable comprising information regarding the position, speed and/or acceleration of the substrate; and an evaporation controller and/or condensation controller acting to decrease localized evaporation and/or increase localized condensation in response to the information in the timetable. Evaporation of liquid from the surface of the substrate cools it down, while condensing liquid on its bottom surface heats the substrate locally.

摘要翻译： 使用或具有包括关于衬底的位置，速度和/或加速度的信息的时间表来公开用于维持衬底和浸没式光刻设备的热平衡的方法和设备; 以及响应于时间表中的信息，用于减少局部蒸发和/或增加局部冷凝的蒸发控制器和/或冷凝控制器。 从基材表面蒸发液体将其冷却下来，同时在其底部表面上冷凝液体局部加热基材。