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发明申请
MASK FABRICATION SUPPORTING METHOD, MASK BLANK PROVIDING METHOD, AND MASK BLANK DEALING SYSTEM 有权
标题翻译：掩模制造支持方法，掩蔽空白提供方法和掩蔽空白处理系统

公开(公告)号：US20120260222A1

公开(公告)日：2012-10-11

申请号：US13464147

申请日：2012-05-04

申请人： Hiroyuki ISHIDA , Tamiya AIYAMA , Koichi MARUYAMA

发明人： Hiroyuki ISHIDA , Tamiya AIYAMA , Koichi MARUYAMA

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F1/72 , C03C17/3607 , C03C17/3626 , C03C17/3649 , C03C17/3665 , C03C17/38 , C03C2218/355 , G03F1/84 , Y10T428/31616

摘要： A mask blank is provided by forming a plurality of films, including at least a thin film to be a transfer pattern, on a board. At the time of patterning a resist film of the mask blank according to pattern data, film information to check with a pattern is obtained for each of a plurality of the films.

摘要翻译： 通过在板上形成至少包括作为转印图案的薄膜的多个膜来提供掩模坯料。在根据图案数据对掩模毛坯的抗蚀剂膜进行图案化时，对于多个膜中的每一个获得用于检查图案的胶片信息。