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    Methods and fabrication tools for fabricating optical devices
    2.
    发明授权
    Methods and fabrication tools for fabricating optical devices 有权
    用于制造光学器件的方法和制造工具

    公开(公告)号：US09052597B2

    公开(公告)日：2015-06-09

    申请号：US13856621

    申请日：2013-04-04

    申请人： HUMBOLDT-UNIVERSITÄT zu BERLIN ,  KARLSRUHER INSTITUT FÜR TECHNOLOGIE

    发明人： Andreas Schell ,  Joachim Fischer ,  Johannes Kaschke ,  Oliver Benson ,  Martin Wegener

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/00 ,  G02B6/138

    CPC分类号： G03F7/20 ,  G02B6/138 ,  G03F7/0005

    摘要： An embodiment of the present invention relates to a method of fabricating an optical device, the method comprising the steps of: depositing a photoresist layer on a carrier, said photoresist layer containing at least one optical component, determining the position of the at least one optical component inside the photoresist layer before exposing the photoresist layer to a first radiation, said first radiation being capable of transforming the photoresist layer from an unmodified state to a modified state, elaborating a device pattern based on the position of the at least one optical component, and fabricating the elaborated device pattern by locally exposing the photoresist layer to the first radiation and locally transforming the photoresist layer from the unmodified state to the modified state.

    摘要翻译： 本发明的实施例涉及一种制造光学器件的方法，所述方法包括以下步骤：在载体上沉积光致抗蚀剂层，所述光致抗蚀剂层包含至少一个光学部件，确定所述至少一个光学器件的位置 在将光致抗蚀剂层暴露于第一辐射之前，光致抗蚀剂层内部的部件，所述第一辐射能够将光致抗蚀剂层从未修改状态转变到修改状态，基于至少一个光学部件的位置来详细描述器件图案， 以及通过将所述光致抗蚀剂层局部暴露于所述第一辐射并将所述光致抗蚀剂层局部地从所述未修改状态转变为所述修改状态来制造所述精细化的器件图案。