公开(公告)号：US06869671B1

公开(公告)日：2005-03-22

申请号：US10449618

申请日：2003-06-02

申请人： Michael M. Crouse ,  Albert E. Miller ,  Juan Jiang ,  David T. Crouse ,  Subash C. Basu

发明人： Michael M. Crouse ,  Albert E. Miller ,  Juan Jiang ,  David T. Crouse ,  Subash C. Basu

IPC分类号： B32B3/00

CPC分类号： G01N27/30 ,  Y10S977/856 ,  Y10S977/888 ,  Y10T428/12528 ,  Y10T428/12611 ,  Y10T428/1266 ,  Y10T428/12667 ,  Y10T428/12674 ,  Y10T428/12736 ,  Y10T428/12743 ,  Y10T428/1275 ,  Y10T428/12764 ,  Y10T428/12806 ,  Y10T428/12861 ,  Y10T428/12875 ,  Y10T428/12889 ,  Y10T428/24917 ,  Y10T428/249953 ,  Y10T428/249956 ,  Y10T428/249967 ,  Y10T428/24997 ,  Y10T428/249977 ,  Y10T428/249978 ,  Y10T428/249979 ,  Y10T428/24998 ,  Y10T428/249982 ,  Y10T428/249985 ,  Y10T428/249987 ,  Y10T428/24999 ,  Y10T428/31678

摘要： A thin film based nanoporous alumina template has been developed which allows the in situ removal of an electrically insulating alumina barrier layer at the pore bases. This barrier free nanoporous system has great utility for electrodeposition of a wide variety of nanowire materials. An exemplary multilayer thin film precursor is provided comprising Al (anodization layer), Ti (diffusion barrier) and Pt (active electrode) on a Si substrate. Aluminum anodization in sulfuric acid with a subsequent applied voltage ramping program produces a Pt electrode at the base of the nanopores without the additional steps of alumina removal, barrier layer dissolution, and metal deposition onto the pore bottoms.

摘要翻译： 已经开发了一种基于薄膜的纳米多孔氧化铝模板，其允许在孔底部原位去除电绝缘氧化铝阻挡层。 这种无障碍纳米孔系统对于各种纳米线材料的电沉积具有很大的实用价值。 在Si衬底上提供了包括Al（阳极氧化层），Ti（扩散阻挡）和Pt（有源电极）的示例性多层薄膜前体。 硫酸中的阳极氧化阳极氧化随后的施加电压斜坡程序在纳米孔的底部产生Pt电极，而不需要额外的氧化铝去除步骤，阻挡层溶解和金属沉积到孔底部。