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1.

发明申请
PELLICLE FILM INCLUDING GRAPHITE-CONTAINING THIN FILM FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 审中-公开

公开(公告)号：US20180259847A1

公开(公告)日：2018-09-13

申请号：US15977283

申请日：2018-05-11

申请人： Samsung Electronics Co., Ltd.

发明人： Mun Ja KIM , Ji-beom YOO , Seul-gi KIM , Sang-jin CHO , Myung-shik CHANG , Jang-dong YOU

IPC分类号： G03F1/64 , G03F1/62 , G03F1/22

CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/22 , G03F1/62

摘要： A pellicle film for extreme ultraviolet (EUV) lithography includes a graphite-containing thin film.

2.

发明申请
PELLICLE FILM INCLUDING GRAPHITE-CONTAINING THIN FILM FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY 有权
标题翻译：薄膜包括用于极端超紫外光刻的含石墨的薄膜

公开(公告)号：US20160282712A1

公开(公告)日：2016-09-29

申请号：US15034014

申请日：2014-06-03

申请人： SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. , RESEARCH & BUSINESS FOUNDATION SUNGKYUNKWAN UNIVERSITY , FINE SEMITECH CORP.

发明人： Mun Ja KIM , Ji-beom YOO , Seul-gi KIM , Sang-jin CHO , Myung-shik CHANG , Jang-dong YOU

IPC分类号： G03F1/64 , G03F1/62

CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/22 , G03F1/62

摘要： A pellicle film for extreme ultraviolet (EUV) lithography includes graphite-containing thin film.

摘要翻译： 用于极紫外（EUV）光刻的防护薄膜包括含石墨的薄膜。