公开(公告)号：US20180259847A1

公开(公告)日：2018-09-13

申请号：US15977283

申请日：2018-05-11

Applicant: Samsung Electronics Co., Ltd.

Inventor： Mun Ja KIM ,  Ji-beom YOO ,  Seul-gi KIM ,  Sang-jin CHO ,  Myung-shik CHANG ,  Jang-dong YOU

IPC: G03F1/64 ,  G03F1/62 ,  G03F1/22

CPC classification number: G03F1/64 ,  G03F1/22 ,  G03F1/62

Abstract: A pellicle film for extreme ultraviolet (EUV) lithography includes a graphite-containing thin film.

公开(公告)号：US20160282712A1

公开(公告)日：2016-09-29

申请号：US15034014

申请日：2014-06-03

Applicant: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. ,  RESEARCH & BUSINESS FOUNDATION SUNGKYUNKWAN UNIVERSITY ,  FINE SEMITECH CORP.

Inventor： Mun Ja KIM ,  Ji-beom YOO ,  Seul-gi KIM ,  Sang-jin CHO ,  Myung-shik CHANG ,  Jang-dong YOU

IPC: G03F1/64 ,  G03F1/62

CPC classification number: G03F1/64 ,  G03F1/22 ,  G03F1/62

Abstract: A pellicle film for extreme ultraviolet (EUV) lithography includes graphite-containing thin film.

Abstract translation: 用于极紫外（EUV）光刻的防护薄膜包括含石墨的薄膜。

公开(公告)号：US20130202993A1

公开(公告)日：2013-08-08

申请号：US13827542

申请日：2013-03-14

Applicant: SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. ,  FINE SEMITECH CORP.

Inventor： Jung-jin KIM ,  Bum-hyun AN ,  Chan-uk JEON ,  Jang-dong YOU ,  Sung-wan KIM ,  Ik-jun KIM ,  Jae-hyuck CHOI ,  Han-shin LEE

IPC: G03F1/00

CPC classification number: G03F1/142 ,  C25D11/024 ,  C25D11/026 ,  C25D11/04 ,  C25D11/06 ,  C25D11/18 ,  G03F1/64 ,  Y10T428/13 ,  Y10T428/1317

Abstract: A pellicle frame, including aluminum, aluminum oxide, and a transition metal.

Abstract translation: 防护薄膜组件框架，包括铝，氧化铝和过渡金属。