公开(公告)号：US08782572B1

公开(公告)日：2014-07-15

申请号：US13802587

申请日：2013-03-13

Applicant: United Microelectronics Corp.

Inventor： Sheng-Yuan Huang ,  Chia-Wei Huang ,  Ming-Jui Chen

IPC: G06F17/50

CPC classification number: G03F1/36 ,  G03F1/70

Abstract: A method of optical proximity correction (OPC) includes the following steps. First, a layout pattern is provided to a computer system. Subsequently, the layout pattern is classified into a first sub-layout pattern and a second sub-layout pattern. Then, an OPC calculation based on a first OPC model is performed on the first sub-layout pattern so as to form a corrected first sub-layout pattern and an OPC calculation based on a second OPC model is performed on the second sub-layout pattern so as to form a corrected second sub-layout pattern. Afterward, the corrected first sub-layout pattern and the corrected second sub-layout pattern are output from the computer system into a photomask.

Abstract translation: 光学邻近校正（OPC）的方法包括以下步骤。 首先，向计算机系统提供布局图案。 随后，将布局图案分为第一子布局图案和第二子布局图案。 然后，对第一子布局图案执行基于第一OPC模型的OPC计算，以形成校正的第一子布局图案，并且对第二子布局图案执行基于第二OPC模型的OPC计算 以形成校正的第二子布局图案。 之后，将校正的第一子布局图案和校正的第二子布局图案从计算机系统输出到光掩模中。