公开(公告)号：US5039595A

公开(公告)日：1991-08-13

申请号：US391253

申请日：1989-08-09

Applicant: Reinhold Schwalm ,  Horst Binder

Inventor： Reinhold Schwalm ,  Horst Binder

IPC: G03F7/32

CPC classification number: G03F7/322

Abstract: An aqueous developer solution contains, as a water-soluble basic compound, a compound of the general formula (I) ##STR1## where R.sup.1 to R.sup.5 are identical or different and are each H, OH, hydroxyalkyl, alkoxy or alkyl.It is suitable for developing positive-working photoresists.

Abstract translation: 水性显影剂溶液含有通式（I）的化合物，其中R 1至R 5相同或不同，各自为H，OH，羟基烷基，烷氧基或烷基。 适合开发正性光刻胶。

公开(公告)号：US5034305A

公开(公告)日：1991-07-23

申请号：US422454

申请日：1989-10-17

Applicant: Son Nguyen-Kim ,  Gerhard Hoffmann ,  Reinhold Schwalm ,  Horst Binder

Inventor： Son Nguyen-Kim ,  Gerhard Hoffmann ,  Reinhold Schwalm ,  Horst Binder

IPC: G03F7/039 ,  C08F4/00 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027 ,  H01L21/30

CPC classification number: G03F7/0045

Abstract: The invention relates to a radiation-sensitive mixture essentially consisting of(a) a water-insoluble binder or binder mixture which is soluble in aqueous alkaline solutions,(b) a compound which upon irradiation forms a strong acid and(c) one or more organic compounds which inhibit the solubility of (a) in aqueous alkaline solutions,wherein the organic compound (c) is a .beta.-ketoacide ester.This radiation-sensitive mixture may be used to prepare photoresists.

Abstract translation: 本发明涉及一种辐射敏感性混合物，其基本上由（a）可溶于碱性水溶液的水不溶性粘合剂或粘合剂混合物组成，（b）在照射时形成强酸的化合物和（c）一种或多种 抑制（a）在碱性水溶液中的溶解度的有机化合物，其中有机化合物（c）是β-酮酸酯。 该辐射敏感性混合物可用于制备光致抗蚀剂。

公开(公告)号：US4822866A

公开(公告)日：1989-04-18

申请号：US142930

申请日：1988-01-12

Applicant: Reinhold Schwalm ,  Horst Binder

Inventor： Reinhold Schwalm ,  Horst Binder

IPC: G03C1/72 ,  C08F20/34 ,  C08F220/36 ,  C08F220/42 ,  C08F220/48 ,  C08F222/22 ,  G03F7/039 ,  G03C1/70

CPC classification number: G03F7/039 ,  C08F220/36 ,  C08F220/42 ,  C08F222/22

Abstract: Copolymers containing from 5 to 50 mol % of monomers having o-nitrocarbinol ester groups, from 94 to 30 mol % of methacrylonitrile, from 1 to 20 mol % of olefinically unsaturated copolymerizable carboxylic acid and from 0 to 30 mol % of other copolymerizable monomers as copolymerized units are useful for fabricating semiconductor components.

Abstract translation: 含有5-50mol％具有邻硝基甲醇酯基团的单体，94-30mol％甲基丙烯腈，1-20mol％烯属不饱和可共聚羧酸和0-30mol％其它可共聚单体的共聚物， 共聚单元可用于制造半导体组件。

公开(公告)号：US4812542A

公开(公告)日：1989-03-14

申请号：US130291

申请日：1987-12-08

Applicant: Reinhold Schwalm ,  Horst Binder

Inventor： Reinhold Schwalm ,  Horst Binder

IPC: C08F12/00 ,  C08F20/34 ,  C08F22/32 ,  C08F212/14 ,  C08F220/36 ,  C08F222/00 ,  C08F222/22 ,  C08F222/32 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F26/06

CPC classification number: G03F7/039 ,  C08F212/14 ,  C08F220/36

Abstract: Copolymers containing from 5 to 50 mol % of monomers having o-nitrocarbinol ester groups, from 95 to 50 mol % of O-substituted p-hydroxystyrene and from 0 to 30 mol % of other copolymerizable monomers are useful for producing positive-working photoresists and light-sensitive coating materials.

Abstract translation: 含有5-50mol％具有邻硝基甲醇酯基团的单体，95-50mol％O-取代对羟基苯乙烯和0-30mol％其它可共聚单体的共聚物可用于生产正性光刻胶和 感光涂料。