公开(公告)号：US20120250144A1

公开(公告)日：2012-10-04

申请号：US13436338

申请日：2012-03-30

申请人： Dirk Heinrich EHM ,  Axel DOCHNAHL ,  Gisela VON BLANCKENHAGEN

发明人： Dirk Heinrich EHM ,  Axel DOCHNAHL ,  Gisela VON BLANCKENHAGEN

IPC分类号： G02B5/08

CPC分类号： G03F7/70958 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G02B5/0825 ,  G02B5/0891 ,  G03F1/24 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70925 ,  G03F7/70941 ,  G03F7/70983 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/067

摘要： In order to reduce the adverse influence of contamination composed of silicon dioxide, hydrocarbons and/or metals within an EUV lithography apparatus on the reflectivity, a reflective optical element (50) for the extreme ultraviolet wavelength range having a reflective surface (59) is proposed, wherein the multilayer coating of the reflective surface (59) has a topmost layer (56) composed of a fluoride. The contaminations mentioned, which deposit on the reflective optical element (50) during the operation of the EUV lithography apparatus, are converted into volatile compounds by the addition of at least one of the substances mentioned hereinafter: atomic hydrogen, molecular hydrogen, perfluorinated alkanes such as e.g. tetrafluoromethane, oxygen, nitrogen and/or helium.

摘要翻译： 为了减少由EUV光刻设备内的二氧化硅，碳氢化合物和/或金属构成的污染物对反射率的不利影响，提出了一种具有反射表面（59）的用于极紫外波长范围的反射光学元件（50） ，其中所述反射表面（59）的多层涂层具有由氟化物构成的最顶层（56）。 在EUV光刻设备的操作期间沉积在反射光学元件（50）上的污染物通过添加至少一种以下提及的物质转化为挥发性化合物：原子氢，分子氢，全氟化烷烃 例如 四氟甲烷，氧，氮和/或氦。

公开(公告)号：US20110043774A1

公开(公告)日：2011-02-24

申请号：US12883247

申请日：2010-09-16

申请人： Stefan HEMBACHER ,  Dieter Kraus ,  Dirk Heinrich EHM ,  Stefan-Wolfgang Schmidt ,  Stefan Koehler ,  Almut Czap ,  Stefan Wiesner ,  Hin Yiu Anthony Chung

发明人： Stefan HEMBACHER ,  Dieter Kraus ,  Dirk Heinrich EHM ,  Stefan-Wolfgang Schmidt ,  Stefan Koehler ,  Almut Czap ,  Stefan Wiesner ,  Hin Yiu Anthony Chung

IPC分类号： G03B27/52 ,  G21G5/00

CPC分类号： G03F7/70925

摘要： In order to clean optical components (35) inside an EUV lithography device in a gentle manner, a cleaning module for an EUV lithography device includes a supply line for molecular hydrogen and a heating filament for producing atomic hydrogen and hydrogen ions for cleaning purposes. The cleaning module also has an element, (33) arranged to apply an electric and/or magnetic field, downstream of the heating filament (29) in the direction of flow of the hydrogen (31, 32). The element can be designed as a deflection unit, as a filter unit and/or as an acceleration unit for the ion beam (32).

摘要翻译： 为了以平缓的方式清洗EUV光刻设备内的光学元件（35），用于EUV光刻设备的清洁模块包括用于分子氢的供应管线和用于产生原子氢和氢离子用于清洁目的的加热丝。 清洁模块还具有一个元件（33），其布置成沿着氢气（31,32）的流动方向在加热丝（29）的下游施加电场和/或磁场。 元件可以设计为偏转单元，作为过滤器单元和/或用作离子束（32）的加速单元。