公开(公告)号：US08111376B2

公开(公告)日：2012-02-07

申请号：US12130699

申请日：2008-05-30

申请人： Michael Adel ,  John Fielden ,  Amir Widmann ,  John Robinson ,  Dongsub Choi

发明人： Michael Adel ,  John Fielden ,  Amir Widmann ,  John Robinson ,  Dongsub Choi

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70258 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70783

摘要： A method and apparatus for process control in a lithographic process are described. Metrology may be performed on a substrate either before or after performing a lithographic patterning process on the substrate. One or more correctables to the lithographic patterning process may be generated based on the metrology. The lithographic patterning process performed on the substrate (or a subsequent substrate) may be adjusted with the correctables.

摘要翻译： 描述了光刻工艺中的工艺控制的方法和装置。 在基板上执行光刻图案化处理之前或之后，可以在基板上进行计量。 可以基于计量产生光刻图案化过程的一个或多个可校正的方法。 可以用可校正的方法来调整在衬底（或随后的衬底）上执行的光刻图案化工艺。