公开(公告)号：US20140076847A1

公开(公告)日：2014-03-20

申请号：US13857554

申请日：2013-04-05

Applicant: SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.

Inventor： Jeong-Won Kim ,  Min Kang ,  Bong-Yeon Kim ,  Jin-Ho Ju ,  Dong-Min Kim ,  Tae-Gyun Kim ,  Joo-Kyoung Park ,  Chul-Won Park ,  Jun-Hyuk Woo ,  Won-Young Lee ,  Hyun-Joo Lee ,  Eun Jeagal

IPC: G03F7/022 ,  B05D3/10

CPC classification number: G03F7/022 ,  B05D3/107 ,  B21B27/10 ,  B21B45/02 ,  G03F7/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/40

Abstract: A method of forming a metal pattern is disclosed. In the method, a metal layer is formed on a base substrate. A photoresist composition is coated on the metal layer to form a coating layer. The photoresist composition includes a binder resin, a photo-sensitizer, a mercaptopropionic acid compound and a solvent. The coating layer is exposed to a light. The coating layer is partially removed to form a photoresist pattern. The metal layer is patterned by using the photoresist pattern as a mask.

Abstract translation: 公开了一种形成金属图案的方法。 在该方法中，在基底基板上形成金属层。 将光致抗蚀剂组合物涂覆在金属层上以形成涂层。 光致抗蚀剂组合物包括粘合剂树脂，光敏剂，巯基丙酸化合物和溶剂。 涂层被曝光。 部分去除涂层以形成光致抗蚀剂图案。 通过使用光致抗蚀剂图案作为掩模来对金属层进行构图。