公开(公告)号：US5115095A

公开(公告)日：1992-05-19

申请号：US683713

申请日：1991-04-11

申请人： Edward D. Babich ,  Jeffrey D. Gelorme ,  Michael Hatzakis ,  Jane M. Shaw ,  Kevin J. Stewart ,  David F. Witman

发明人： Edward D. Babich ,  Jeffrey D. Gelorme ,  Michael Hatzakis ,  Jane M. Shaw ,  Kevin J. Stewart ,  David F. Witman

IPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/029 ,  G03F7/075

CPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/029 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/0757

摘要： An ultraviolet light sensitive photoinitiator composition that includes at least one anthracene derivative represented by the formula: ##STR1## wherein X is CH.dbd.CH.sub.2 or --(--CH.sub.2 --)--.sub.n O--(--R) with R being H or ##STR2## wherein each R.sup.I, R.sup.II and R.sup.III individually is selected from the group of alkyl, alkenyl, aryl, ##STR3## wherein each R.sup.IV, R.sup.V and R.sup.VI individually is selected from the group of alkyl, alkenyl and aryl; wherein m is an integer of 0 to 4, p is an integer of 0 to 4; and is n being 1 to 2; and onium salt; and an organic solvent. The composition is used for cationic polymerization of cationic polymerizable materials including in the formation of a pattern of a photoresist. Also certain novel epoxy-functionalized organosilicons are provided that are sensitive to radiation including E-beam radiation and exhibit resistance to oxygen reactive ion etching.

摘要翻译： 一种紫外光敏感性光引发剂组合物，其包含至少一种由下式表示的蒽衍生物：其中X为CH = CH 2或 - （ - CH 2 - ） - n O - （ - R），其中R为H或其中 每个R 1，R II和R III分别选自烷基，烯基，芳基，＆lt; IMAGE＆gt;其中每个RIV，RV和RVI分别选自烷基，烯基和芳基; 其中m为0〜4的整数，p为0〜4的整数。 n为1〜2; 和盐; 和有机溶剂。 该组合物用于阳离子可聚合材料的阳离子聚合，包括形成光致抗蚀剂图案。 还提供了一些对辐射敏感的环氧官能化有机硅氧烷，包括电子束辐射，并表现出对氧反应离子蚀刻的抗性。