公开(公告)号：US08394280B1

公开(公告)日：2013-03-12

申请号：US12614210

申请日：2009-11-06

申请人： Dujiang Wan ,  Hai Sun ,  Hongping Yuan ,  Ling Wang ,  Xianzhong Zeng

发明人： Dujiang Wan ,  Hai Sun ,  Hongping Yuan ,  Ling Wang ,  Xianzhong Zeng

IPC分类号： B44C1/22

CPC分类号： G11B5/3163 ,  G11B5/1278 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/0337

摘要： Methods of patterning a material are disclosed. A first resist pattern is formed on a field. A protective layer is formed over the first resist pattern and at least a portion of the field. A second resist pattern is formed over a portion of the protective layer. A portion of a material to be patterned deposited adjacent to the first and second resist patterns is removed.

摘要翻译： 公开了图案化材料的方法。 在场上形成第一抗蚀剂图案。 在第一抗蚀剂图案和场的至少一部分上形成保护层。 在保护层的一部分上形成第二抗蚀剂图案。 除去与第一和第二抗蚀剂图案相邻的被图案化沉积的材料的一部分。

公开(公告)号：US07910267B1

公开(公告)日：2011-03-22

申请号：US12333699

申请日：2008-12-12

申请人： Xianzhong Zeng ,  Hai Sun ,  Hongping Yuan ,  Dujiang Wan ,  Ling Wang

发明人： Xianzhong Zeng ,  Hai Sun ,  Hongping Yuan ,  Dujiang Wan ,  Ling Wang

IPC分类号： G03F1/00

CPC分类号： G03F1/36

摘要： An optical mask for providing a pattern for portion of an electronic device, such as a magnetic recording transducer, is disclosed. The optical mask includes a device feature and at least one detached correction feature. The device feature includes a corner corresponding to a device corner of the pattern. The device corner has an angle of greater than zero degrees and less than one hundred eighty degrees. The at least one detached correction feature resides in proximity to but is physically separated from the corner. Each of the at least one detached correction feature is sub-resolution.

摘要翻译： 公开了一种用于为诸如磁记录换能器的电子设备的一部分提供图案的光掩模。 光学掩模包括设备特征和至少一个分离的校正特征。 设备特征包括与图案的设备角对应的角。 设备角具有大于零度且小于百八十度的角度。 至少一个分离的校正特征位于附近，但是与角部物理分离。 至少一个分离的校正特征中的每一个都是子分辨率。