公开(公告)号：US20090081591A1

公开(公告)日：2009-03-26

申请号：US11861064

申请日：2007-09-25

申请人： Hsiao-Tzu Lu ,  Keui Shun Chen ,  Tsiao-Chen Wu ,  Vencent Chang ,  George Liu

发明人： Hsiao-Tzu Lu ,  Keui Shun Chen ,  Tsiao-Chen Wu ,  Vencent Chang ,  George Liu

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/405 ,  G03F7/0035

摘要： The method of patterning a photosensitive layer includes providing a substrate including a first layer formed thereon, treating the substrate including the first layer with cations, forming a first photosensitive layer over the first layer, patterning the first photosensitive layer to form a first pattern, treating the first pattern with cations, forming a second photosensitive layer over the treated first pattern, patterning the second photosensitive layer to form a second pattern, and processing the first layer using the first and second patterns as a mask.

摘要翻译： 图案化感光层的方法包括提供包括其上形成的第一层的基板，用阳离子处理包括第一层的基板，在第一层上形成第一感光层，图案化第一感光层以形成第一图案，处理 具有阳离子的第一图案，在经处理的第一图案上形成第二感光层，图案化第二感光层以形成第二图案，并且使用第一图案和第二图案作为掩模来处理第一层。

公开(公告)号：US20130091481A1

公开(公告)日：2013-04-11

申请号：US13646664

申请日：2012-10-06

申请人： Yu-Chi Su ,  Ming-I Lai ,  Hsiao-Tzu Lu

发明人： Yu-Chi Su ,  Ming-I Lai ,  Hsiao-Tzu Lu

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G06F17/5068 ,  G06F17/5063

摘要： A computer-implemented method is disclosed for layout pattern or layout constraint reuse by identifying sub-circuits with identical or similar schematic structure based on a topology comparison strategy. The selected sub-circuit is transformed into a topology representing the relative positions among the instances of the selected sub-circuit. Based on the topology, one or more sub-circuits with identical or similar topologies in a predefined scope of a schematic are recognized and identified. Accordingly, the layout or the layout constraint of the selected sub-circuit is copied and associated to each of the identified sub-circuits. Furthermore, once the sub-circuits are identified, they can be listed on a user interface with notations to allow users to confirm each of the identified sub-circuits respectively.

摘要翻译： 公开了一种基于拓扑比较策略的通过识别具有相同或相似示意图结构的子电路的布局图案或布局约束重用的计算机实现的方法。 所选择的子电路被转换为表示所选子电路的实例之间的相对位置的拓扑。 基于拓扑，识别并识别在原理图的预定义范围内具有相同或相似拓扑的一个或多个子电路。 因此，所选择的子电路的布局或布局约束被复制并与每个所识别的子电路相关联。 此外，一旦子电路被识别，它们可以被列在具有符号的用户界面上，以允许用户分别确认每个所识别的子电路。

公开(公告)号：US08124323B2

公开(公告)日：2012-02-28

申请号：US11861064

申请日：2007-09-25

申请人： Hsiao-Tzu Lu ,  Keui Shun Chen ,  Tsiao-Chen Wu ,  Vencent Chang ,  George Liu

发明人： Hsiao-Tzu Lu ,  Keui Shun Chen ,  Tsiao-Chen Wu ,  Vencent Chang ,  George Liu

IPC分类号： G03F7/26

CPC分类号： G03F7/405 ,  G03F7/0035

摘要： The method of patterning a photosensitive layer includes providing a substrate including a first layer formed thereon, treating the substrate including the first layer with cations, forming a first photosensitive layer over the first layer, patterning the first photosensitive layer to form a first pattern, treating the first pattern with cations, forming a second photosensitive layer over the treated first pattern, patterning the second photosensitive layer to form a second pattern, and processing the first layer using the first and second patterns as a mask.

摘要翻译： 图案化感光层的方法包括提供包括其上形成的第一层的基板，用阳离子处理包括第一层的基板，在第一层上形成第一感光层，图案化第一感光层以形成第一图案，处理 具有阳离子的第一图案，在经处理的第一图案上形成第二感光层，图案化第二感光层以形成第二图案，并且使用第一图案和第二图案作为掩模来处理第一层。