公开(公告)号：US06995831B2

公开(公告)日：2006-02-07

申请号：US11068895

申请日：2005-03-02

Applicant: Leon Martin Levasier ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Ingo Dirnstorfer ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Stefan Geerte Kruijswijk ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Irwan Dani Setija ,  Hoite Pieter Theodoor Tolsma

Inventor： Leon Martin Levasier ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Ingo Dirnstorfer ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Stefan Geerte Kruijswijk ,  Henricus Petrus Maria Pellemans ,  Irwan Dani Setija ,  Hoite Pieter Theodoor Tolsma

IPC: G03B27/42 ,  G03F1/00 ,  G03F9/00

CPC classification number: G03F9/7003 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7076

Abstract: A lithographic apparatus according to one embodiment of the invention includes an alignment subsystem configured to align the substrate on the substrate table relative to the patterning structure. The alignment structure comprises a non-periodic feature which may be detectable as e.g. a capture position or a check position using a reference grating in the alignment subsystem. The non-periodic feature may cause a phase effect in the detected signal of the alignment subsystem or an amplitude effect.

Abstract translation: 根据本发明的一个实施例的光刻设备包括对准子系统，该对准子系统被配置为相对于图案化结构对准衬底台上的衬底。 对准结构包括非周期性特征，其可以被检测为例如。 在对准子系统中使用参考光栅的捕获位置或检查位置。 非周期性特征可能导致对准子系统的检测信号中的相位效应或幅度效应。