公开(公告)号：US4947085A

公开(公告)日：1990-08-07

申请号：US173147

申请日：1988-03-25

申请人： Koichiro Nakanishi ,  Hiroki Ootera ,  Minoru Hanazaki ,  Toshihiko Minami

发明人： Koichiro Nakanishi ,  Hiroki Ootera ,  Minoru Hanazaki ,  Toshihiko Minami

IPC分类号： H01J37/32

CPC分类号： H01J37/32623 ,  H01J37/3266 ,  H01J37/32678

摘要： A plasma processor wherein a substrate is processed using a plasma in a reaction gas generated through electron cyclotron resonance includes a magnetostatic field generator for generating a magnetostatic field, an electric field generator for generating an r.f. electric field perpendicular to the magnetostatic field, and a moving magnetic field generator for generating a moving magnetic field which intersects the magnetostatic field between the magnetostatic field generator and the substrate.

摘要翻译： 一种等离子体处理器，其中使用通过电子回旋共振产生的反应气体中的等离子体处理衬底包括用于产生静磁场的静磁场发生器，用于产生r.f的电场发生器。 垂直于静磁场的电场和用于产生与静磁场产生器和衬底之间的静磁场相交的移动磁场的移动磁场发生器。