公开(公告)号：US20050213842A1

公开(公告)日：2005-09-29

申请号：US10814991

申请日：2004-03-26

申请人： Bradley Aldrich ,  Nigel Paver ,  Jianwei Liu

发明人： Bradley Aldrich ,  Nigel Paver ,  Jianwei Liu

IPC分类号： G06K9/40 ,  G06T3/40 ,  H04N7/26 ,  H04N7/36

CPC分类号： G06T3/4023 ,  G06T3/4007 ,  H04N19/42 ,  H04N19/51

摘要： According to some embodiments, a Single-Instruction/Multiple-Data (SIMD) averaging instruction is used to process pixels of image data. The averaging instruction generates a set of four-pixel averages, where each average is generated from two pixels in a first source register and two pixels in a second source register. The first source register contains a plurality of pixels from a first row of pixels and the second source register contains a plurality of pixels from a second row. In one embodiment, the first and second rows are adjacent rows in an image and the averaging instruction is used, for example, to down-scale an image, perform color conversion, and the like. In another embodiment, the first and second rows are from different images and the averaging instruction is used, for example, in motion estimation for video encoding, in motion compensation for video decoding, and the like.

摘要翻译： 根据一些实施例，使用单指令/多数据（SIMD）平均指令来处理图像数据的像素。 平均指令产生一组四像素平均值，其中每个平均值由第一源寄存器中的两个像素和第二源寄存器中的两个像素生成。 第一源寄存器包含来自第一行像素的多个像素，并且第二源寄存器包含来自第二行的多个像素。 在一个实施例中，第一行和第二行是图像中的相邻行，并且使用平均指令来例如缩小图像，执行颜色转换等。 在另一个实施例中，第一行和第二行来自不同的图像，并且平均指令用于例如用于视频编码的运动估计，用于视频解码的运动补偿等。

公开(公告)号：US06753130B1

公开(公告)日：2004-06-22

申请号：US10047105

申请日：2002-01-17

申请人： Jianwei Liu ,  David Shiao-Min Kuo ,  Li-Ping Wang

发明人： Jianwei Liu ,  David Shiao-Min Kuo ,  Li-Ping Wang

IPC分类号： G03F700

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G03F7/427 ,  G11B5/74 ,  G11B5/743 ,  G11B5/82 ,  G11B5/8404

摘要： A method for patterning a carbon-containing substrate utilizing a patterned layer of a resist material as a mask and then safely removing the mask from the substrate without adversely affecting the substrate, comprising sequential steps of: (a) providing a substrate including a surface comprising carbon; (b) forming a thin metal layer on the substrate surface; (c) forming a layer of a resist material on the thin metal layer; (d) patterning the layer of resist material; (e) patterning the substrate utilizing the patterned layer of resist material as a pattern-defining mask; and (f) removing the mask utilizing the thin metal layer as a wet strippable layer or a plasma etch/ash stop layer.

摘要翻译： 一种利用抗蚀剂材料的图案化层作为掩模来图案化含碳衬底的方法，然后从衬底安全地除去掩模而不会不利地影响衬底，包括以下顺序的步骤：（a）提供包括表面的衬底，包括： 碳;（b）在所述基板表面上形成薄金属层;（c）在所述薄金属层上形成抗蚀剂材料层;（d）图案化所述抗蚀剂材料层;（e） 抗蚀剂材料层作为图案定义掩模; 和（f）使用薄金属层作为湿剥离层或等离子体蚀刻/灰停止层去除掩模。

公开(公告)号：US6148392A

公开(公告)日：2000-11-14

申请号：US148863

申请日：1998-09-08

申请人： Jianwei Liu

发明人： Jianwei Liu

IPC分类号： G06F7/78 ,  G06F15/00

CPC分类号： G06F7/785

摘要： An asynchronous stack apparatus and method is provided that reduces power consumption that maintains a constant response time regardless of the number of stored items. The asynchronous stack apparatus uses a token and control circuits to indicate a current tope of stack and process data input/output. The asynchronous stack apparatus includes a communication device, a plurality of storage units and a token control circuit.

摘要翻译： 提供了一种异步堆栈装置和方法，其降低功耗，维持恒定的响应时间，而不管存储的项目的数量。 异步堆栈设备使用令牌和控制电路来指示堆栈的当前顶点和过程数据输入/输出。 异步堆叠装置包括通信设备，多个存储单元和令牌控制电路。