公开(公告)号：US6140015A

公开(公告)日：2000-10-31

申请号：US209019

申请日：1998-12-10

申请人： Pushkara R. Varanasi ,  Ahmad D. Katnani ,  Mahmoud M. Khojasteh ,  Ranee W. Kwong

发明人： Pushkara R. Varanasi ,  Ahmad D. Katnani ,  Mahmoud M. Khojasteh ,  Ranee W. Kwong

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03C1/73 ,  G03F7/028

CPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/128

摘要： Acid-catalyzed positive photoresist compositions having generally improved performance (especially photoresist compositions having improved contrast (solubility differential), shrinkage and processing kinetics on radiation exposure) are obtained by use of polymers containing pendant polar-functionalized aromatic groups and acid-labile light crosslinking. The photoresist compositions also may contain a photosensitive acid-generating component as well as a solvent and possibly other auxiliary components. The polymers may contain other functional groups or components designed to impart alkaline-solubility, to provide alkaline-solubility protection in the absence of generated acid, etc.The photoresist compositions can be used to create patterned photoresist structures and further to make conductive, semiconductive or insulative structures by photolithography.

摘要翻译： 通过使用含有极性官能化的芳族基团和酸不稳定的轻交联的聚合物，可获得具有通常改进性能的酸催化的正性光致抗蚀剂组合物（特别是具有改善的对比度（溶解度差异），收缩和加工动力学的光致抗蚀剂组合物）。 光致抗蚀剂组合物还可以含有感光酸产生组分以及溶剂以及可能的其它辅助组分。 聚合物可以包含设计成赋予碱溶性的其它官能团或组分，以在不存在产生的酸等的情况下提供碱溶性保护。光致抗蚀剂组合物可用于产生图案化的光致抗蚀剂结构，并进一步制备导电，半导电或 绝缘结构通过光刻。

公开(公告)号：US5395556A

公开(公告)日：1995-03-07

申请号：US773708

申请日：1991-10-09

申请人： Kevin J. Drost ,  Pushkara R. Varanasi ,  Kwan-Yue A. Jen ,  Michael A. Drzewinski

发明人： Kevin J. Drost ,  Pushkara R. Varanasi ,  Kwan-Yue A. Jen ,  Michael A. Drzewinski

IPC分类号： C07D307/54 ,  C07D333/12 ,  C07D333/20 ,  C07D333/22 ,  C07D333/24 ,  C07D333/36 ,  C07D333/42 ,  C07D333/44 ,  C07D417/12 ,  C08L101/00 ,  G02F1/35 ,  G02F1/355 ,  G02F1/361 ,  F21V9/00 ,  C08G59/00 ,  C08G73/06

CPC分类号： C07D417/12 ,  C07D333/20 ,  C07D333/22 ,  C07D333/24 ,  C07D333/36 ,  C07D333/44 ,  G02F1/361 ,  G02F1/3612 ,  G02F1/3614 ,  G02F1/3615 ,  G02F1/3616 ,  G02F1/3617

摘要： Base polymers devoid of non-linear optical properties exhibiting second order non-linear optical properties after the covalent attachment of tricyanovinyl groups to pendant side chains of the base polymer. Methods of preparing a polymer having second order non-linear optical properties by reacting the base polymers of the present invention with tetracyanoethylene in a basic solvent at elevated temperatures.

摘要翻译： 在将三氰基乙烯基共价连接到基础聚合物的侧链之后，没有表现出二阶非线性光学性质的非线性光学性质的基础聚合物。 通过在碱性溶剂中在高温下使本发明的基础聚合物与四氰基乙烯反应制备具有二级非线性光学性质的聚合物的方法。