公开(公告)号：US06885853B2

公开(公告)日：2005-04-26

申请号：US09833438

申请日：2001-04-11

申请人： Kazim Sevens ,  Majid M. Hashemi ,  Ismail H. Ozguc

发明人： Kazim Sevens ,  Majid M. Hashemi ,  Ismail H. Ozguc

IPC分类号： H03J3/08 ,  H04B1/06

CPC分类号： H03J3/08

摘要： A receiver (22) includes an IF filter (44) and a nearby process-variant circuit (80) formed on a common semiconductor substrate (24). The actual center frequency of the IF filter (44) is determined by resistors (70, 74) and capacitors (72, 76) exhibiting imprecise values and is unlikely to equal a nominal center frequency. The process-variant circuit (80) includes a test resistor (102) and test capacitor (104) formed using the same resistor-forming and capacitor-forming processes used to form the IF filter resistors (70, 74) and capacitors (72, 76). In response a test signal (88) from the process-variant circuit (80) and a reference signal (84) from a process-invariant circuit (82), a tuning parameter for a tunable local oscillator (90) is determined so that a local oscillation signal (94) will exhibit a frequency which, when mixed with an RF signal (38) yields an IF signal (42) at the actual center frequency of the IF filter (44).

摘要翻译： 接收器（22）包括形成在公共半导体衬底（24）上的IF滤波器（44）和附近的过程变量电路（80）。 中频滤波器（44）的实际中心频率由电阻（70,74）和显示不精确值的电容器（72,76）确定，并且不太可能等于标称中心频率。 过程变量电路（80）包括使用与形成IF滤波电阻（70,74）和电容器（72,74）相同的电阻器形成和电容器形成工艺形成的测试电阻器（102）和测试电容器（104） 76）。 响应于来自过程变量电路（80）的测试信号（88）和来自过程不变电路（82）的参考信号（84），确定可调谐本地振荡器（90）的调谐参数，使得 本地振荡信号（94）将呈现频率，当与RF信号（38）混合时，IF滤波器（44）的实际中心频率产生IF信号（42）。

公开(公告)号：US20030059687A1

公开(公告)日：2003-03-27

申请号：US09960896

申请日：2001-09-21

申请人： National Scientific Corporation

发明人： El-Badawy El-Sharawy

IPC分类号： G03F009/00 ,  G03B027/42 ,  G03C005/00

CPC分类号： G03F1/32 ,  G03F7/70125 ,  G03F7/70433

摘要： A lithographic mask for use in an off-axis illumination system is provided. The mask includes a transparent substrate and a first patterned layer of an opaque material proximate to a first side of the transparent substrate. A second patterned layer is formed over the first patterned layer. The second patterned layer comprising a dielectric material configured to phase shift an exposure energy directed towards the mask. Over the second patterned layer a third patterned layer is formed. The third patterned layer is manufactured from an opaque material.

摘要翻译： 提供了一种用于离轴照明系统的光刻掩模。 掩模包括透明基板和靠近透明基板的第一侧的不透明材料的第一图案化层。 在第一图案化层上形成第二图案层。 所述第二图案层包括被配置为使朝向所述掩模的曝光能量相移的电介质材料。 在第二图案化层上形成第三图案层。 第三图案层由不透明材料制成。