公开(公告)号：US4600469A

公开(公告)日：1986-07-15

申请号：US684894

申请日：1984-12-21

申请人： Albert J. Fusco ,  Bruce C. Cochran

发明人： Albert J. Fusco ,  Bruce C. Cochran

IPC分类号： B24B37/00 ,  H01L21/461 ,  H01L29/221 ,  H01L21/306 ,  B44C1/22 ,  C03C15/00 ,  C23F1/00

CPC分类号： H01L21/461 ,  H01L29/221

摘要： A method for chemically-mechanically polishing detector material such as mercury cadmium telluride (HgCdTe) to obtain damage free surfaces. The polishing system includes a potassium-iodine iodide in a deionized water base, in combination with an inert lubricant, such as ethylene glycol, and a semisoft porous polishing pad made from, for example, an expanded polyurethane material.

摘要翻译： 一种化学机械抛光检测器材料如汞镉镉（HgCdTe）的方法，以获得无损伤表面。 抛光系统包括去离子水基中的碘化碘化钾，与惰性润滑剂如乙二醇组合，以及由例如发泡聚氨酯材料制成的半柔性多孔抛光垫。