公开(公告)号：US20060023174A1

公开(公告)日：2006-02-02

申请号：US11140933

申请日：2005-06-01

申请人： Yi-Hao Kang ,  Chu-Ming Cheng ,  Wan-Chiang Wang ,  Che-Shine Tsai ,  Jyh-Horng Shyu

发明人： Yi-Hao Kang ,  Chu-Ming Cheng ,  Wan-Chiang Wang ,  Che-Shine Tsai ,  Jyh-Horng Shyu

IPC分类号： G03B21/00

CPC分类号： G03B21/2046 ,  G03B9/06 ,  H04N5/57 ,  H04N5/7441 ,  H04N9/3114

摘要： A projector apparatus includes: a light source, a digital micromirror device for modulating the light beams emitted from the light source into photo signals, an illuminating lens unit for guiding the light beams emitted from the light source towards the digital micromirror device, and an imaging lens unit for guiding and projecting the photo signals generated by the digital micromirror device. into an image. An aperture-controllable diaphragm is disposed in the apparatus, and defines an aperture. The diaphragm includes at least one adjustable blade for altering dimension of the aperture so as to adjust the brightness and contrast of the image.

摘要翻译： 投影仪装置包括：光源，用于将从光源发射的光束调制为光信号的数字微镜装置，用于将从光源发射的光束朝向数字微镜装置引导的照明透镜单元，以及成像 透镜单元，用于引导和投影由数字微镜装置产生的光信号。 成为一个形象。 孔径可控隔膜设置在设备中，并且限定孔。 隔膜包括至少一个可调节的刀片，用于改变孔的尺寸，以便调节图像的亮度和对比度。

公开(公告)号：US20050270626A1

公开(公告)日：2005-12-08

申请号：US11124227

申请日：2005-05-09

申请人： Wan-Chiang Wang ,  Che-Shine Tsai ,  Hao-Wei Pan

发明人： Wan-Chiang Wang ,  Che-Shine Tsai ,  Hao-Wei Pan

IPC分类号： G02B26/00 ,  G03B21/20 ,  G03B21/28 ,  H04N5/74

CPC分类号： H04N5/74 ,  G03B21/008 ,  G03B21/20

摘要： A projector apparatus includes a light source for producing light beams, a micromirror device including an array of micromirrors for modulating and reflecting the light beams into image light beams, and a projection lens unit for magnifying and projecting the image light beams. The projection lens unit includes an optical lens disposed adjacent to the micromirror device, and a light shielding plate mounted on the optical lens or between the micromirror device and the optical lens for covering bias light so as to prevent formation of a ghost image in the projected image.

摘要翻译： 投影仪装置包括用于产生光束的光源，包括用于将光束调制和反射成图像光束的微镜阵列的微反射镜装置，以及用于放大和投影图像光束的投影透镜单元。 投影透镜单元包括邻近微反射镜装置设置的光学透镜，以及安装在光学透镜上或微镜装置与光学透镜之间的遮光板，用于遮盖偏光，以防止在投影中形成重影图像 图片。

公开(公告)号：US07760437B2

公开(公告)日：2010-07-20

申请号：US11124227

申请日：2005-05-09

申请人： Wan-Chiang Wang ,  Che-Shine Tsai ,  Hao-Wei Pan

发明人： Wan-Chiang Wang ,  Che-Shine Tsai ,  Hao-Wei Pan

IPC分类号： G02B9/00

CPC分类号： H04N5/74 ,  G03B21/008 ,  G03B21/20

摘要： A projector apparatus includes a light source for producing light beams, a micromirror device including an array of micromirrors for modulating and reflecting the light beams into image light beams, and a projection lens unit for magnifying and projecting the image light beams. The projection lens unit includes an optical lens disposed adjacent to the micromirror device, and a light shielding plate mounted on the optical lens or between the micromirror device and the optical lens for covering bias light so as to prevent formation of a ghost image in the projected image.

摘要翻译： 投影仪装置包括用于产生光束的光源，包括用于将光束调制和反射成图像光束的微镜阵列的微反射镜装置，以及用于放大和投影图像光束的投影透镜单元。 投影透镜单元包括邻近微反射镜装置设置的光学透镜，以及安装在光学透镜上或微镜装置与光学透镜之间的遮光板，用于遮盖偏光，以防止在投影中形成重影图像 图片。