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    METHOD AND SYSTEM FOR PROVIDING A QUALITY METRIC FOR IMPROVED PROCESS CONTROL
    1.
    发明申请
    METHOD AND SYSTEM FOR PROVIDING A QUALITY METRIC FOR IMPROVED PROCESS CONTROL 审中-公开
    提供改进过程控制质量标准的方法和系统

    公开(公告)号：US20130035888A1

    公开(公告)日：2013-02-07

    申请号：US13508495

    申请日：2012-04-04

    申请人： Daniel Kandel ,  Guy Cohen ,  Dana Klein ,  Vladimir Levinski ,  Noam Sapiens ,  Alex Shulman ,  Vladimir Kamenetsky ,  Eran Amit ,  Irina Vakshtein

    发明人： Daniel Kandel ,  Guy Cohen ,  Dana Klein ,  Vladimir Levinski ,  Noam Sapiens ,  Alex Shulman ,  Vladimir Kamenetsky ,  Eran Amit ,  Irina Vakshtein

    IPC分类号： G01N37/00 ,  G06F19/00

    摘要： The present invention may include acquiring a plurality of overlay metrology measurement signals from a plurality of metrology targets distributed across one or more fields of a wafer of a lot of wafers, determining a plurality of overlay estimates for each of the plurality of overlay metrology measurement signals using a plurality of overlay algorithms, generating a plurality of overlay estimate distributions, and generating a first plurality of quality metrics utilizing the generated plurality of overlay estimate distributions, wherein each quality metric corresponds with one overlay estimate distribution of the generated plurality of overlay estimate distributions, each quality metric a function of a width of a corresponding generated overlay estimate distribution, each quality metric further being a function of asymmetry present in an overlay metrology measurement signal from an associated metrology target.

    摘要翻译： 本发明可以包括从分布在许多晶片的晶片的一个或多个场上的多个测量目标获取多个覆盖度量测量信号，为多个覆盖度量测量信号中的每一个确定多个重叠估计 使用多个覆盖算法，生成多个覆盖估计分布，以及利用所生成的多个覆盖估计分布来生成第一多个质量度量，其中每个质量度量对应于所生成的多个覆盖估计分布的一个覆盖估计分布 每个质量度量是对应的生成的重叠估计分布的宽度的函数，每个质量度量还是来自相关度量目标的覆盖度量测量信号中存在的不对称的函数。