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公开(公告)号：US20120111832A1
公开(公告)日：2012-05-10
申请号：US13352824
申请日：2012-01-18
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/26
摘要： Methods for forming an imprint lithography template are provided. Materials for forming the imprint lithography template may be etched at different rates based on physical properties of the layers. Additionally, reflectance of the materials may be monitored to provide substantially uniform erosion of the materials.
摘要翻译： 提供了形成压印光刻模板的方法。 可以基于层的物理性质以不同的速率蚀刻用于形成压印光刻模板的材料。 此外，可以监测材料的反射率以提供材料的基本均匀的侵蚀。
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公开(公告)号：US20090200266A1
公开(公告)日：2009-08-13
申请号：US12367661
申请日：2009-02-09
IPC分类号： G01L21/30
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/26
摘要： Materials for forming an imprint lithography template may be etched at different rates based on physical properties of the layers. Additionally, reflectance of the materials may be monitored to provide substantially uniform erosion of the materials.
摘要翻译： 可以基于层的物理性质以不同的速率蚀刻用于形成压印光刻模板的材料。 此外，可以监测材料的反射率以提供材料的基本均匀的侵蚀。
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公开(公告)号：US08512585B2
公开(公告)日：2013-08-20
申请号：US13352824
申请日：2012-01-18
IPC分类号： C23F1/00
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/26
摘要： Methods for forming an imprint lithography template are provided. Materials for forming the imprint lithography template may be etched at different rates based on physical properties of the layers. Additionally, reflectance of the materials may be monitored to provide substantially uniform erosion of the materials.
摘要翻译： 提供了形成压印光刻模板的方法。 可以基于层的物理性质以不同的速率蚀刻用于形成压印光刻模板的材料。 此外，可以监测材料的反射率以提供材料的基本均匀的侵蚀。
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